硅胶盖的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种硅胶盖。
【背景技术】
[0002]目前，现有的瓶子采用硅胶盖密封时，硅胶盖与瓶口的密封性差，而且硅胶盖也很容易从瓶口脱落，导致密封失效。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种与瓶口的密封性好、不会从瓶口脱落的硅胶盖。
[0004]本实用新型是这样实现的，一种硅胶盖，包括一中空圆柱形盖体，所述盖体一端开口、另一端封闭，所述盖体的横截面积从封闭端到开口端逐渐减小，所述盖体内部沿封闭端的边缘开设有一横截面为圆弧形的环形槽，所述盖体内部固设有一从封闭端向开口端延伸的中空圆柱形密封圈，所述密封圈与所述盖体的内壁间隔设置，所述密封圈与所述盖体内壁之间的空隙形成用于密封瓶口的密封腔，所述密封腔与所述环形槽连通。
[0005]具体地，所述密封圈延伸至所述盖体的中部附近。
[0006]进一步地，所述密封圈的开口端设有倒角。
[0007]具体地，所述盖体和所述密封圈采用硅胶一体成型。
[0008]由于盖体的横截面积从封闭端到开口端逐渐减小，从而可以使盖体将瓶口紧紧包裹，提高盖体与瓶口之间的密封性；由于盖体内部的环形槽与瓶口处的凸缘配合，因此既可以提高盖体与瓶口之间的密封性，还可以防止盖体从瓶口脱落。
【附图说明】
[0009]为了更清楚地说明本实用新型的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0010]图1是本实用新型实施例提供的硅胶盖的剖视图。
【具体实施方式】
[0011 ] 下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0012]如图1所示，本实用新型实施例提供的一种硅胶盖，包括一中空圆柱形盖体1，盖体I 一端开口、另一端封闭，盖体I的横截面积从封闭端到开口端逐渐减小，即盖体I的开口端向内收缩，从而可以使盖体I将瓶口(未示出)紧紧包裹，提高盖体I与瓶口之间的密封性；
[0013]盖体I内部沿封闭端的边缘开设有一横截面为圆弧形的环形槽2，环形槽2用于与瓶口处的凸缘配合，既可以提高盖体I与瓶口之间的密封性，还可以防止盖体I从瓶口脱落；
[0014]盖体I内部固设有一从封闭端向开口端延伸的中空圆柱形密封圈3，密封圈3延伸至盖体I的中部附近，盖体I和密封圈3采用硅胶一体成型，密封圈3与盖体I的内壁间隔设置，密封圈3与盖体I内壁之间的空隙形成用于密封瓶口的密封腔4，密封腔4与环形槽2连通，密封圈3的开口端还设有倒角31，倒角31可以便于瓶口顺利地从密封圈3的开口端进入密封腔4。
[0015]当采用本实用新型的硅胶盖来密封瓶子时，首先将瓶口从密封圈3的开口端的倒角31处塞入密封腔4，然后继续将瓶口向里塞，直到瓶口进入环形槽2，此时瓶口处的凸缘与环形槽2配合，即完成了硅胶盖与瓶子的密封配合。
[0016]以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种硅胶盖，其特征在于，包括一中空圆柱形盖体，所述盖体一端开口、另一端封闭，所述盖体的横截面积从封闭端到开口端逐渐减小，所述盖体内部沿封闭端的边缘开设有一横截面为圆弧形的环形槽，所述盖体内部固设有一从封闭端向开口端延伸的中空圆柱形密封圈，所述密封圈与所述盖体的内壁间隔设置，所述密封圈与所述盖体内壁之间的空隙形成用于密封瓶口的密封腔，所述密封腔与所述环形槽连通。
2.根据权利要求1所述的硅胶盖，其特征在于，所述密封圈延伸至所述盖体的中部附近。
3.根据权利要求1所述的硅胶盖，其特征在于，所述密封圈的开口端设有倒角。
4.根据权利要求1所述的硅胶盖，其特征在于，所述盖体和所述密封圈采用硅胶一体成型。
【专利摘要】本实用新型提供了一种硅胶盖，包括一中空圆柱形盖体，所述盖体一端开口、另一端封闭，所述盖体的横截面积从封闭端到开口端逐渐减小，所述盖体内部沿封闭端的边缘开设有一横截面为圆弧形的环形槽，所述盖体内部固设有一从封闭端向开口端延伸的中空圆柱形密封圈，所述密封圈与所述盖体的内壁间隔设置，所述密封圈与所述盖体内壁之间的空隙形成用于密封瓶口的密封腔，所述密封腔与所述环形槽连通。由于盖体的横截面积从封闭端到开口端逐渐减小，从而可以使盖体将瓶口紧紧包裹，提高盖体与瓶口之间的密封性；由于盖体内部的环形槽与瓶口处的凸缘配合，因此既可以提高盖体与瓶口之间的密封性，还可以防止盖体从瓶口脱落。
【IPC分类】B65D45-02
【公开号】CN204489529
【申请号】CN201520093243
【发明人】黄文举
【申请人】深圳市亚思德科技发展有限公司
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2015年2月10日