本发明涉及一种泵座壳模脱蜡焙烧工艺。
背景技术:
精密铸造,指的是获得精准尺寸铸件工艺的总称。相对于传统砂型铸造工艺,精密铸造获的铸件尺寸更加精准,表面光洁度更好。它包括:熔模铸造、陶瓷型铸造、金属型铸造、压力铸造、消失模铸造。其中较为常用的是熔模铸造,也称失蜡铸造:选用适宜的蜡模材料,例如石蜡制造熔模;在熔模上重复沾耐火涂料与撒耐火砂工序,硬化型壳及干燥;再将内部的熔模溶化掉,获得型腔;焙烧型壳以获得足够的强度,及烧掉残余的熔模材料;浇注所需要的金属材料;凝固冷却,脱壳后清砂,从而获得高精度的成品;根据产品需要或进行热处理与冷加工和表面处理。其中再将内部的熔模溶化掉,获得型腔,称为脱蜡工艺,现有的脱蜡工艺中容易在壳模中遗留蜡液,导致铸件砂眼多,铸件精度下降,具有很大的局限性。
技术实现要素:
鉴于现有技术的不足,本发明所要解决的技术问题是提供一种泵座壳模脱蜡焙烧工艺,不仅结构设计合理,而且高效便捷。
为了解决上述技术问题,本发明的技术方案是:一种泵座壳模脱蜡焙烧工艺,包括以下步骤:
(1)一次烧壳:将泵座壳模放入焙烧炉内进行第一次焙烧;
(2)水洗壳模:在泵座壳模冷却后,对泵座壳模进行水洗;
(3)二次烧壳:将泵座壳模放入焙烧炉内继续进行第二次焙烧。
进一步的,在步骤(1)中,第一次焙烧的温度为800℃~900℃,第一次焙烧的保温时间为20min~30min。
进一步的,在步骤(2)中,当泵座壳模冷却到室温后,对泵座壳模进行第一次清洗,第一次清洗时,先在泵座壳模内灌入至泵座壳模高度1/2~3/4的水,顺时针转动泵座壳模1~3次后,将泵座壳模上的浇口杯的杯口垂直地面朝下倒干泵座壳模内的水,清洗继续对泵座壳模进行第二次清洗;第二次清洗时,再在泵座壳模内灌满整个泵座壳模的水,顺时针转动泵座壳模1~3次后,将泵座壳模上的浇口杯的杯口垂直地面朝下倒干泵座壳模内的水。
进一步的,在步骤(2)中,在焙烧炉炉内自泵座壳模冷却到室温后进行第一次清洗,或者在焙烧炉炉外自泵座壳模冷却到室温后进行第一次清洗。
进一步的,在步骤(3)中,第二次焙烧的温度为1060℃~1140℃,第二次焙烧的保温时间为80min~120min。
与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:本发明不仅工艺简单、操作简单,而且可以清除脱蜡步骤后的泵座壳模内残留的蜡液,减少铸件砂眼,提高产品精度,具有广阔的应用前景。
下面结合附图和具体实施方式对本发明做进一步详细的说明。
附图说明
图1为本发明实施例的工艺流程示意图。
具体实施方式
为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例,并配合附图,作详细说明如下。
如图1所示,一种泵座壳模脱蜡焙烧工艺,包括以下步骤:
(1)一次烧壳:将泵座壳模放入焙烧炉内进行第一次焙烧;
(2)水洗壳模:在泵座壳模冷却后,对泵座壳模进行水洗;
(3)二次烧壳:将泵座壳模放入焙烧炉内继续进行第二次焙烧。
在本发明实施例中,在步骤(1)中,第一次焙烧的温度为800℃~900℃,第一次焙烧的保温时间为20min~30min。
在本发明实施例中,在步骤(2)中,当泵座壳模冷却到室温后,对泵座壳模进行第一次清洗,第一次清洗时,先在泵座壳模内灌入至泵座壳模高度1/2~3/4的水,顺时针转动泵座壳模1~3次后,将泵座壳模上的浇口杯的杯口垂直地面朝下倒干泵座壳模内的水,清洗继续对泵座壳模进行第二次清洗;第二次清洗时,再在泵座壳模内灌满整个泵座壳模的水,顺时针转动泵座壳模1~3次后,将泵座壳模上的浇口杯的杯口垂直地面朝下倒干泵座壳模内的水;从而清洗出在脱蜡工艺中残留在泵座壳模内的蜡液;优选的,清洗的水的温度为与室温接近。
在本发明实施例中,在步骤(2)中,在焙烧炉炉内自泵座壳模冷却到室温后进行第一次清洗,或者在焙烧炉炉外自泵座壳模冷却到室温后进行第一次清洗。
在本发明实施例中,在步骤(3)中,第二次焙烧的温度为1060℃~1140℃,第二次焙烧的保温时间为80min~120min。
本发明实施例中,在步骤(1)之前,进行脱蜡工艺,将泵座壳模的浇口杯的杯口朝下送入7kg/cm²~7.5kg/cm²压力的脱蜡釜,在脱蜡釜内经过14~20min的脱蜡,脱蜡前泵座壳模保持恒温,脱蜡釜快速升压,14s前达到压力5.5kg/cm²~6.5kg/cm²,缓慢降压,降压时间大于1.5min;将完成脱蜡工艺后的泵座壳模竖直放置于焙烧炉内,进行步骤(1)~步骤(3)的操作。
本发明实施例中,完成步骤(1)~步骤(3)后进行浇注工艺。
上述本发明公开的任一技术方案中所应用的用于表示位置关系或形状的术语除另有声明外其含义包括与其近似、类似或接近的状态或形状。
本发明提供的任一部件既可以是由多个单独的组成部分组装而成,也可以为一体成形工艺制造出来的单独部件。
以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对其限制;尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细的说明,所属领域的普通技术人员应当理解:依然可以对本发明的具体实施方式进行修改或者对部分技术特征进行等同替换;而不脱离本发明技术方案的精神,其均应涵盖在本发明请求保护的技术方案范围当中。