一种PI蚀刻液电解再生系统的制作方法

本实用新型涉及一种pi蚀刻液电解再生系统，属于蚀刻液电解技术领域。

背景技术：

随着电子设备的小型化，线路板的尺寸也越来越小，线路越来越细。线路越细，铜线路与pi基底的接触面积越小，结合力越低，线路容易剥离，导致电气性能失效。为了提高铜线路与pi基底的结合力，基材厂商开发出新型结构的铜箔基材，包含pi层、ni-cr种子层、铜箔层。首先通过溅射工艺，将高能量ni-cr金属离子直接轰击在pi上，金属离子嵌入pi表层纳米级深度，提供导电层，然后在ni-cr种子层上电镀铜。此方法得到的基材铜的结合力大大提升，但是在通过溅射工艺将ni-cr金属离子轰击在pi上时，会有少量ni-cr金属粒子轰击嵌入到pi层内部。

采用上述基材制作线路时，一般先进行常规蚀刻，将表层的铜蚀刻成需要的线路，此时底部还有ni-cr种子层将所有线路短路。再通过种子层蚀刻药水将线间部分的ni-cr金属层蚀刻掉，此方法只能蚀刻掉pi表层的ni-cr金属层，嵌入pi内部的少量ni-cr无法完全去除，会造成线路微短路。为了提高线路间的绝缘性，需将线间部分嵌入pi的ni-cr金属全部去除。使用碱性高猛酸钠蚀刻液可对线间裸露的pi树脂进行分解蚀刻，控制pi的蚀刻量，去掉非常薄的一层pi，线间部分嵌入pi内的ni-cr金属粒子即可去除。

常规方法中，药液中的主成分高锰酸钠会不断消耗，浓度不断降低，浓度降低到一定程度时，需要补充或更换新药液，药液成本高。此外，高锰酸钠还会发生自分解反应，加速高锰酸钠的消耗，缩减药液寿命。废液中含有强氧化的高锰酸根离子和锰酸根离子，环境污染性强，处理困难，需要委托有资质的专业机构进行处理，处理成本高。

技术实现要素：

为了克服上述现有技术的不足之处，本实用新型提供一种pi蚀刻液电解再生系统，将无用的锰酸根离子再生为有用的高锰酸根离子，提高药液使用寿命，减少废液排放。

本实用新型是通过如下技术方案实现的：一种pi蚀刻液电解再生系统，其特征在于：包括pi蚀刻液储槽、泵、过滤器和电解再生装置，所述的过滤器设置在pi蚀刻液储槽底部循环pi蚀刻液储槽内的pi蚀刻液，所述的电解再生装置设置在pi蚀刻液储槽的一侧，电解再生装置与pi蚀刻液储槽相通，pi蚀刻液储槽内的pi蚀刻液从pi蚀刻液储槽的槽体底部通过泵抽至电解再生装置内，电解再生装置电解再生后将pi蚀刻液再抽回pi蚀刻液储槽。

所述的电解再生装置包括阳极、阴极和排气管，阳极连接电源正极，阴极连接电源负极，排气管设置在电解再生装置的顶部，排气管连接至废气处理装置。

所述的阳极发生的阳极反应为mno4^2--e^-→mno4^-，阴极发生阴极反应为2h2o+2e^-→2oh^-+h2，锰酸根离子在阳极被再生为高锰酸根离子。

所述的pi蚀刻液储槽底部的过滤器连接有循环泵增加pi蚀刻液的流动。

所述的电解再生装置能直接安装在pi蚀刻液储槽内，电解再生装置的阳极和阴极直接与pi蚀刻液发生反应。

本实用新型的有益效果是：本实用新型通过电解再生装置，提高药液中高锰酸根离子浓度，延长药液寿命，节省药水成本；减少药液使用，将产生的无用成分回收利用，减少废液产生，减少环境污染，降低废水处理成本。

附图说明

下面根据附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的结构原理示意图。

图中：1、pi蚀刻液储槽；2、泵；3、过滤器；4、电解再生装置；5、pi蚀刻液；6、阳极；7、阴极；8、排气管；9、电源正极；10、电源负极。

具体实施方式

如图1所示的一种pi蚀刻液电解再生系统，其特征在于：包括pi蚀刻液储槽1、泵2、过滤器3和电解再生装置4，所述的过滤器3设置在pi蚀刻液储槽1底部循环pi蚀刻液储槽1内的pi蚀刻液5，所述的电解再生装置4设置在pi蚀刻液储槽1的一侧，电解再生装置4与pi蚀刻液储槽1相通，pi蚀刻液储槽1内的pi蚀刻液5从pi蚀刻液储槽1的槽体底部通过泵2抽至电解再生装置4内，电解再生装置4电解再生后将pi蚀刻液5再抽回pi蚀刻液储槽1。

所述的电解再生装置4包括阳极6、阴极7和排气管8，阳极6连接电源正极9，阴极7连接电源负极10，排气管8设置在电解再生装置4的顶部，排气管8连接至废气处理装置。

所述的阳极6发生的阳极反应为mno4^2--e^-→mno4^-，阴极7发生阴极反应为2h2o+2e^-→2oh^-+h2，锰酸根离子在阳极被再生为高锰酸根离子。

所述的pi蚀刻液储槽1底部的过滤器3连接有循环泵增加pi蚀刻液5的流动，与槽内pi蚀刻液5一起循环，增加pi蚀刻液5的均匀性。

阴极电解产生的氢气属于易燃易爆气体，但是产生的量较少，可以通过顶部排气管10单独引至楼顶加阻火器直接排放掉。

所述的电解再生装置4能直接安装在pi蚀刻液储槽1内，电解再生装置4的阳极6和阴极7直接与pi蚀刻液5发生反应。

技术特征：

1.一种pi蚀刻液电解再生系统，其特征在于：包括pi蚀刻液储槽（1）、泵（2）、过滤器（3）和电解再生装置（4），所述的过滤器（3）设置在pi蚀刻液储槽（1）底部循环pi蚀刻液储槽（1）内的pi蚀刻液（5），所述的电解再生装置（4）设置在pi蚀刻液储槽（1）的一侧，电解再生装置（4）与pi蚀刻液储槽（1）相通，pi蚀刻液储槽（1）内的pi蚀刻液（5）从pi蚀刻液储槽（1）的槽体底部通过泵（2）抽至电解再生装置（4）内，电解再生装置（4）电解再生后将pi蚀刻液（5）再抽回pi蚀刻液储槽（1）。

2.根据权利要求1所述的一种pi蚀刻液电解再生系统，其特征在于：所述的电解再生装置（4）包括阳极（6）、阴极（7）和排气管（8），阳极（6）连接电源正极（9），阴极（7）连接电源负极（10），排气管（8）设置在电解再生装置（4）的顶部，排气管（8）连接至废气处理装置。

3.根据权利要求1所述的一种pi蚀刻液电解再生系统，其特征在于：所述的pi蚀刻液储槽（1）底部的过滤器（3）连接有循环泵增加pi蚀刻液（5）的流动。

4.根据权利要求1所述的一种pi蚀刻液电解再生系统，其特征在于：所述的电解再生装置（4）直接安装在pi蚀刻液储槽（1）内，电解再生装置（4）的阳极（6）和阴极（7）直接与pi蚀刻液（5）发生反应。

技术总结
本实用新型涉及一种PI蚀刻液电解再生系统，属于蚀刻液电解技术领域。包括PI蚀刻液储槽、泵、过滤器和电解再生装置，所述的过滤器设置在PI蚀刻液储槽底部循环PI蚀刻液储槽内的PI蚀刻液，所述的电解再生装置设置在PI蚀刻液储槽的一侧，电解再生装置与PI蚀刻液储槽相通，PI蚀刻液储槽内的PI蚀刻液从PI蚀刻液储槽的槽体底部通过泵抽至电解再生装置内，电解再生装置电解再生后将PI蚀刻液再抽回PI蚀刻液储槽。本实用新型的有益效果是：本实用新型通过电解再生装置，提高药液中高锰酸根离子浓度，延长药液寿命，节省药水成本；减少药液使用，将产生的无用成分回收利用，减少废液产生，减少环境污染，降低废水处理成本。

技术研发人员：方磊;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华
受保护的技术使用者：上达电子(深圳)股份有限公司
技术研发日：2020.11.23
技术公布日：2021.07.20