大单轴磨抛机摆幅机构的制作方法

文档序号:21390344发布日期:2020-07-07 14:22阅读:169来源:国知局
大单轴磨抛机摆幅机构的制作方法

技术领域:

本实用新型属于研磨抛光机生产技术领域,特别涉及一种大单轴磨抛机摆幅机构。



背景技术:

研磨抛光机中的顶针的运动轨迹一般都是设定好的,不可更改的。在平面、球面镜以及高精度金属或非金属模具的研磨抛光中,为了使研磨的产品光圈质量更好,需要对顶针的运动轨迹进行修改,如何使顶针在工作中根据需要变更运动轨迹,是人们急需解决的问题。

公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本实用新型的总体背景的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种大单轴磨抛机摆幅机构,从而克服上述现有技术中的缺陷。

为实现上述目的,本实用新型提供了一种大单轴磨抛机摆幅机构,包括:主摆杆、气缸、顶针、主摆轴、摆轴座、万向节、副摆杆、摆杆座、手轮、丝杆、螺柱;所述主摆杆末端设置有顶针,所述主摆杆通过万向节与副摆杆连接;所述主摆杆与主摆轴连接,主摆轴设置在摆轴座上,所述摆轴座上设置有气缸,气缸输出端与主摆杆连接;所述副摆杆设置在摆杆座上,所述副摆杆与螺柱相接触,螺柱与丝杆螺纹连接,丝杆末端套装有手轮;转动手轮,通过丝杆螺柱传动带动副摆杆位移,通过万向节传动带动主摆杆以主摆轴为中心摆动,进而改变顶针的运动轨迹。

与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:

通过主、副摆轴间的传动,可以方便快捷地改变顶针的位置,从而改变顶针的运动轨迹,使顶针的运动轨迹达到设计要求,研磨出光圈质量更好的产品。

附图说明:

图1为本实用新型大单轴磨抛机摆幅机构主视图;

图2为本实用新型大单轴磨抛机摆幅机构俯视图;

附图标记为:1-主摆杆、2-气缸、3-顶针、4-主摆轴、5-摆轴座、6-万向节、7-副摆杆、8-摆杆座、9-手轮、10-丝杆、11-螺柱。

具体实施方式:

下面对本实用新型的具体实施方式进行详细描述,但应当理解本实用新型的保护范围并不受具体实施方式的限制。

除非另有其它明确表示,否则在整个说明书和权利要求书中,术语“包括”或其变换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分,而并未排除其它元件或其它组成部分。

实施例1

如图1-2所示,一种大单轴磨抛机摆幅机构,包括主摆杆1、气缸2、顶针3、主摆轴4、摆轴座5、万向节6、副摆杆7、摆杆座8、手轮9、丝杆10、螺柱11;所述主摆杆1末端设置有顶针3,所述主摆杆1通过万向节6与副摆杆7连接;所述主摆杆1与主摆轴4连接,主摆轴4设置在摆轴座5上,所述摆轴座5上设置有气缸2,气缸2输出端与主摆杆1连接;所述副摆杆7设置在摆杆座8上,所述副摆杆7与螺柱11相接触,螺柱11与丝杆10相配合,丝杆10末端套装有手轮9;转动手轮9,带动丝杆10转动,丝杆10与螺柱11螺纹连接,丝杆10转动时螺柱11进行位移,螺柱11顶住副摆杆7并带动副摆杆7位移,通过万向节6传动带动主摆杆1以主摆轴4为中心摆动,进而改变顶针3的运动轨迹。

通过主、副摆轴间的传动,可以方便快捷地改变顶针的位置,从而改变顶针的运动轨迹,使顶针的运动轨迹达到设计要求,研磨出光圈质量更好的产品。

前述对本实用新型的具体示例性实施方案的描述是为了说明和例证的目的。这些描述并非想将本实用新型限定为所公开的精确形式,并且很显然,根据上述教导,可以进行很多改变和变化。对示例性实施例进行选择和描述的目的在于解释本实用新型的特定原理及其实际应用,从而使得本领域的技术人员能够实现并利用本实用新型的各种不同的示例性实施方案以及各种不同的选择和改变。本实用新型的范围意在由权利要求书及其等同形式所限定。



技术特征:

1.一种大单轴磨抛机摆幅机构,其特征在于:包括主摆杆、气缸、顶针、主摆轴、摆轴座、万向节、副摆杆、摆杆座、手轮、丝杆、螺柱;所述主摆杆末端设置有顶针,所述主摆杆通过万向节与副摆杆连接;所述主摆杆与主摆轴连接,主摆轴设置在摆轴座上,所述摆轴座上设置有气缸,气缸输出端与主摆杆连接;所述副摆杆设置在摆杆座上,所述副摆杆与螺柱相接触,螺柱与丝杆螺纹连接,丝杆末端套装有手轮。


技术总结
本实用新型公开了一种大单轴磨抛机摆幅机构。所述主摆杆、气缸、顶针、主摆轴、摆轴座、万向节、副摆杆、摆杆座、手轮、丝杆、螺柱;所述主摆杆末端设置有顶针,所述主摆杆通过万向节与副摆杆连接;所述主摆杆与主摆轴连接,主摆轴设置在摆轴座上,所述摆轴座上设置有气缸,气缸输出端与主摆杆连接;所述副摆杆设置在摆杆座上,所述副摆杆与螺柱相接触,螺柱与丝杆螺纹连接,丝杆末端套装有手轮。通过主、副摆轴间的传动,可以方便快捷地改变顶针的位置,从而改变顶针的运动轨迹,使顶针的运动轨迹达到设计要求,研磨出光圈质量更好的产品。

技术研发人员:张习兵;邹德明
受保护的技术使用者:无锡市锡斌光电设备有限公司
技术研发日:2019.09.18
技术公布日:2020.07.07
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