钼的蒸镀盖的制作方法

文档序号:3301558阅读:267来源:国知局
钼的蒸镀盖的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种钼的蒸镀盖,蒸镀盖镀膜材料采用钼镀膜,具体是采用长60mm,宽42mm的钼膜片,钼膜片的厚度为3mm,钼膜片上设置有135个小孔,小孔的直径为2mm,其中每两个小孔的横向距离为4mm,竖向距离为4mm,钼镀膜横向两端各设置有突起,突起的高度都为3mm。
【专利说明】钼的蒸镀盖

【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及一种形成薄膜的设备,尤其是涉及蒸镀设备。

【背景技术】
[0002] 蒸镀对镀膜材料加热使其气化沉积在基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺 过程。在真空环境中,将材料加热并镀到基片上称为真空蒸镀,或叫真空镀膜。蒸镀是将 待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华,使之在工件或基片表面析出的过程。金属加热 至蒸发温度。然后蒸汽从真空室转移,在低温零件上凝结。该工艺在真空中进行,金属蒸汽 到达表面不会氧化。在对树脂实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂 变形,有必须对蒸镀时间进行调整。此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。
[0003] -般的蒸镀材料经受不住高温、磨损、腐蚀环境的影响,这样会大大缩短其使用寿 命。


【发明内容】

[0004] 本实用新型提供了一种钥的蒸镀盖。
[0005] 本实用新型是这样实现的:蒸镀盖镀膜材料采用钥镀膜,具体是采用长60mm,宽 42mm的钥膜片,钥膜片的厚度为3mm,钥膜片上设置有135个小孔,小孔的直径为2mm,其中 每两个相邻小孔的横向距离为4mm,坚向距离为4mm,钥镀膜横向两端各设置有突起,突起 的高度都为3_。本实用新型通过实验检测,采用该具有两端突起结构钥镀膜,可以经受高 温、磨损、腐蚀环境的影响,延长了蒸镀盖得使用寿命。

【专利附图】

【附图说明】
[0006] 图1 :钥的蒸镀盖结构图。

【具体实施方式】
[0007] 蒸镀盖镀膜材料采用钥镀膜,具体是采用长60mm,宽42mm的钥膜片(1 ),钥膜片的 厚度为3mm,钥膜片上打有135个小孔(2),小孔的直径为2mm,其中每两个小孔的横向距离 为4mm,坚向距离为4mm,钥镀膜横向两端各设置有突起(3),突起的高度都为3mm。
【权利要求】
1. 一种钥的蒸镀盖,其特征在于,所述蒸镀盖镀膜材料采用钥镀膜,具体是采用长 60mm,宽42mm的钥膜片,钥膜片的厚度为3mm,钥膜片上设置有135个小孔,小孔的直径为 2mm,其中每两个相邻小孔的横向距离为4mm,坚向距离为4mm,钥镀膜横向两端各设置有突 起,突起的高度都为3mm。
【文档编号】C23C14/14GK203846095SQ201320495105
【公开日】2014年9月24日 申请日期:2013年8月14日 优先权日:2013年8月14日
【发明者】戚成伟 申请人:陕西华创稀有金属科技有限公司
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