具有可控表面形态的光学薄膜及其制造方法

专利名称：具有可控表面形态的光学薄膜及其制造方法
技术领域：
本发明涉及用于制造具有可控表面粗糙度的光学薄膜的方法，以及从该方法获得的具有可控表面形态的光学薄膜，该方法包括使用含水分的空气来干燥通过溶液浇铸法而形成的薄膜表面，以形成具有坑(crater)和台地(plateau)的表面形态。
背景技术：
平板显示装置如液晶显示装置或有机发光二极管(OLED)使用偏光板。为了制造偏光板，将聚乙烯醇(PVA)薄膜与光学保护膜相结合使用。就用于保护和支承偏光板并用于使用者直接观察的表面上的光学薄膜而言，应用防眩光涂层、低反射涂层、防反射涂层等以提供防眩光效果。防刮透明涂层(hard clear coating)也被用于改善表面硬度和透光率。目前，在涂覆工艺中，光学薄膜表面涂层的涂覆生产率受到流体动力不稳定性的限制。 与该不稳定性相关的典型现象包括在提高了涂覆速度下气泡的生成或凸棱(ribbing)的产生。该气泡的生成与表面粗糙度成比例显著地降低(美国化学工程师会志，33卷，141页， 1987)。另外，由产生凸棱引起的涂层不稳定性可以通过增加基底表面的粗糙度以在表面内引起毛细流动而被抑制。因此，使用高表面粗糙度的基底能够抑制气泡生成和凸棱产生，导致涂覆速度的增加和生产率的提高。而且，增加的表面粗糙度改善了涂层和基底层之间的附着力，从而改善了成品薄膜的机械和物理性能。在偏光板的制造工艺中，聚乙烯醇薄膜与偏光板保护膜或光学补偿膜的层压使用粘合剂。在该层压工艺中，偏光板可能由于凸棱而起皱。而且，当在高速下实施层压工艺时， 气泡可能在粘合剂和聚乙烯醇薄膜之间、或者粘合剂和偏光板保护膜或光学补偿膜之间合并，导致偏光板生产率的下降。同样，使用高表面粗糙度的基底可提高层压速度。一般而言，随着涂层溶液粘度的增加和涂层溶液界面张力的下降，容易发生空气的合并，从而限制了最大涂层速度(美国化学工程师会志，33卷，141页，1987)。然而，即使当使用具有高粘度和低界面张力的涂层溶液时，通过使用具有来源于可控表面形态的可控粗糙度的涂层，涂层的生产率也可明显提高。本发明的发明人进行了很多研究以开发确保在光学薄膜整个表面上的均勻表面粗糙度的方法，从而可提高表面涂覆的光学薄膜的涂层生产率和偏光板层压工艺中的生产率。因此，我们发现当具有可控的湿度含量的干燥空气被用于形成光学薄膜的工艺中的干燥操作时，有可能控制薄膜表面上的形态并获得具有可控表面粗糙度的薄膜。本发明基于这一发现。

发明内容
技术问题本发明的目的是通过在进行光学薄膜的表面涂覆期间控制光学薄膜的表面粗糙度以增加涂覆速度，来提高表面涂层薄膜的生产率，同时提高偏光板制造过程中的生产率。 因此，本发明的目的是提供具有可控表面粗糙度的光学薄膜及其制造方法。
解决方案在一个总的方面，本发明提供了用于平板显示(FPD)装置的光学薄膜及其制造方法。具体地，提供了将表面粗糙度赋予光学薄膜的方法，其包括通过溶液浇铸法在光学薄膜的表面上形成具有IOnm-IOOym曲率半径的凹陷的坑、以及在一个坑和另一个坑之间形成台地。也提供了使用同一方法获得的光学薄膜。更具体地，通过将聚合物溶液应用于溶液浇铸工艺中，然后干燥来提供光学薄膜， 在溶液浇铸之后，当干燥聚合物溶液时，通过使用含有与聚合物溶液中所用溶剂非亲和的气体的干燥空气，而在薄膜表面上形成坑和台地，使光学薄膜具有可控的表面粗糙度。与聚合物溶液中使用的溶剂没有亲和力的气体可以是水蒸汽。在光学薄膜中没有具体的限制。然而，光学薄膜的具体实例可包括酰化纤维素基薄膜、丙烯酸薄膜、聚降冰片烯基薄膜、聚碳酸酯基薄膜、聚砜基薄膜、聚醚砜基薄膜、聚苯乙烯基薄膜、聚醚醚酮基薄膜、聚乙烯醇基薄膜、聚乙酸乙烯酯基薄膜等。在另一个总的方面，提供了经由溶液浇铸法制造光学薄膜的方法，其包括将聚合物溶液用于溶液浇铸并且通过提供干燥空气至铸机中以干燥所述聚合物溶液，从而在与所述干燥空气接触的铸层表面形成坑，同时在一个坑和另一个坑之间形成台地，由此控制成品薄膜的表面粗糙度，所述干燥空气包含与所述聚合物溶液中使用的溶剂没有亲和力的气体。下面将详细描述本发明的实施方案。一般而言，用于平板显示的光学薄膜通过溶液浇铸工艺或者熔融挤出工艺获得。 就溶液浇铸工艺而言，可使用酰化纤维素树脂、聚降冰片烯树脂等。就熔融挤出工艺而言， 可使用丙烯酸树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂、脂族环烯(COP)树脂等。下面将描述制造酰化纤维素薄膜的方法；然而，可从本发明的方法中获得的光学薄膜不局限于此。就溶液浇铸而言，聚合物溶液浇铸在铸机中的钢带或鼓轮上，被部分干燥，当其通过拉幅机或干燥机时被完全干燥，然后以薄膜的形式缠绕在卷线机上。在溶液浇铸工艺期间，可在铸机中控制干燥空气的相对湿度，以在浇铸溶液层的表面上形成液滴痕迹，且这种液滴具有非常窄的尺寸分布。因为可通过控制干燥空气的相对湿度和干燥速度而控制液滴痕迹的尺寸和分布，因此有可能控制光学薄膜的表面粗糙度。与干燥空气直接接触的铸机中浇铸溶液层表面具有通过对流干燥而快速形成的表层。有可能通过在表层固化前控制表面形态来控制光学薄膜的粗糙度。当浇铸层从铸机中出来时，浇铸层中残余溶剂的量为 10-70%。然而，因为已经与干燥空气接触的表面基本上被固化，液滴痕迹在通过拉幅机或干燥机后被保留，因此被保留在成品薄膜中。在光学薄膜中广泛使用的涂层溶液，如防刮透明涂层、防眩光涂层或低反射涂层的溶液，在涂层工艺期间甚至在几个微米或更小的粗糙度下都填充基底的粗糙表面。因此， 与干燥空气接触的部分变平以提供平坦的涂层表面。因此，即使当基底具有高的粗糙度时， 具有依赖于基底的可控折射率的涂层溶液可充分地移除基底的表面雾度。以这种方式，成品的涂层薄膜未显示由基底表面的粗糙度引起的雾度。总之，通过控制根据本发明实施方案的薄膜表面粗糙度所获得的薄膜，能够提高涂层的生产率，同时不会负面影响成品表面涂层薄膜的期望的光学性能。
通过液滴痕迹控制薄膜雾度，根据本发明的实施方案的这种具有可控表面粗糙度的薄膜可以直接被用作防眩薄膜或光扩散薄膜。作为生产用于IPS或者VA型的光学补偿膜的方法，现有技术中已知有各种方法， 如直接向树脂中添加能够控制光学各向异性的低分子量材料并任选地结合执行薄膜拉伸。 同样，当通过上述方法获得光学补偿膜时，根据本发明的实施方案有可能在补偿膜的表面上形成坑来容易地控制表面粗糙度，附带的条件是薄膜经溶液浇铸。另外，在许多专利中公开了生产TN型光学补偿膜的各种方法，所述方法包括在酰化纤维素薄膜上涂覆液晶层并给液晶层赋予方向性。在上述方法中，根据本发明的实施方案的具有可控粗糙度的薄膜也可以作为基底应用于酰化纤维素薄膜。如本文所用，聚合物溶液可包括酰化纤维素树脂、溶剂和添加剂。可以在本文公开的方法中使用的酰化纤维素树脂可具有任何C2-C20酰基取代基。酰化纤维素可具有2. 50-3. 00，更具体为2. 75-3. 00的取代度。另外，可使用具有两个或更多的带不同碳原子数的酰化基团的酰化纤维素。在这种情况下，乙酰基可以是具有较少数量碳原子的酰基，而另一个具有较多数量碳原子的酰基可包括脂肪族酰基，如丙酰或丁酰，或芳香族结构，如苯甲酰。考虑到机械性能、尺寸稳定性和光学耐久性，酰化纤维素可具有200，000-350, 000
的重量平均分子量。酰化纤维素可具有1. 4-1. 8的多分散性(重量平均分子量/数量平均分子量)。同样，可使用两种或更多种酰化纤维素树脂。溶剂可包括选自二氯甲烷、乙酸甲酯、酮类和醇类中的至少一种。优选地，有机溶剂可包括建议用于商业化生产过程的卤代烃、二氯甲烷。如果需要，可以结合使用除了该卤代烃以外的有机溶剂。除了卤代烃以外的该有机溶剂可包括酯类、酮类、醚类、醇类等。一般而言，二氯甲烷用作主要溶剂而乙醇用作助溶剂。更具体地，二氯甲烷和乙醇的混合物以 80 20-95 5的重量比使用。当形成酰化纤维素薄膜时，可添加各种添加剂制备聚合物溶液。该添加剂的典型实例包括塑化剂、褪光剂(mattifying agent)、微粒粉末、表面活性剂、UV吸收剂、剥离剂、 波长色散调整剂、光学各向异性控制剂等。该添加剂可在没有任何具体限制的情况下使用， 只要其对本领域技术人员来说是已知的。作为塑化剂，可使用磷酸酯、羧酸酯，如选自邻苯二甲酸酯和柠檬酸酯等中的一种。磷酸酯的具体实例包括磷酸三苯酯(TPP)、联苯二苯磷酸和磷酸三甲苯酯(TCP)。邻苯二甲酸酯的具体实例包括邻苯二甲酸二甲酯(DMP)、邻苯二甲酸二乙酯(DEP)、邻苯二甲酸二丁酯(DBP)、邻苯二甲酸二辛酯(DOP)、邻苯二甲酸二苯酯(DPP)和邻苯二甲酸二乙基己酯(DEHP)。柠檬酸酯的具体实例包括邻乙酰柠檬酸三乙酯(OACTE)和邻乙酰柠檬酸三丁酯 (OACTB)。其它羧酸酯的实例包括油酸丁酯、甲基乙酰基赖氨酸油酸酯、癸二酸二丁酯和各种偏苯三甲酸酯(trimelitic acid ester)。两种或更多种塑化剂可结合使用。可以基于 100重量份酰化纤维素使用0. 05-30重量份的塑化剂。作为波长色散调整剂，可单独使用或结合使用苯并三唑化合物、二苯甲酮化合物、 氧二苯甲酮化合物、水杨酸酯化合物、含氰基化合物等。可以基于100重量份酰化纤维素使用0. 05-30重量份的波长色散调整剂。
作为UV吸收剂，可使用氧二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、水杨酸酯化合物、 二苯甲酮化合物、氰丙烯酸酯化合物、镍络合物盐化合物等。在这些中，优选苯并三唑化合物。基于苯并三唑的UV吸收剂的具体实例包括但不限于2-(2'-羟基-5'-甲基苯基)苯并三唑、2-(2'-羟基-3'，5' - 二叔丁苯基)苯并三唑、2-(2'-羟基-3'-叔丁基-5'-甲基苯基)苯并三唑、2-(2'-羟基-3'，5' -二叔丁基)-5-氯代苯并三唑、 2-(2'-羟基-3' -(3〃，4〃，5〃，6〃 -四氢邻苯二甲酰亚胺)_5 ‘甲基苯基)苯并三唑、 2，2_亚甲基双(1，1，3，3-四甲基丁基)-6-QH-苯并三唑-2-基)苯酚)、2_0'-羟基-3'-叔丁基-5'-甲基苯基)-5-氯代苯并三唑、2，4_ 二羟基二苯甲酮、2，2' -二羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基-5-含硫二苯甲酮、双(2-甲氧基-4-羟基-5-苯甲酰苯基甲烷)、2，6_ 二叔丁基-对甲酚、三甘醇-双(3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙酸盐)、1，6_己二醇-双(3-(3，5-二叔丁基-4-羟苯基)丙酸盐、2，4_双-(正辛基硫代)-6- (4-羟基-3，5- 二叔丁苯胺基)-1，3，5-三嗪、2，2-硫代二乙烯双(3- (3，5- 二叔丁基-4-羟苯基)丙酸盐)、十八基-3-(3，5-二叔丁基-4-羟苯基)丙酸盐、1，3，5_三甲基-2，4，6-三(3，5-二叔丁基-4-邻羟苄基)苯、三(3，5-二叔丁基-4-邻羟苄基)-异氰脲酸酯等。另外，金属氧化物，如二氧化硅、二氧化钛、氧化锌、氧化铝、氧化钡、氧化锡、氧化镁、氧化钼、氧化钒等可与上述UV吸收剂结合加入，以提高UV吸收效果。加入微粒粉末以便于抑制薄膜的卷曲、使用时的退回特性，防止在卷绕状态下的层压，等等。可使用任何选自无机化合物和有机化合物的微粒粉末。该无机化合物的具体实例包括含硅化合物、二氧化硅、二氧化钛、氧化锌、氧化铝、氧化钡、氧化锆、氧化锶、氧化锑、 氧化锡、氧化锡/锑、碳酸钙、滑石、粘土、烘焙高岭土、烘焙硅酸钙、含水硅酸钙、硅酸铝、硅酸镁和磷酸钙。优选为含硅无机化合物或氧化锆。微粒具有80nm或更小的平均基本微粒直径，优选为5-80nm，更优选为5-60nm，最优选为8-50nm。可以基于100重量份酰化纤维素使用0. 001-5重量份的微粒粉末。作为剥离剂，可使用磷酸盐、磺酸盐、羧酸盐、非离子、阳离子表面活性剂等。剥离剂可以基于聚合物溶液重量的0. 005-2wt%的量使用。作为表面活性剂，可使用非离子、阴离子、阳离子、甜菜碱、含氟表面活性剂等。优选的非离子表面活性剂包括聚氧乙烯、聚氧丙烯、聚氧丁烯、聚氧乙烯烷基乙醚、聚氧乙烯烷基苯乙醚、聚氧乙烯-聚氧丙烯乙二醇、多元醇脂肪酸部分酯、聚氧乙烯多元醇脂肪酸酯、聚氧乙烯脂肪酸酯、甘油聚合物脂肪酸酯、脂肪酸二乙醇酰胺、三羟乙基胺脂肪酸部分酯等。非离子表面活性剂的具体实例包括羧酸盐、硫酸盐、磷酸酯盐等，且其典型的实例包括脂肪酸盐、烷基苯磺酸盐、烷基萘磺酸盐、烷基磺酸盐、α-烯烃磺酸盐、α-磺化脂肪酸盐、烷基硫酸盐、聚氧乙烯烷基乙醚硫酸盐、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸盐、聚氧乙烯苯乙烯亚苯醚硫酸盐、烷基磷酸盐、聚氧乙烯烷基乙醚磷酸盐等。阳离子表面活性剂的具体实例包括伯叔脂肪胺盐、四烷基铵盐、三烷基苯铵盐等。甜菜碱表面活性剂的具体实例包括羧基甜菜碱、磺基甜菜碱、N-三烷基-N-羧基甲基铵基甜菜碱、N-三烷基-N-磺基烯烃基铵基甜菜碱等。可以基于100重量份酰化纤维素使用0. 001-2重量份的表面活性剂。光学各向异性控制剂可以是低分子量的化合物或聚合物化合物，并以基于100重量份酰化纤维素使用0. 001-30重量份。根据本发明的光学薄膜具有20-150 μ m的厚度，以便于制造偏光板。光学薄膜具有5ηπι-20μπι的表面粗糙度(Ra)，以提高偏光板涂覆和制造中的生产率。表面粗糙度是指以中心线为基础的平均表面粗糙度。就透明光学薄膜而言，可使用共聚焦显微镜以获得表面的截面图，然后根据Ra的定义计算Ra。根据本发明的光学薄膜具有从1至100%的易于控制的雾度。光学薄膜还可包括在其任一个表面或两个表面上的，选自防刮透明涂层、防眩光涂层、低反射涂层、防反射涂层、防静电涂层和液晶涂层中的至少一个涂层。光学薄膜由于其表面粗糙度而使得该涂层易于形成。根据本发明的光学薄膜依据其光学特性可被用于IPS型或者VA型。光学薄膜也可被用于TN型液晶显示装置的光学补偿膜的基底薄膜。这些薄膜可被用于生产偏光板。另外，使用包括根据本发明光学薄膜的偏光板的液晶显示装置或者OLED也包含在本发明的范围之内。有益效果根据本发明的光学薄膜具有可控表面形态，使得在涂覆工艺期间产生的气泡可容易地去除且在薄膜中可发生毛细现象。以这种方式，即使在已提高涂覆速度下，也有可能通过抑制气泡生成和凸棱来提高涂覆速度。因此，有可能提高涂层工艺的生产率和用于制造偏光板的方法的层压工艺中的生产率。


从下面的结合所附附图给出的优选实施方案的描述中，本发明的上述和其它目的、特点和优势将变得明显，其中图1是根据本发明，在铸机中用240秒的保留时间获得的具有可控表面形态的光学薄膜的摄影图；图2是根据本发明，在铸机中用100秒的保留时间获得的具有可控表面形态的光学薄膜的摄影图；图3所示为如图1所示光学薄膜的截面的摄影图，其中凹陷部分和非凹陷部分分别指的是坑和台地。
具体实施例方式现在将描述实施例和实验。以下实施例和实验只用作说明的目的而不用作限制本发明的范围。根据以下方法测量薄膜的物理性能。1)透光率(％ )在25°C、60%RH的可见光(615nm)下，通过透明度测量系统(Kotaki制作所的AKA 光电比色计)测量具有20mm X 70mm尺寸的样品的透光率。2)雾度(％ )根据JISK-6714，在25°C、60% RH下，通过雾度测量仪(HGM-2DP，Suga试验仪)测量具有40mm X 80mm尺寸的薄膜样品的雾度。[实施例1]酰化纤维素溶液的制备
如下所述的组合物被引入到搅拌器中且于30°C温度下在其中溶解醋酸纤维素19wt%二氯甲烷 73wt%甲醇 6. Owt %磷酸三苯酯1. 05wt%联苯二苯磷酸盐(Biphenyldiphenyl phosphate) 0. 5wt%UV吸收剂1(苯三唑甲酚328，汽巴O^iba)公司)0. 2wt%UV吸收剂2 (苯三唑甲酚327，汽巴公司)0. 2wt%SiO2O. 05wt%使用具有250，000的重量平均分子量和2. 8取代度的醋酸纤维素。这里所用的 SiO2具有约20nm的平均基本微粒直径。所得到的溶液通过齿轮泵输送，加热至30°C，通过具有0. Olmm绝对过滤精度的滤纸过滤，然后通过具有5 μ m绝对过滤精度的筒式过滤器进
一步过滤。酰化纤维素薄膜的制造从前面的过滤操作中获得的溶液通过铸模被浇铸在设置于铸机中的镜面不锈钢载体(support)上，然后进行剥离。当在铸机中干燥溶液时，将具有70%相对湿度的空气与在100°C、环境压力下的干燥空气混合后提供。剥离时的残余溶剂量控制到25wt%。在将薄膜与拉幅机连接后，薄膜在横向上以101%的比率拉伸。在薄膜从拉幅机出来后，薄膜在其左端和右端以每端为150mm的长度被切割。端面切割的薄膜通过干燥机干燥，然后从干燥机中出来的薄膜的两端以3cm切割。进一步，薄膜距离端部位置2mm的位置处以IOym 的高度实施滚花工艺。然后薄膜被卷绕成卷，以获得具有可控表面形态的醋酸纤维素薄膜。 薄膜具有如表1所列的物理性能。在该实验完成后，获得了具有如图1和2所示的表面形态的雾度薄膜。如图2所示的薄膜的物理性能也列于表1中。在铸机中的保留时间为240秒(图1)和100秒(图 2)。图3为如图1所示的样品沿厚度方向得到的截面图。在图3中，凹陷部分称之为坑，剩余的非凹陷部分称之为台地。如图3中可见，坑只形成在薄膜的表面。[实施例2]从实施例1获得的薄膜被用于提供具有防刮透明涂层的薄膜。光固化丙烯涂层溶液被涂覆在实施例1的薄膜上。涂层溶液具有43wt%的粘合剂固体含量，并包括42. 2wt% 的甲乙酮和14.8wt%的异丙醇作为溶剂。涂层溶液使用5号迈尔棒(Mayer bar)涂覆，在 100°C烤箱中干燥30秒，并通过具有57mJ/cm2 · s强度的UV光在25°C下固化10秒。被干燥和固化的薄膜表现出透明的外形并具有约5 μ m厚度和3H铅笔硬度的涂层。薄膜具有如表1所列的物理性能。[实施例3]使用与实施例2的迈尔棒涂覆实验相同的涂层溶液，并在多重涂料器中使用具有可控表面形态的醋酸纤维素薄膜以确定其中发生气泡合并的涂覆速度。使用狭槽模作为涂覆模并在60°C、100°C和110°C的三个区域中单独控制干燥温度。为了确保涂覆液珠的稳定性，使用真空抽吸。薄膜具有如表2所列的物理性能。[比较例1]
使用与实施例1相同的组合物，从而以相同的方式提供薄膜，除了组合物通过浇铸模被浇铸在设置于铸机中的镜面不锈钢载体上，且在剥离期间使用的干燥空气不包含具有70%相对湿度的空气，但是只包含干燥空气。因此，获得了透明的醋酸纤维素薄膜，且薄膜具有如表1所列的物理性能。[比较例2]使用从比较实施例1获得的醋酸纤维素薄膜，且涂层溶液以如实施例3所描述的相同方式被涂覆在其上。涂覆的薄膜具有如表2中所列的物理性能。表 权利要求
1.一种光学薄膜的制造方法，其包括将聚合物溶液用于溶液浇铸并且通过提供干燥空气至铸机中以干燥所述聚合物溶液，从而在与所述干燥空气接触的铸层表面形成坑，同时在一个坑和另一个坑之间形成台地，由此控制成品薄膜的表面粗糙度，其中所述干燥空气包含与所述聚合物溶液中使用的溶剂没有亲和力的气体。
2.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，与所述聚合物溶液中使用的溶剂没有亲和力的气体为水蒸汽。
3.如权利要求2所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述光学薄膜具有5nm-20μ m的表面粗糙度(Ra)。
4.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述光学薄膜为选自酰化纤维素基薄膜、丙烯酸薄膜、聚降冰片烯基薄膜、聚碳酸酯基薄膜、聚砜基薄膜、聚醚砜基薄膜、聚苯乙烯基薄膜、聚醚醚酮基薄膜、聚乙烯醇基薄膜、聚乙酸乙烯酯基薄膜中的任意一种。
5.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述聚合物溶液包括酰化纤维素树脂、溶剂和添加剂，且所述溶剂为选自二氯甲烷、乙酸甲酯、酮类、醇类及其混合物中的至少一种。
6.如权利要求5所述的光学薄膜的制造方法，其中，所述添加剂为选自塑化剂、褪光剂、微粒粉末、表面活性剂、UV吸收剂、剥离剂、波长色散调整剂、光学各向异性控制剂及其混合物中的至少一种。
7.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其还包括在所述干燥后，在所述光学薄膜的任意一个表面或者两个表面上涂覆防刮透明涂层、防眩光涂层、低反射涂层、防反射涂层、防静电涂层或液晶涂层。
8.—种通过权利要求1至7中任一项限定的方法获得的光学薄膜。
9.如权利要求8所述的光学薄膜，其为光扩散薄膜或光学补偿薄膜。
10.如权利要求8所述的光学薄膜，其为用于IPS型、VA型或TN型液晶显示装置的光学补偿薄膜。
11.一种使用由权利要求1至7中任一项所限定的方法获得的光学薄膜的偏光板。
12.一种使用如权利要求11所限定的偏光板的液晶显示装置或OLED显示装置。
13.—种通过在溶液浇铸期间使用干燥空气在其表面上形成坑和台地而具有可控的表面粗糙度的光学薄膜，其中所述干燥空气包含与聚合物溶液中使用的溶剂没有亲和力的气体。
14.如权利要求13所述的光学薄膜，其中，与聚合物溶液中使用的溶剂没有亲和力的气体为水蒸汽。
15.如权利要求14所述的光学薄膜，其为选自酰化纤维素基薄膜、丙烯酸薄膜、聚降冰片烯基薄膜、聚碳酸酯基薄膜、聚砜基薄膜、聚醚砜基薄膜、聚苯乙烯基薄膜、聚醚醚酮基薄膜、聚乙烯醇基薄膜、聚乙酸乙烯酯基薄膜中的任意一种。
16.如权利要求15所述的光学薄膜，其中，所述聚合物溶液包括酰化纤维素树脂、溶剂和添加剂，且所述溶剂为选自二氯甲烷、乙酸甲酯、酮类、醇类及其混合物中的至少一种。
17.如权利要求16所述的光学薄膜，其中，所述添加剂为选自塑化剂、褪光剂、微粒粉末、表面活性剂、UV吸收剂、剥离剂、波长色散调整剂、光学各向异性控制剂及其混合物中的至少一种。
18.如权利要求13至17中任一项所述的光学薄膜，其具有5nm-20μ m的表面粗糙度 (Ra)。
19.如权利要求18所述的光学薄膜，其还包括在其任意一个表面或者两个表面上的选自下组中的至少一个涂层防刮透明涂层、防眩光涂层、低反射涂层、防反射涂层、防静电涂层或液晶涂层。
20.如权利要求19所述的光学薄膜，其具有20-150μ m的厚度。
全文摘要
本发明提供了用于平板显示(FPD)装置的光学薄膜及其制造方法。具体地，提供了将表面粗糙度赋予光学薄膜的方法，其包括通过溶液浇铸法在光学薄膜的表面上形成具有10nm-100μm曲率半径的凹陷的坑、以及在一个坑和另一个坑之间形成台地。也提供了使用同一方法获得的光学薄膜。
文档编号B29D11/00GK102574342SQ201080039978
公开日2012年7月11日 申请日期2010年9月2日 优先权日2009年9月8日
发明者丁光镇, 孙晟豪, 崔俊泰, 李喆浩, 赵容均, 金奕钱, 金琦烨, 金起范, 黄裕锡 申请人:Sk新技术株式会社