一种新型镭射模组的制作方法

文档序号:15370747发布日期:2018-09-07 22:52阅读:310来源:国知局

本实用新型涉及镭射设备技术领域,具体为一种新型镭射模组。



背景技术:

激光的理论基础起源于大物理学家‘爱因斯坦’,1917年爱因斯坦提出了一套全新的技术理论‘光与物质相互作用’。这一理论是说在组成物质的原子中,有不同数量的粒子分布在不同的能级上,在高能级上的粒子受到某种光子的激发,会从高能级跳到到低能级上。

传统的镭射模组内部结构复杂,生产时容易产生误差,导致镭射时光束不在同一水平面,废品率高,制造成本高,耐腐蚀程度低,不方便内部检修,为此我们提出一种新型镭射模组来解决以上存在的问题。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种新型镭射模组,以解决上述背景技术中提出的传统的镭射模组内部结构复杂,生产时容易产生误差,导致镭射时光束不在同一水平面,废品率高,制造成本高,耐腐蚀程度低,不方便内部检修的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种新型镭射模组,包括第一支架,所述第一支架上安装有第二支架,所述第二支架的内部与第一支架衔接处设置有导光锥,所述导光锥的下方设置有PET基膜,所述PET基膜的下方设置有压板镭射层,所述压板镭射层的下方设置有镭射结合涂层,所述镭射结合涂层的下方设置有蒸镀银层,所述第二支架的一侧设置有第一热缩套管,所述第一热缩套管的内部设置有连接线,所述连接线的另一端设置有插座。

优选的,所述插座的内部为两口过方插。

优选的,所述第二支架与第一支架通过对位双层插槽组合连接。

优选的,所述连接线上靠近插座的一端嵌套有第二热缩套管。

优选的,所述对位双层插槽为双层环形中空结构。

优选的,所述压板镭射层、镭射结合涂层和蒸镀银层之间通过胶体粘合连接。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型结构科学合理,操作简单方便,本实用新型设计了一种整体结构紧凑,生产成本低,镭射精度高的新型镭射模组,本实用新型中第二支架与第一支架通过对位双层插槽固定组合,方便拆卸和组装对内部部件进行检修和维护处理,方便快捷,第二支架的内部将压板镭射层和蒸镀银层结合形成具有镭射效果的镭射光膜,相对于现有的以铝基板的镭射膜,具备高结合度,耐化学腐蚀的特点,通过导光锥的设置,使镭射光线照射到导光锥即可产生一水平面,提高投射精准度。

附图说明

图1为本实用新型的主视图结构示意图;

图2为本实用新型的侧视图;

图3为本实用新型的第一支架的结构示意图。

图中:1-第二支架;2-镭射口;3-第一热缩套管;4-连接线;5-第二热缩套管;6-插座;7-第一支架;8-导光锥;9-压板镭射层;10-蒸镀银层;11-对位双层插槽;12-镭射结合涂层;13-PET基膜。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1、图2和图3,本实用新型提供的一种实施例:一种新型镭射模组,包括第一支架7,第一支架7上安装有第二支架1,将第二支架1与第一支架7通过对位双层插槽11组合,第二支架1的内部与第一支架7衔接处设置有导光锥8,导光锥8的下方设置有PET基膜13,PET基膜13的下方设置有压板镭射层9,压板镭射层9的下方设置有镭射结合涂层12,镭射结合涂层12的下方设置有蒸镀银层10,第二支架1的一侧设置有第一热缩套管3,第一热缩套管3的内部设置有连接线4,连接线4的另一端设置有插座6,将插座6连接电源,此时镭射装置启动,镭射光线通过导光锥3投射出。

插座6的内部为两口过方插,第二支架1与第一支架7通过对位双层插槽11组合连接,连接线4上靠近插座6的一端嵌套有第二热缩套管5,对位双层插槽11为双层环形中空结构,压板镭射层9、镭射结合涂层12和蒸镀银层10之间通过胶体粘合连接。

具体使用方式:该新型镭射模组按正常程序安装好过后,首先将第二支架1与第一支架7通过对位双层插槽11组合,第一热缩套管3和第二热缩套管5均能够起到加固和抗高温作用,将插座6连接电源,此时镭射装置启动,镭射光线通过导光锥3投射出,使镭射光线照射到PET基膜即可产生一水平面,提高投射精准度,压板镭射层9和蒸镀银层10结合形成具有镭射效果的镭射光膜,相对于现有的以铝基板的镭射膜,具备高结合度,耐化学腐蚀的特点。

对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

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