氯消毒水生成装置的制作方法

1.本发明涉及一种氯消毒水生成装置的盐水供给结构，更详细地涉及一种氯消毒水生成装置，在与溶解槽隔开划分的一侧空间配备有饱和盐捕集部及稀释水供给部，饱和盐捕集部以与溶解槽底部连接的形式形成于下部，在饱和盐捕集部上部以隔开划分的形式形成稀释水供给部，从而可将装置制作得更小、更轻。


背景技术：

2.通常，次氯酸钠(naocl，sodium hypochlorite)是作为净水厂、污水处理厂的杀菌装置、一般化学工厂的冷却用水锅炉、淡化工艺处理水、发电厂的冷却水处理、饮用水处理、植物及蔬菜、肉类加工、游泳池的洗涤及造纸、家用漂白剂使用的具有强氯气味的无色透明液体形态的氯系消毒剂。
3.生成这样的次氯酸钠时使用的非隔膜式次氯酸钠产生装置，将大量的盐在一定量及压力的引入水和水中沉淀并保持8～24小时，因此28
‑
30％的盐溶解并饱和的一定量及压力的饱和盐水通过泵等混合，在使得保持2.8
‑
3.0％盐度的稀释盐水通过无隔膜(离子交换膜)的具有一系列的电极(阳极、阴极)的电解槽的过程中，借助电极两侧附加的直流电压对稀释盐水中的盐进行电解。
4.即，向电解装置内流入的2.8
‑
3.0％的稀释盐水分解为钠离子(sodium ion.na+)和氯离子(chloride，cl
‑
)，氯离子在阳极氧化并成为氯(式1)，钠离子在阴极还原并生成钠(式2)，生成的钠与水反应成为氢氧化钠(naoh，苛性钠)和氢(式3)后，在阳极生成的氯和所述氢氧化钠进行反应并生成次氯酸钠(nacl)(式4)。
[0005][0006]
na++e
‑→
na
‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑
(式2)
[0007][0008]
naoh+cl2
→
naocl+hcl
‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑‑
(式4)
[0009]
如上生成的次氯酸钠作为盐水的安全的形态，在需要消毒或氧化的现场作为氯消毒剂或氧化剂使用，次氯酸钠的生产量和含有浓度根据法拉第定律，由混合了供给的引入水和盐水的稀释盐水来决定次氯酸钠的生产量及含有浓度。
[0010]
图1概略地示出根据现有技术的次氯酸钠产生装置的构成。如图1所示，这样的次氯酸钠产生装置包括将盐沉淀在水中的盐水储存槽10和具有一系列电极(阳极、阴极)的电解槽20，并且构成为在盐水储存槽10和电解槽20之间连接有将盐水供给至电解槽20的盐水供给管11。
[0011]
此外，供给引入水的引入水供给管12以连通的形式连接于盐水供给管11的一侧，当盐水储存槽10中的盐水向电解槽20移动的时候，起到将一定部分稀释后供给的作用。在盐水供给管11及引入水供给管12安装有流量计14及流量调节阀(未示出)。
[0012]
如上构成的次氯酸钠产生装置通过盐水供给管11从盐水储存槽10供给盐水的同时，如果通过引入水供给管12供给引入水，则借助引入水使得盐水一定部分得到稀释，该稀
释盐水(盐水1：引入水10)向电解槽20移动。
[0013]
此时，在通过具有一系列的电极(阳极、阴极)的电解槽20的过程中，借助在电极两侧分配的直流电压实现稀释盐水的电学分解和再结合，从而转换为适当有效盐水浓度的次氯酸钠，通过在电解槽的上端一侧连接设置的次氯酸钠排出管13排出并储存在一定场所。
[0014]
使用储存在一定场所的次氯酸钠时，根据使用的地方想要的氯需求量而和一定比例的使用水混合并使用。
[0015]
但是，这样结构的次氯酸钠产生装置使用如下的方式：在形成有现有水压的水道栓或配管中分支并引入电解槽的配管，设置电动开关阀或减压阀或流量调节阀，从而调节引入水的流量和压力，此时如果配管内的压力变动，则流入电解槽的引入水的流量和压力也变动，因此从电解槽产生的次氯酸钠的浓度和生产量不同，水量急剧减小的情况，由于过热导致电解装置被加热并损伤，此外，问题在于，如果电解装置的运转中停电，则打开的电动开关阀不关闭，引入水持续供给至未运转的电解装置，因此使得已生成并储存在储存槽的次氯酸钠的浓度降低，或溢出储存槽。
[0016]
此外，在从电解槽中排出的次氯酸钠中稀释一定量的引入水，适应被清洗物的对象，为了获得想要的浓度的氯消毒水，设置于引入水供给泵的出口和消毒水使用处配管之间的流量调节阀及螺线管形电动阀以串联连接的形态一个个设置，因此存在需根据消毒剂的使用目的逐个调节流量调节阀的不便。
[0017]
此外，问题在于，电解槽的次氯酸钠排出口与另外的次氯酸钠储存槽连接的情况，在次氯酸钠储存槽和消毒水使用处的配管之间另外设置次氯酸钠供给用泵，从而存在需适应引入水的引入量及压力来调节次氯酸钠供给量的不便，以及因另外设置次氯酸钠储存槽和泵造成产品生产成本上升等问题。
[0018]
(专利文献1)韩国登记专利第10
‑
0964878(登记日：2010年06月11日)


技术实现要素：

[0019]
为了解决现有技术的问题而提出的本发明，目的在于，提供一种氯消毒水生成装置的盐水供给结构，其可通过盐水供给部将优质的盐水稳定地供给至电解槽，从而提高电解效率。
[0020]
本发明的另一个目的在于，提供一种氯消毒水生成装置的盐水供给结构，在盐水供给部内设置另外的饱和盐捕集部，从而可更稳定地大量供给饱和盐，由此可提高消毒水作业时间及作业容量。
[0021]
本发明的又另一个目的在于，在和溶解槽隔开划分的一侧空间配备饱和盐捕集部及稀释水供给部，饱和盐捕集部以与溶解槽底部连接的形式形成于下部，在饱和盐捕集部上部以隔开划分的形式形成稀释水供给部，从而更小且轻地制作装置。
[0022]
本发明的又另一个目的在于，在溶解槽上部形成喷射引入水的引入水喷射喷嘴，使得引入水喷射喷嘴的喷射方向朝向溶解槽的上部内壁面喷射，从而防止盐固着在溶解槽壁面。
[0023]
本发明的又另一个目的在于，在供给盐水供给部的引入水的入口设置温度传感器，温度传感器测量引入水的温度并将测量的值通报给中央处理器(cpu，central processing unit)，中央处理器判断温度传感器的测量值，在设定值以下的情况判断为冻
破危险并对其进行提醒警报，从而使用者进行应对。
[0024]
本发明的又另一个目的在于，中央处理器判断温度传感器的值，为了使得次氯生成部的电解温度总是保持基准值，通过电流控制部控制电解槽的供给电流，从而保持一定的杀菌水的品质。
[0025]
本发明的又另一个目的在于，中央处理器通过控制第一泵及第二泵来调节饱和盐水和稀释水的混合比，从而保持一定的溶质供给量。
[0026]
本发明的又另一个目的在于，在盐水液位开关形成用于去除盐分的清洁用水喷射喷嘴，从而使得水位调节功能总是正常运转。
[0027]
本发明的又另一个目的在于，在稀释部末端形成用于解除氯消毒水供给线路的压力的压力解除装置，从而使得再使用装置时运转顺畅地重启。
[0028]
根据本发明的一个方面，可提供一种氯消毒水生成装置，其特征在于，将盐水供给部、次氯生成部和控制部配置于一个本体箱，盐水供给部在供给饱和盐水的配管线路以一定比例混合引入水而生成稀释盐水；次氯生成部，其接收稀释盐水的供给并经过电解过程而生成次氯酸钠，并将次氯酸钠以想要的比例混合引入水，从而生成氯消毒水；以及控制部，其控制盐水供给部和次氯生成部，盐水供给部形成有溶解槽，在与溶解槽隔开划分的一侧空间配备有饱和盐捕集部及稀释水供给部，所述饱和盐捕集部以与溶解槽底部连接的形式形成于下部，在饱和盐捕集部上部以隔开划分的形式形成稀释水供给部。
[0029]
本发明的效果在于，通过盐水供给部可将优质的盐水稳定地供给至电解槽，从而提高电解效率。
[0030]
此外，本发明的效果在于，在盐水供给部内设置另外的饱和盐捕集部，从而可更稳定地大量供给饱和盐，由此可提高消毒水作业时间及作业容量。
[0031]
此外，本发明的效果在于，在和溶解槽隔开划分的一侧空间配备饱和盐捕集部及稀释水供给部，饱和盐捕集部以与溶解槽底部连接的形式形成于下部，在饱和盐捕集部上部以隔开划分的形式形成稀释水供给部，从而可更小且轻地制作装置，不仅节约制作费，且管理和搬运方便。
[0032]
此外，本发明的效果在于，在溶解槽上部形成喷射引入水的引入水喷射喷嘴，使得引入水喷射喷嘴的喷射方向朝向溶解槽的上部内壁面喷射，从而防止盐固着在溶解槽壁面，保持平均的盐水浓度，从而生成平均品质的杀菌水。
[0033]
此外，本发明的效果在于，防止盐固着在溶解槽壁面，从而预先防止产生盐溢出溶解槽外的现象或盐散布在装置内部或内部部件从而导致故障及腐蚀的问题。
[0034]
此外，本发明的效果在于，在供给盐水供给部的引入水的入口设置有温度传感器，温度传感器测量引入水的温度并将测量的值通报给中央处理器，中央处理器判断温度传感器的测量值，在设定值以下的情况判断为冻破危险并对其进行提醒警报，从而使用者进行应对并防止装置出故障。
[0035]
此外，本发明的效果在于，中央处理器判断温度传感器的值，为了使得次氯生成部的电解温度总是保持基准值，通过电流控制部控制电解槽的供给电流，从而保持一定的杀菌水的品质，预防因季节性的引入水温度变化及地球变暖导致的引入水温度上升的问题，保持一定的电解槽内的反应温度及电解电流量变化，预防因过电流导致的电源供给装置的故障问题，保持一定的杀菌水浓度，从而提供平均的品质的杀菌水。
[0036]
此外，本发明的效果在于，中央处理器通过控制第一泵及第二泵来调节饱和盐水和稀释水的混合比，从而保持一定的溶质供给量，并保持一定的因盐水供给装置和溶质稀释水供给装置的排出侧压力变化导致的溶质供给量变化及电解质浓度、杀菌水的浓度变化。
[0037]
此外，本发明的效果在于，在盐水液位开关形成有用于去除盐分的清洁用水喷射喷嘴，使得水位调节功能总是正常运转，从而使用方便。
[0038]
此外，本发明的效果在于，在稀释部末端形成有用于解除氯消毒水供给线路的压力的压力解除装置，从而使得再使用装置时运转顺畅地重启，使用方便。
附图说明
[0039]
图1是现有的非隔膜式次氯酸钠产生装置的构成图。
[0040]
图2是根据本发明的氯消毒水生成装置的概略构成图。
[0041]
图3是示出图2的次氯生成部的分解立体图。
[0042]
图4是根据本发明另一个实施例的氯消毒水生成装置的概略构成图。
[0043]
标号说明
[0044]
100：箱200：盐水供给部
[0045]
210：分流部220：溶解槽
[0046]
221：引入水喷射喷嘴223：过滤器
[0047]
225：饱和盐捕集部227：盐水液位开关
[0048]
229：清洁用水喷射喷嘴
[0049]
230：稀释水供给部231：稀释水液位开关
[0050]
240：第一泵250：第二泵
[0051]
300：次氯生成部
[0052]
301：第一主体301a：原水注入口
[0053]
301b：退水口302：第二主体
[0054]
302a：盐水注入口302b：退水口
[0055]
302c：次氯排出口303：隔墙
[0056]
303a：第一流路303b：第二流路
[0057]
303c：第三流路303d：弯管
[0058]
303e：逆流防止阻尼器310：冷却槽
[0059]
320：电解槽330：氢分离槽
[0060]
340：稀释槽500：控制部
[0061]
510：中央处理器520：电流控制部
具体实施方式
[0062]
以下，参照附图对本发明的优选实施例进行仔细的说明。
[0063]
图2是根据本发明的氯消毒水生成装置的概略构成图。
[0064]
参照图2，公开了一种氯消毒水生成装置，其将盐水供给部200、次氯生成部300和控制部500配置于一个本体箱100，盐水供给部200在供给饱和盐水的配管线路以一定比例
混合引入水而生成稀释盐水，次氯生成部300接收稀释盐水的供给并经过电解过程而生成次氯酸钠，并将次氯酸钠以想要的比例混合引入水，从而生成氯消毒水，控制部500控制盐水供给部200和次氯生成部300。
[0065]
盐水供给部200形成有溶解槽220，在与溶解槽220隔开划分的一侧空间配备有饱和盐捕集部225及稀释水供给部230，所述饱和盐捕集部225以与溶解槽220底部连接的形式形成于下部，在饱和盐捕集部225上部以隔开划分的形式形成稀释水供给部230。
[0066]
盐水供给部200将溶解槽220、饱和盐捕集部225、稀释水供给部230以一体型设置于一个箱内，如此若在一体型箱内将溶解槽220、饱和盐捕集部225、稀释水供给部230形成为一体，则优点在于，可更小且轻地制作装置，通过制作工艺及组装工艺的单纯化可节约制作费用。
[0067]
此外，优点在于，通过装置的小型化管理或搬运装置变得容易。
[0068]
在溶解槽220上部形成有喷射引入水的引入水喷射喷嘴221。此时，引入水喷射喷嘴221的喷嘴方向朝向溶解槽220的上部内壁面，引入水喷射在溶解槽220的上部内壁面，顺着壁面向下流。
[0069]
此外，优选地，引入水喷射喷嘴221的喷射角较大，从而在4个方向壁面均匀地喷射。
[0070]
参照图2，虽然例示了引入水喷射喷嘴221以从左侧壁面朝向右侧壁面喷射的形式设置，但不限定于此，也可以是以从上部中央喷射的引入水同时击打溶解槽220的前、后、左、右面的形式广角喷射的方式，或也可以形成4方向喷射喷嘴。
[0071]
这样的本发明起到防止引入水喷射喷嘴221供给引入水的同时在溶解槽壁面固着盐结晶的作用。
[0072]
其优点在于，可平均地调节溶解槽220的盐水浓度，从而保持一定的最终生成的杀菌水的品质。
[0073]
此外，本发明防止盐在溶解槽220壁面固着，从而在维护上也存在有利的方面。例如，可防止因向溶解槽220外溢出盐结晶的现象而在装置内部或内部部件散落盐从而可能引起多种故障及腐蚀等的问题。
[0074]
此时，在溶解槽220中，盐溶解在一定量的水中，从而生成具有28
‑
30％的浓度的饱和盐。
[0075]
并且，在溶解槽220底部的饱和盐捕集部225入口可以形成有过滤器223。
[0076]
例如，在溶解槽220中溶解的盐水向饱和盐捕集部225移动，在移动路径上设置过滤器223从而过滤异物。
[0077]
并且，在饱和盐捕集部225内形成有盐水液位开关227。
[0078]
此时，盐水液位开关227设置于饱和盐捕集部225上部，感知饱和盐水位下降到一定以下并控制引入水的供给。
[0079]
盐水液位开关227可使用漂浮方式，此时可能会产生盐结晶附着于旋动部而未运转的情况。因此，本发明中应对这种情况，可在盐水液位开关227形成有用于去除盐分的清洁用水喷射喷嘴229。
[0080]
优选地，清洁用水喷射喷嘴229间歇性或周期性地喷射水，去除固着在盐水液位开关227的盐结晶，此时喷射的水的量控制为不对整体饱和盐的浓度，即最终生成的杀菌水的
品质造成影响的程度。
[0081]
此时，饱和盐捕集部225内的饱和盐水通过第一泵240移送至次氯生成部300。
[0082]
并且，在设置于饱和盐捕集部225上部的稀释水供给部230内也可同样地形成稀释水液位开关231，感知水位下降到一定以下并控制引入水的供给。
[0083]
此时，稀释水供给部230内的稀释水通过第二泵250移送至次氯生成部300。
[0084]
在此，通过第一泵240移送的饱和盐水和通过第二泵250移送的稀释水合流至一个管路并供给至次氯生成部300，分别控制第一泵240和第二泵250的移送量，以便将以2.8
‑
3.0％比例稀释的盐水供给至次氯生成部300。
[0085]
此外，从盐水供给部200连接至次氯生成部300的管路以在箱100内部直接连接的形式设置，但也可设置分流部210，从箱100的外部引导管路的一部分，从而可在向箱100外部露出的管路中间任意地连接或切断。
[0086]
这样的分流部210在使用消毒水生成装置时起到供给稀释盐水的管路的作用，在使用消毒水生成装置后长时间未使用时可起到分离管路并将盐水供给部内的盐水向外部排出的退水通道等的作用。
[0087]
图3是示出图2的次氯生成部的分解立体图，下面参照图3对次氯生成部300进行说明。
[0088]
次氯生成部300包括电解槽的构成，电解槽用于接收稀释盐水的供给并进行电解，从而生成次氯酸钠(以下，称为次氯)。
[0089]
次氯生成部300在中间设置有隔墙303，第一主体301和第二主体302面对面结合，第一主体301和第二主体302使得各自面对的内面陷落而划分出多个分离空间，各个空间通过形成于隔墙303的规定位置的流路而连通，从而形成各阶段的移动通路。
[0090]
第一主体301将一定厚度的合成树脂板材的一侧面向内侧方向陷落，从而确保冷却槽310和氢分离槽330的空间部。
[0091]
冷却槽310为通过水管线路接收从外部直接供给引入水的地点，划分在第一主体301的下侧。
[0092]
在冷却槽310的下部壁面形成有与外部引入水线路连接的原水注入口301a，优选地，原水注入口301a的位置为冷却槽310的下部中央位置。
[0093]
此外，在冷却槽310的底部一侧形成有之后用于将冷却槽310内部的水向外部排出的退水口301b。
[0094]
此时，通过原水注入口301a供给的流入水向冷却槽310的上部地点移动，并向稀释槽340侧移动，在设置于冷却槽310和稀释槽340之间的隔墙303形成有连接两侧的第二流路303b。
[0095]
此时，在原水注入口301a上侧形成有板状的水压分散挡边301c，可防止通过水管线路供给的流入水的强水压与水压分散挡边301c冲突而导致压力集中的现象。
[0096]
并且，在冷却槽310的上部形成有氢分离槽330。
[0097]
氢分离槽330形成为由垂直区间和水平区间组成的形状，垂直区间的下部形成于可与第二主体302侧的电解槽320侧连通的对向位置，水平区间形成于可与第二主体302侧的稀释槽340侧连通的对向位置。
[0098]
此时，划分在氢分离槽330的下侧的冷却槽310形成有与氢分离槽330的形状
弯曲对应的划分边界面，向氢分离槽330的水平区间一侧形成有延长至与水平区间的高度对等的位置的排出部301d。此时，优选地，排出部301d的形状具有向上部逐渐变窄的漏斗形状，引导流入水的排出向一个地方聚集。
[0099]
并且，第二主体302将一定厚度的合成树脂板材的一侧面向内侧方向陷落，从而确保电解槽320和稀释槽340的空间部。
[0100]
电解槽320为接收从盐水供给部200供给的饱和盐水并进行电解的空间，设置有用于电解的多个电极板(未示出)，形成有大约矩形箱型的空间。
[0101]
在电解槽320下部一侧形成有盐水注入口302a，其接收从盐水供给部200侧供给的稀释盐水，在底部一侧形成有次氯排出口302c，其用于将内部的盐水向外部排出。
[0102]
此时，电解槽320的整体面积形成为在中间设置隔墙303并和冷却槽310对应，上侧一部分空间与氢分离槽330的垂直区间重叠，在与垂直区间重叠的部位的隔墙303钻孔，从而形成使得已电解的次氯向氢分离槽330移动的第一流路303a。
[0103]
对电解槽320的一般结构进行说明，在具有
“ロ”
形的框架的内部空间，阳极及阴极的电极板间隔一定间隔，以相互交错的形式设置，通过在一侧设置的盐水注入口接收2.8～3％的稀释盐水的供给，将其进行电解并生成次氯。
[0104]
生成的次氯向氢分离槽330移动，在电解过程中生成的氢气(h2)从氢分离槽330分离并排出。
[0105]
此时，比重小的氢气(h2)向氢分离槽330的上部聚集，倾斜地形成氢分离槽330的水平区间上端，从而与次氯的移动无关地，可引导氢气向倾斜面上侧聚集。
[0106]
本发明中，可另外形成有气体排出部，以从与电解槽320侧连通的区间向与稀释槽340侧连通的区间侧逐渐向下倾斜的形式形成氢分离槽330的水平区间上端，从而可引导氢气聚集在氢分离槽330垂直区间末端部并将其向外部排出。
[0107]
并且，在电解槽320的上部形成有稀释槽340，其将经过电解槽320及氢分离槽330的次氯酸钠(次氯)和引入水混合，从而生成想要的比例的氯消毒水。
[0108]
稀释槽340形成有从电解槽320上部沿长度方向延长的矩形箱型的空间。
[0109]
此时，在稀释槽340的一侧形成有次氯排出口302c，将与引入水混合而稀释的次氯最终排出。
[0110]
此时，稀释槽340的整体面积中一侧末端部分区域与冷却槽310的排出部301d及氢分离槽330的水平区间端部重叠，在与氢分离槽330的水平区间端部重叠的部位的隔墙303钻孔，从而形成使得次氯向稀释槽340内流入的第二流路303b，在与冷却槽310的排出部301d重叠的部位的隔墙303钻孔，从而形成使得冷却水向稀释槽340内流入的第三流路303c。
[0111]
此时，随着第二流路303b和第三流路303c在邻接部位形成，由于流入稀释槽340的引入水的压力差可能会产生引入水向供给次氯的氢分离槽330侧逆流的问题，为了防止这种问题，在供给次氯的第三流路303c侧设置有弯管303d，弯管的排出侧端部朝向次氯排出口302c侧，从而可防止通过第二流路303b流入的流入水的逆流。
[0112]
此时，还可设置有逆流防止阻尼器303e，其延长至弯管303d的排出侧端部，逆流防止阻尼器303e起到从根本上切断流入水(原水)向氢分离槽330流入的止回阀的作用。
[0113]
并且，逆流防止阻尼器303e防止在消毒水生成装置的使用后因形成于管路的压力
造成流体的移动逆流，再使用装置时起到使得运转顺畅地重启的压力控制装置的作用。
[0114]
对根据本发明的次氯生成部300的作用进行说明，首先将盐水从盐水供给部200侧供给至电解槽320。然后，在电解槽320经过电解过程的盐水生成有效盐水浓度为3100
‑
8000ppm的次氯酸钠(次氯)。
[0115]
这样的高浓度次氯经过氢分离槽330与氢气分离，仅将纯粹的次氯供给至稀释槽340。
[0116]
此时，经过氢分离槽330的次氯和通过冷却槽310流入的流入水在稀释槽340汇合并稀释为适当浓度后，作为氯消毒水使用。
[0117]
这样的稀释槽340根据引入水的流量及次氯的流量可生成多种浓度的氯消毒水。
[0118]
例如，可生成用于清洗或消毒手、抹布、擦布、案板等的稀释为100ppm的浓度的高浓度的氯消毒水，用于清洗肉或生鲜类的稀释为50ppm的浓度的中浓度的氯消毒水，用于清洗蔬菜或水果的稀释为30ppm的浓度的低浓度的氯消毒水。
[0119]
并且，在供给盐水供给部200的引入水的入口设置有温度传感器t。
[0120]
温度传感器t测量引入水的温度并将测量的值通报给中央处理器510，中央处理器510判断温度传感器的测量值，在设定值以下的情况判断为冻破危险并向使用者发出提醒警报。
[0121]
参照附图中省略了对提醒装置的示出。
[0122]
这样的本发明使得使用者认知冻破危险，并对此进行预先应对，从而可以预防冬季装置无法使用的问题。
[0123]
并且，中央处理器510判断温度传感器t的值，为了使得次氯生成部300的电解温度总是保持基准值，通过电流控制部520控制电解槽的供给电流。
[0124]
例如，可事先预防因季节性的引入水温度变化及地球变暖导致的引入水温度上升的问题使得电解槽内供给过电流，从而导致电源供给装置产生故障等问题的发生。
[0125]
这样的本发明保持一定的电解槽内的反应温度及电解电流量变化，从而保持一定的杀菌水浓度，生成平均品质的杀菌水。
[0126]
图4是根据本发明另一个实施例的氯消毒水生成装置的概略构成图，参照图4，将盐水供给部200以可分离的形式独立形成于另外的箱体后，可通过包括线缆610及软管620的连接装置600连接至装置本体而使用。
[0127]
如上所述，本发明的效果在于，通过盐水供给部可将优质的盐水稳定地供给至电解槽，从而提高电解效率。
[0128]
此外，本发明的效果在于，在盐水供给部内设置另外的饱和盐捕集部，从而可更稳定地大量供给饱和盐，由此可提高消毒水作业时间及作业容量。
[0129]
以上参照附图对本发明的实施例进行了说明，但可以理解的是，在本发明所属的技术领域内具有一般知识的人员不变更本发明的技术性思想或必要特征，可通过其他的具体的形态实施。例如，从业者可根据适用领域变更各构成要素的材质、大小等，或可组合或替换实施形态并以本发明的实施例中未明确公开的形态实施，但这也不脱离本发明的范围。因此，以上记述的实施例在所有方面是例示，不应理解为限定，这样变形的实施例应包括在本发明的权利要求书记载的技术思想内。