技术特征：
1.一种胶片预硫化用辐射室，包括主机辐照室(1)、屏蔽室上段(3)、屏蔽室下段(4)以及液压缸(5)，所述主机辐照室(1)位于固定架(2)顶端，所述屏蔽室上段(3)和屏蔽室下段(4)位于固定架(2)中下部，所述屏蔽室上段(3)内设置有电子束发射窗(17)，所述液压缸(5)位于固定架(2)底部，并且液压缸(5)的活塞杆与屏蔽室下段(4)连接；其特征在于：还包括第一马达(7)、第一主动轴(8)、第二马达(13)以及第二主动轴(14)；所述第一主动轴(8)和第二主动轴(14)均位于屏蔽室上段(3)与屏蔽室下段(4)围成的空间内，并且第一马达(7)的转轴驱动第一主动轴(8)，第二马达(13)的转轴驱动第二主动轴(14)；所述屏蔽室上段(3)与屏蔽室下段(4)的接缝处设置有外部传输辊机构(9)和内部传输辊机构(10)；所述屏蔽室下段(4)外部设置有第一传感器(6)和第四传感器(16)，所述屏蔽室下段(4)内部设置有第二传感器(12)和第三传感器(15)。2.根据权利要求1所述的一种胶片预硫化用辐射室，其特征在于：所述屏蔽室上段(3)与屏蔽室下段(4)形成两个主动轴舱室(19)和一个辐照舱室(18)，两个主动轴舱室(19)呈对称状分布在辐照舱室(18)两侧；所述第一主动轴(8)和第二主动轴(14)分别位于两个主动轴舱室(19)内，所述辐照舱室(18)位于电子束发射窗(17)的底端。3.根据权利要求2所述的一种胶片预硫化用辐射室，其特征在于：所述第一主动轴(8)和第二主动轴(14)分别通过轴承与辐照舱室(18)内壁活动连接，所述第一主动轴(8)和第二主动轴(14)的外周面上均设置有夹铅层；所述第一马达(7)和第二马达(13)均位于屏蔽室上段(3)的外壁上。4.根据权利要求3所述的一种胶片预硫化用辐射室，其特征在于：所述外部传输辊机构(9)具体位于主动轴舱室(19)与外部相通的接缝内，所述外部传输辊机构(9)具体由多个无动力辊组成，并且沿接缝的上下面呈直线阵列状布置。5.根据权利要求4所述的一种胶片预硫化用辐射室，其特征在于：所述内部传输辊机构(10)具体位于辐照舱室(18)与主动轴舱室(19)相通的接缝内，所述内部传输辊机构(10)具体由多个无动力辊组成，并且沿接缝的上下面呈直线阵列状布置。6.根据权利要求5所述的一种胶片预硫化用辐射室，其特征在于：所述外部传输辊机构(9)和内部传输辊机构(10)所处的接缝的宽度为30～600mm；所述外部传输辊机构(9)和内部传输辊机构(10)所处的接缝与水平面的夹角为25～75
°
。7.根据权利要求6所述的一种胶片预硫化用辐射室，其特征在于：所述辐照舱室(18)内设置有支撑辊(11)，所述支撑辊(11)位于电子束发射窗(17)下方两侧，所述支撑辊(11)具体为通水冷却辊。8.根据权利要求7所述的一种胶片预硫化用辐射室，其特征在于：所述屏蔽室下段(4)的两侧设置有过渡辊(20)，所述过渡辊(20)与外部传输辊机构(9)的两端位置相对应。9.根据权利要求8所述的一种胶片预硫化用辐射室，其特征在于：所述第一传感器(6)与第四传感器(16)的位置分别与两个外部传输辊机构(9)的外侧相对应；所述第二传感器(12)和第三传感器(15)分别位于两个主动轴舱室(19)内，并且分别与两个内部传输辊机构(10)的位置相对应。
技术总结
本发明涉及一种胶片预硫化用辐射室，包括主机辐照室、屏蔽室上段、屏蔽室下段以及液压缸，所述主机辐照室位于固定架顶端，所述屏蔽室上段和屏蔽室下段位于固定架中下部，所述屏蔽室上段内设置有电子束发射窗，所述液压缸位于固定架底部，并且液压缸的活塞杆与屏蔽室下段连接；还包括第一马达、第一主动轴、第二马达以及第二主动轴；所述屏蔽室上段与屏蔽室下段的接缝处设置有外部传输辊机构和内部传输辊机构。本发明直接对连续的胶片进行预硫化辐射处理，省去网链作为耗材需要停机更换的操作，同时简化屏蔽主体的结构，节省成本，减小占地面积，降低设备主要零部件的损耗，可实现厚度小于1mm的胶片的传输与预硫化处理。小于1mm的胶片的传输与预硫化处理。小于1mm的胶片的传输与预硫化处理。
技术研发人员：程永波 曹娟 黄伟
受保护的技术使用者：江苏久瑞高能电子有限公司
技术研发日：2021.08.03
技术公布日：2021/9/21