一种PLC控制的高频齿轮淬火装置的制作方法

一种plc控制的高频齿轮淬火装置
技术领域
1.本实用新型涉及一种plc控制的高频齿轮淬火装置，属于淬火控制技术领域。


背景技术：

2.齿轮淬火的目的是使过冷奥氏体进行马氏体或贝氏体转变，得到马氏体或贝氏体组织，然后配合以不同温度的回火，以大幅提高钢的强度、硬度、耐磨性、疲劳强度以及韧性等，从而满足各种机械零件和工具的不同使用要求。
3.现有的高频齿轮淬火装置自动化程度低，且淬火温度控制不够稳定，效果不够好。


技术实现要素：

4.针对上述现有技术中的不足之处，本实用新型提出一种plc控制的高频齿轮淬火装置，解决了高频齿轮淬火装置自动化程度低的问题。
5.为了实现上述目的，本实用新型的技术方案：包括底座，底座上设有旋转支柱和plc控制模组，plc控制模组套设在旋转支柱上，旋转支柱上端还套设有同步旋转的水池，水池呈圆形，水池还设有数个高频淬火机构，数个高频淬火机构绕旋转支柱呈环形分布，水池底面设有数个支耳，每个支耳均对应着一个高频淬火机构，支耳上设有插槽，旋转支柱通过驱动机构与插槽的配合进行旋转。
6.进一步的,高频淬火机构包括贯穿且固设于水池底部的防水套筒，防水套筒内部设有支撑杆，支撑杆的顶端设有用于放置待淬火的齿轮的定位部，支撑杆底端设有从动轮，防水套筒底端的两侧分别设有导轨气缸和伺服电机，导轨气缸设有使支撑杆沿防水套筒轴向运动的导向杆，伺服电机的转头上设有主动轮，从动轮通过支撑杆升降后可与主动轮啮合。
7.进一步的，驱动机构包括设于底座旁的基座，基座上设有滑槽，滑槽上滑动设有驱动板，驱动板上设有第一伺服气缸，第一伺服气缸控制有驱动杆，驱动杆可与水池相切，驱动杆前端设有活动销，驱动杆可通过活动销与插槽的配合用于驱动水池旋转，驱动板由位于基座上的第二伺服气缸驱动，基座上还设有支基，支基上设有限位插销，限位插销由第三伺服气缸驱动到与插槽配合，用于定位水池的旋转。
8.本实用新型的有益效果：通过plc控制模组控制对各个伺服部件进行控制，使其能够实现数个齿轮快速自动地完成高频淬火的工作过程，该高频淬火装置传动效果好，自动化程度高，淬火温度和冷却控制好，效果优异。
附图说明
9.图1为本实用新型示意图。
10.图2为本实用新型俯视图。
11.图3为本实用新型驱动杆示意图。
12.图4为本实用新型限位插销示意图。
具体实施方式
13.下面结合具体实施例及附图来进一步详细说明本实用新型。
14.本实用新型公开了一种plc控制的高频齿轮淬火装置，包括底座1，底座1上设有旋转支柱2和plc控制模组3，plc控制模组3套设在旋转支柱2上，该plc控制模组3连接所有的伺服系统。旋转支柱2上端还套设有同步旋转的水池4，水池4呈圆形，当齿轮加热后进入水池4进行冷却。水池4还设有数个高频淬火机构5，数个高频淬火机构5绕旋转支柱2呈环形分布，水池4底面设有数个支耳6，每个支耳6均对应着一个高频淬火机构5，支耳6上设有插槽7，旋转支柱2通过驱动机构8与插槽7的配合进行旋转。
15.高频淬火机构5包括贯穿且固设于水池4底部的防水套筒51，防水套筒51内部设有支撑杆52，支撑杆52的顶端设有用于放置待淬火的齿轮的定位部53，齿轮也随定位部53沉入水中或者从水中离开。支撑杆52底端设有从动轮54，防水套筒51底端的两侧分别设有导轨气缸55和伺服电机57，导轨气缸55设有使支撑杆52沿防水套筒51轴向运动的导向杆56，导向杆56可在防水套筒51一侧的导向槽运动，该导向槽向上下竖直延伸，图中未标示。伺服电机57的转头上设有主动轮58，从动轮54向上运动之后与主动轮58啮合，当啮合之后主动轮58会进行驱动位于定位部53的齿轮进行旋转高温加热，加热完之后再沉入水中进行冷却。
16.驱动机构8包括设于底座1旁的基座81，基座81上设有滑槽82，滑槽82上滑动设有驱动板83，驱动板83上设有第一伺服气缸84，第一伺服气缸84控制有驱动杆85，驱动杆85可与水池4相切，驱动杆85前端设有活动销86，驱动杆85可通过活动销86与插槽7的配合用于驱动水池4旋转，然后往回拉驱动杆85。驱动板83由位于基座81上的第二伺服气缸87驱动。基座81上还设有支基88，支基88上设有限位插销89，限位插销89由第三伺服气缸810驱动到与插槽7配合，用于定位水池4的旋转。
17.第二伺服气缸87、第一伺服气缸84和第三伺服气缸810都由plc控制模组3规定了行程，使得水池4的旋转被控制，这种传动方式优点在于气缸的力量更大，旋转支柱2如果靠电机驱动则效果很差，电机能够提供的转矩有限。
18.以上对本实用新型实施例所提供的技术方案进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本实用新型实施例的原理以及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只适用于帮助理解本实用新型实施例的原理；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本实用新型实施例，在具体实施方式以及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。


技术特征：
1.一种plc控制的高频齿轮淬火装置，其特征在于：包括底座(1)，所述底座(1)上设有旋转支柱(2)和plc控制模组(3)，所述plc控制模组(3)套设在所述旋转支柱(2)上，所述旋转支柱(2)上端还套设有同步旋转的水池(4)，所述水池(4)呈圆形，所述水池(4)还设有数个高频淬火机构(5)，数个所述高频淬火机构(5)绕所述旋转支柱(2)呈环形分布，所述水池(4)底面设有数个支耳(6)，每个所述支耳(6)均对应着一个所述高频淬火机构(5)，所述支耳(6)上设有插槽(7)，所述旋转支柱(2)通过驱动机构(8)与所述插槽(7)的配合进行旋转。2.根据权利要求1所述的一种plc控制的高频齿轮淬火装置，其特征在于：所述高频淬火机构(5)包括贯穿且固设于所述水池(4)底部的防水套筒(51)，所述防水套筒(51)内部设有支撑杆(52)，所述支撑杆(52)的顶端设有用于放置待淬火的齿轮的定位部(53)，所述支撑杆(52)底端设有从动轮(54)，所述防水套筒(51)底端的两侧分别设有导轨气缸(55)和伺服电机(57)，所述导轨气缸(55)设有使所述支撑杆(52)沿所述防水套筒(51)轴向运动的导向杆(56)，所述伺服电机(57)的转头上设有主动轮(58)，所述从动轮(54)通过所述支撑杆(52)升降后可与所述主动轮(58)啮合。3.根据权利要求1所述的一种plc控制的高频齿轮淬火装置，其特征在于：所述驱动机构(8)包括设于所述底座(1)旁的基座(81)，所述基座(81)上设有滑槽(82)，所述滑槽(82)上滑动设有驱动板(83)，所述驱动板(83)上设有第一伺服气缸(84)，所述第一伺服气缸(84)控制有驱动杆(85)，所述驱动杆(85)可与所述水池(4)相切，所述驱动杆(85)前端设有活动销(86)，所述驱动杆(85)可通过所述活动销(86)与所述插槽(7)的配合用于驱动所述水池(4)旋转，所述驱动板(83)由位于所述基座(81)上的第二伺服气缸(87)驱动，所述基座(81)上还设有支基(88)，所述支基(88)上设有限位插销(89)，所述限位插销(89)由第三伺服气缸(810)驱动到与所述插槽(7)配合，用于定位所述水池(4)的旋转。

技术总结
本实用新型公开了一种PLC控制的高频齿轮淬火装置，包括底座，底座上设有旋转支柱和PLC控制模组，PLC控制模组套设在旋转支柱上，旋转支柱上端还套设有同步旋转的水池，水池呈圆形，水池还设有数个高频淬火机构，数个高频淬火机构绕旋转支柱呈环形分布，水池底面设有数个支耳，每个支耳均对应着一个高频淬火机构，支耳上设有插槽，旋转支柱由驱动机构驱动。本实用新型的有益效果：通过PLC控制模组控制对各个伺服部件进行控制，使其能够实现数个齿轮快速自动地完成高频淬火的工作过程，该高频淬火装置传动效果好，自动化程度高，淬火温度和冷却控制好，效果优异。效果优异。效果优异。


技术研发人员：娄平
受保护的技术使用者：重庆银雁科技有限公司
技术研发日：2022.03.28
技术公布日：2022/8/30