本发明涉及工艺品制作工艺，特别涉及一种竹根雕防腐漆。
背景技术：
根雕，是以树根、竹根等的自生形态及畸变形态为艺术创作对象，通过构思立意、艺术加工，创作出人物、动物、器物等艺术作品。根雕艺术是发现自然美而又显示创造性加工的造型艺术，主要利用根材的天然形态来表现艺术形象，辅助性进行人工处理修饰，根雕又被称为根的艺术。
根雕作品是供人们欣赏或使用的艺术品，竹根雕因竹根材本身结构特点容易开裂、发霉，因此竹根雕制作工艺发展较慢，其一旦开裂、发霉或被虫蛀，便会影响它的欣赏价值和使用价值，因此，竹根材的防裂、防霉和防虫的处理就显得十分重要。在竹根雕的生产过程中需要在产品表面喷涂防腐漆，对于这类防腐漆的要求是不仅要具备良好的防腐性能，还要具有高度的环保性和较低的生产成本。
技术实现要素：
有鉴于此，本发明的目的是提供一种竹根雕防腐漆，其具备良好的防腐性能，同时非常环保。
本发明的目的是通过以下技术方案实现的：
一种竹根雕防腐漆，由以下重量份的原料制成：聚丙烯酸钠2-3、茶多酚0.02-0.05、三甲氧基硅烷0.5-1、固含量为40-50％的丙烯酸改性聚氨酯树脂20-40、固含量30-40％的水性聚氨酯分散体15-25、润湿剂0.5-0.8、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐2-6、去离子水10-15、助剂1-2；
按重量份计，所述助剂包含的组分为：纳米二氧化钛4-6、乙二醇苯醚2-3、羟丙基壳聚糖1-3、去离子水10-12、盐酸羟亚胺1-3，所述助剂通过以下制备方法得到：先将羟丙基壳聚糖、盐酸羟亚胺溶解于去离子水中1-3分钟后，再加入其它组分，并以600-800转/分钟的速度搅拌，分散均匀后，在65-85℃下将混合物料浓缩成膏状，冷却至室温后即得。
特别地，所述防腐漆的制备方法如下：
步骤一：将固含量为40-50％的丙烯酸改性聚氨酯树脂、水性聚氨酯分散体混合均匀后，加热至40-50℃，再加入三甲氧基硅烷，搅拌分散后静置20-30min，随后冷却至室温，备用；
步骤二：将聚丙烯酸钠、茶多酚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐加入去离子水中，搅拌至完全物料完全溶解后，缓慢均匀的加入步骤一所得材料并搅拌，待步骤一所得材料添加完毕，再加入其它剩余成分，搅拌均匀后即得。
本发明的有益效果是：
本发明的防腐漆附着力强，无异味，无不良气味，漆面极为明亮，环保安全，耐水防腐，适合推广使用。
本发明的其他优点、目标和特征在某种程度上将在随后的说明书中进行阐述，并且在某种程度上，基于对下文的考察研究对本领域技术人员而言将是显而易见的，或者可以从本发明的实践中得到教导。本发明的目标和其他优点可以通过下面的说明书和权利要求书来实现和获得。
具体实施方式
以下将对本发明的优选实施例进行详细的描述。应当理解，优选实施例仅为了说明本发明，而不是为了限制本发明的保护范围。
实施例一
本实施例的竹根雕防腐漆，由以下重量份的原料制成：聚丙烯酸钠2、茶多酚0.02、三甲氧基硅烷0.5、固含量为40-50％的丙烯酸改性聚氨酯树脂20、固含量30-40％的水性聚氨酯分散体15、润湿剂0.5、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐2、去离子水10、助剂1；
按重量份计，所述助剂包含的组分为：纳米二氧化钛4、乙二醇苯醚2、羟丙基壳聚糖1、去离子水10、盐酸羟亚胺1，所述助剂通过以下制备方法得到：先将羟丙基壳聚糖、盐酸羟亚胺溶解于去离子水中1-3分钟后，再加入其它组分，并以700转/分钟的速度搅拌，分散均匀后，在65℃将混合物料浓缩成膏状，冷却至室温后即得。
防腐漆的制备方法如下：
步骤一：将固含量为40-50％的丙烯酸改性聚氨酯树脂、水性聚氨酯分散体混合均匀后，加热至40-50℃，再加入三甲氧基硅烷，搅拌分散后静置20-30min，随后冷却至室温，备用；
步骤二：将聚丙烯酸钠、茶多酚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐加入去离子水中，搅拌至完全物料完全溶解后，缓慢均匀的加入步骤一所得材料并搅拌，待步骤一所得材料添加完毕，再加入其它剩余成分，搅拌均匀后即得。
实施例二
本实施例的竹根雕防腐漆，由以下重量份的原料制成：聚丙烯酸钠3、茶多酚0.05、三甲氧基硅烷1、固含量为40-50％的丙烯酸改性聚氨酯树脂40、固含量30-40％的水性聚氨酯分散体25、润湿剂0.8、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸盐6、去离子水15、助剂2；
按重量份计，所述助剂包含的组分为：纳米二氧化钛6、乙二醇苯醚3、羟丙基壳聚糖3、去离子水12、盐酸羟亚胺3，助剂通过以下制备方法得到：先将羟丙基壳聚糖、盐酸羟亚胺溶解于去离子水中1-3分钟后，再加入其它组分，并以800转/分钟的速度搅拌，分散均匀后，在85℃将混合物料浓缩成膏状，冷却至室温后即得。
其制备方法与实施例一相同。
最后说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。