本发明涉及薄膜技术领域，尤其涉及一种高耐磨高抗污薄膜及其制作工艺。
背景技术：
随着科学技术的日益发展，手机和平板电脑已经成为了人们不可或缺的日用品。随着人们生活水平的不断提高，在追求商品基本实用价值的同时，对商品的性能和应用提出了更高的要求。为了防止手机和平板电脑的显示屏幕被污染，通常会在手机和平板电脑表面贴上一层保护薄膜。但是，现有的手机和平板电脑保护薄膜存在耐磨性较差、不具有抗静电性、耐污耐溶剂性较差，薄膜表面容易被污染等缺陷。
有鉴于此，有必要对现有技术中的薄膜及其制作工艺予以改进，以解决上述问题。
技术实现要素：
本发明的目的之一在于公开一种高耐磨高抗污薄膜，用以使薄膜具有耐磨性、抗静电性、耐溶剂性、亲水抗污性以及净化空气的能力。
为实现上述目的，本发明提供了一种高耐磨高抗污薄膜，包括基膜，涂布在基膜上的油墨层，涂布在油墨层上的抗静电层，涂布在抗静电层上的硅油层，涂布在硅油层上的tio2光催化涂层，所述tio2光催化涂层中混合有纳米级负离子粉。
在一些实施方式中，所述油墨层的厚度为2-3μm。
在一些实施方式中，所述抗静电层的厚度为2.5-3.5μm。
在一些实施方式中，所述硅油层的厚度为1-2μm。
在一些实施方式中，所述tio2光催化涂层的厚度为3-4μm。
在一些实施方式中，所述油墨层和抗静电层的交界线呈凹凸状。
在一些实施方式中，所述基膜为pet膜、pc膜或者pvc膜，所述抗静电层为导电涂料层，所述导电涂料层为银、铜、镍或其它复合粒子制成的防电磁波干扰油漆层。
本发明的另一个目的在于公开一种高耐磨高抗污薄膜的制作工艺，用以使薄膜具有耐磨性、抗静电性、耐溶剂性、亲水抗污性以及净化空气的能力。
为实现上述目的，本发明提供了一种高耐磨高抗污薄膜的制作工艺，包括如下步骤：(1)准备材料并将基膜放卷；(2)在基膜表面涂布油墨层，在油墨层表面划出若干个凹槽，在油墨层表面涂布抗静电层并进行光固化；(3)在抗静电层表面涂布硅油层并进行烘干，烘焙温度为80℃-120℃，烘焙时间为3-10min；(4)将纳米级负离子粉均匀混合在tio2光催化涂层中，将tio2光催化涂层涂布在硅油层上并进行烘干，烘焙温度为90℃-150℃，烘焙时间为5-10min；(5)晾干并收卷。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明提供的高耐磨高抗污薄膜包括基膜，油墨层，抗静电层，硅油层，tio2光催化涂层，使tio2光催化涂层中混合有纳米级负离子粉，从而使高耐磨高抗污薄膜具有耐磨性、抗静电性、耐溶剂性、亲水抗污性以及净化空气的能力。
附图说明
图1为本发明所示的一种高耐磨高抗污薄膜的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图所示的各实施方式对本发明进行详细说明，但应当说明的是，这些实施方式并非对本发明的限制，本领域普通技术人员根据这些实施方式所作的功能、方法、或者结构上的等效变换或替代，均属于本发明的保护范围之内。
如图1所示的一种高耐磨高抗污薄膜，包括基膜1，涂布在基膜1上的油墨层2，涂布在油墨层2上的抗静电层3，涂布在抗静电层3上的硅油层4，涂布在硅油层4上的tio2光催化涂层5，所述tio2光催化涂层5中混合有纳米级负离子粉6。
所述油墨层2的厚度为2-3μm，并优选为2.5μm。所述抗静电层3的厚度为2.5-3.5μm，并优选为3μm。所述硅油层4的厚度为1-2μm，并优选为1.5μm。所述tio2光催化涂层5的厚度为3-4μm，并优选为3.5μm。
所述油墨层2和抗静电层3的交界线呈凹凸状，从而增大了抗静电层3和油墨层2的接触面积，一方面油墨层2对抗静电层3起到保护作用，另一方面提高了高耐磨高抗污薄膜的抗静电性。
所述基膜1为pet膜、pc膜或者pvc膜，所述抗静电层3为导电涂料层，所述导电涂料层为银、铜、镍或其它复合粒子制成的防电磁波干扰油漆层。
油墨层2增强了高耐磨高抗污薄膜的耐磨性，抗静电层3提高了高耐磨高抗污薄膜的抗静电性，硅油层4使高耐磨高抗污薄膜具有耐溶剂性，tio2光催化涂层5使高耐磨高抗污薄膜具有亲水耐污性。纳米级负离子粉6中的成分具有热电性和压电性，因此在有温度和压力变化的情况下(即使微小的变化)即能引起成分晶体之间的电势差，静电高达100万电子伏特，从而使空气发生电离，被击中的电子附着于领近的水和氧气分子并使它转化为空气负离子，即负氧离子，而且输送负电荷给细菌、灰尘、烟雾微粒以及水滴，电荷与这些微粒相结合聚成球而下沉，从而达到净化空气的目的，另外还能够消除异味和各种有害气体。
本发明还公开了一种高耐磨高抗污薄膜的制作工艺，包括如下步骤：
(1)准备材料即基膜1，油墨层2，抗静电层3，硅油层4，tio2光催化涂层5，纳米级负离子粉6，再并将基膜1放卷。
(2)在基膜1表面涂布油墨层2，在油墨层2表面划出若干个凹槽，在油墨层2表面涂布抗静电层3并进行光固化。
(3)在抗静电层3表面涂布硅油层4并进行烘干，烘焙温度为80℃-120℃，烘焙时间为3-10min，具体地，烘焙温度为110℃，烘焙时间为6min。
(4)将纳米级负离子粉6均匀混合在tio2光催化涂层5中，将tio2光催化涂层5涂布在硅油层4上并进行烘干，烘焙温度为90℃-150℃，烘焙时间为5-10min，具体地，烘焙温度为130℃，烘焙时间为8min。
(5)晾干并收卷。
上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本发明的可行性实施方式的具体说明，它们并非用以限制本发明的保护范围，凡未脱离本发明技艺精神所作的等效实施方式或变更均应包含在本发明的保护范围之内。
此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。