新型高溅射率磁控旋转圆柱靶的制作方法

1.本实用新型涉及磁控旋转圆柱靶技术领域，具体为新型高溅射率磁控旋转圆柱靶。


背景技术：

2.磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
3.但是，现有的磁控旋转圆柱靶的溅射性能还不够稳定，溅射效率不够高；因此，不满足现有的需求，对此我们提出了新型高溅射率磁控旋转圆柱靶。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，以解决上述背景技术中提出的现有的磁控旋转圆柱靶的溅射性能还不够稳定，溅射效率不够高的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，包括旋转圆柱靶，所述旋转圆柱靶的一端安装有侧边固定块，所述旋转圆柱靶的另一侧安装有连接传动套，所述连接传动套的另一侧安装有固定限位板，所述固定限位板的另一侧安装有固定腔体套，所述固定腔体套的另一侧安装有传动陶瓷轴承，所述传动陶瓷轴承的另一侧安装有部件安装架，所述部件安装架另一侧的上方安装有伺服电机，所述伺服电机的下方安装有电器工作箱，所述部件安装架的另一端设置有连接固定套，所述连接固定套的内侧安装有内部固定片。
6.优选的，所述固定腔体套和固定限位板通过螺栓连接，所述伺服电机和电器工作箱与部件安装架均通过螺栓连接。
7.优选的，所述旋转圆柱靶的长度设置为一千三百三十毫米。
8.优选的，所述电器工作箱一端的下方安装有传动安装块，所述传动安装块的中间位置处安装有传动固定轴。
9.优选的，所述电器工作箱一端的上方安装有电机安装块，所述电机安装块的中间位置处设置有传动固定槽。
10.优选的，所述连接固定套上设置有固定安装孔，固定安装孔设置有若干个，且若干个固定安装孔依次分布，所述内部固定片的外侧设置有固定垫圈。
11.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
12.1、本实用新型通过采用传动陶瓷轴承，绝缘性能强虽，使得靶使用更安全，将靶材设置为特定长度，能够提升喷射性能效率更高，采用伺服电机，精准控制靶旋转速度及圈数，能较好的配合产品溅射，且溅射效率提高，解决了现有的磁控旋转圆柱靶的溅射性能还
不够稳定，溅射效率不够高的问题；
13.2、本实用新型通过在部件安装架的一侧设置传动安装块和电机安装块，能够使得部件安装的稳定性能得到一定程度的保障，同时设置有传动固定槽和传动固定轴能够使得传动部件的安装性能更加简单全面，后期的转动工作性能更加稳定。
附图说明
14.图1为本实用新型新型高溅射率磁控旋转圆柱靶的主视图；
15.图2为本实用新型部件安装架的侧视图；
16.图3为本实用新型部件安装架的结构示意图。
17.图中：1、旋转圆柱靶；2、侧边固定块；3、连接传动套；4、固定限位板；5、固定腔体套；6、传动陶瓷轴承；7、部件安装架；8、伺服电机； 9、电器工作箱；10、传动安装块；11、传动固定轴；12、电机安装块； 13、传动固定槽；14、连接固定套；15、内部固定片；16、固定安装孔； 17、固定垫圈。
具体实施方式
18.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
19.请参阅图1
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3，本实用新型提供的一种实施例：新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，包括旋转圆柱靶1，旋转圆柱靶1的一端安装有侧边固定块2，旋转圆柱靶1的另一侧安装有连接传动套3，连接传动套3的另一侧安装有固定限位板4，固定限位板4的另一侧安装有固定腔体套5，固定腔体套5的另一侧安装有传动陶瓷轴承6，传动陶瓷轴承6的另一侧安装有部件安装架7，部件安装架7另一侧的上方安装有伺服电机8，伺服电机8 的下方安装有电器工作箱9，部件安装架7的另一端设置有连接固定套14，连接固定套14的内侧安装有内部固定片15，能够使得部件的结构性能更加简单完善。
20.进一步，固定腔体套5和固定限位板4通过螺栓连接，伺服电机8 和电器工作箱9与部件安装架7均通过螺栓连接，安装拆卸更加简单便捷，使用起来更加简便。
21.进一步，旋转圆柱靶1的长度设置为一千三百三十毫米，可以更好地保障溅射性能。
22.进一步，电器工作箱9一端的下方安装有传动安装块10，传动安装块10的中间位置处安装有传动固定轴11，传动的稳定性更高，灵活性更好。
23.进一步，电器工作箱9一端的上方安装有电机安装块12，电机安装块12的中间位置处设置有传动固定槽13，部件的安装性能更加简单完善，传动部件的安装更加简单。
24.进一步，连接固定套14上设置有固定安装孔16，固定安装孔16设置有若干个，且若干个固定安装孔16依次分布，内部固定片15的外侧设置有固定垫圈17，能够使得组合安装的结构性能得到更好地保障，实用性更高。
25.工作原理：使用时，阴极电压经驱动端通入到旋转圆柱靶1，阳极即真空室节点，形成电场，固定的磁场结构在靶面形成闭合磁路，于是基片与靶材之间形成了正交的电磁场，工作气体ar在阴极靶接负偏压和 5*10
‑
3pa气压条件下发生异常辉光放电，产生高密度等
离子体团，高能离子ar+在抽到电场的作用下加速轰击旋转圆柱靶1表面经过复杂的物理碰撞效应后溅射处靶材原子和二次电子，同时受磁场b约束和延长电子和二次电子的运动轨迹，大大提高了ar气的电离几率ar+持续轰击靶材，溅射处更过多的靶材原子和二次电子，二次电子电离氩气维持辉光放电，随即在产品表面沉积成膜。
26.对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。


技术特征：
1.新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，包括旋转圆柱靶(1)，其特征在于：所述旋转圆柱靶(1)的一端安装有侧边固定块(2)，所述旋转圆柱靶(1)的另一侧安装有连接传动套(3)，所述连接传动套(3)的另一侧安装有固定限位板(4)，所述固定限位板(4)的另一侧安装有固定腔体套(5)，所述固定腔体套(5)的另一侧安装有传动陶瓷轴承(6)，所述传动陶瓷轴承(6)的另一侧安装有部件安装架(7)，所述部件安装架(7)另一侧的上方安装有伺服电机(8)，所述伺服电机(8)的下方安装有电器工作箱(9)，所述部件安装架(7)的另一端设置有连接固定套(14)，所述连接固定套(14)的内侧安装有内部固定片(15)。2.根据权利要求1所述的新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，其特征在于：所述固定腔体套(5)和固定限位板(4)通过螺栓连接，所述伺服电机(8)和电器工作箱(9)与部件安装架(7)均通过螺栓连接。3.根据权利要求1所述的新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，其特征在于：所述旋转圆柱靶(1)的长度设置为一千三百三十毫米。4.根据权利要求1所述的新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，其特征在于：所述电器工作箱(9)一端的下方安装有传动安装块(10)，所述传动安装块(10)的中间位置处安装有传动固定轴(11)。5.根据权利要求1所述的新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，其特征在于：所述电器工作箱(9)一端的上方安装有电机安装块(12)，所述电机安装块(12)的中间位置处设置有传动固定槽(13)。6.根据权利要求1所述的新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，其特征在于：所述连接固定套(14)上设置有固定安装孔(16)，固定安装孔(16)设置有若干个，且若干个固定安装孔(16)依次分布，所述内部固定片(15)的外侧设置有固定垫圈(17)。

技术总结
本实用新型公开了新型高溅射率磁控旋转圆柱靶，涉及磁控旋转圆柱靶技术领域，为解决现有的磁控旋转圆柱靶的溅射性能还不够稳定，溅射效率不够高的问题。所述旋转圆柱靶的一端安装有侧边固定块，所述旋转圆柱靶的另一侧安装有连接传动套，所述连接传动套的另一侧安装有固定限位板，所述固定限位板的另一侧安装有固定腔体套，所述固定腔体套的另一侧安装有传动陶瓷轴承，所述传动陶瓷轴承的另一侧安装有部件安装架，所述部件安装架另一侧的上方安装有伺服电机，所述伺服电机的下方安装有电器工作箱，所述部件安装架的另一端设置有连接固定套，所述连接固定套的内侧安装有内部固定片。所述连接固定套的内侧安装有内部固定片。所述连接固定套的内侧安装有内部固定片。


技术研发人员：王伟平 王金泉 王菊姿
受保护的技术使用者：莱糸真空科技（常州）有限公司
技术研发日：2020.12.31
技术公布日：2021/9/17