技术特征：
1.一种水消毒设备，其特征在于，所述水消毒设备包括：气体供应装置，所述气体供应装置用于供应气体；水供应装置，所述水供应装置用于供应水；负氧离子发生装置，所述负氧离子发生装置与所述气体供应装置和所述水供应装置分别流体连接，所述负氧离子发生装置包括电子释放极和负氧离子反应仓，所述负氧离子反应仓与所述气体供应装置流体连接以接收来自所述气体供应装置的气体，所述电子释放极位于所述负氧离子反应仓内，以在运行时向所述气体供应装置提供的气体释放电子，从而在所述气体中形成负氧离子，所述负氧离子反应仓与所述水供应装置流体连接以将包含所述负氧离子的气体输送到所述水供应装置。2.根据权利要求1所述的水消毒设备，其特征在于，还包括臭氧发生器，所述臭氧发生器与所述水供应装置流体连接，并且可选地所述臭氧发生器相对于所述负氧离子发生装置位于所述水供应装置的上游，以将由所述臭氧发生器产生的臭氧注入所述水供应装置。3.根据权利要求1所述的水消毒设备，其特征在于，还包括臭氧发生器，所述臭氧发生器与另一水供应装置流体连接以将由所述臭氧发生器产生的臭氧注入所述另一水供应装置，所述另一水供应装置与所述水供应装置流体连通，其中，从所述另一水供应装置流出的包含臭氧的水被供应到所述水供应装置，或者来自所述水供应装置的、已接收包含所述负氧离子的气体的水被供应到所述另一水供应装置，或者从所述另一水供应装置流出的包含臭氧的水与来自所述水供应装置的、已接收包含所述负氧离子的气体的水被分别注入另一容器中以进行混合。4.根据权利要求1-3中任一项所述的水消毒设备，其特征在于，所述水消毒设备还包括紫外线消毒装置，所述紫外线消毒装置沿水流方向位于所述负氧离子发生装置的上游或下游，以对所述水消毒设备中的水紫外杀菌；或者/并且所述水消毒设备还包括红外辐射装置，所述红外辐射装置沿水流方向位于所述负氧离子发生装置的上游或下游，以对所述水消毒设备中的水进行红外照射。5.根据权利要求1-3中任一项所述的水消毒设备，其特征在于，可选地，所述水供应装置是水管或者是用于存储水的容器，所述另一水供应装置是水管或者是用于存储水的容器，可选地，所述水在所述水消毒设备中被循环多次。6.一种水消毒方法，其特征在于，所述水消毒方法包括：利用负氧离子发生装置在负氧离子反应仓中产生电子，从而在所述负氧离子反应仓中的气体中形成负氧离子；含有所述负氧离子的气体被输送到水供应装置的水中，从而在所述水中生成氢氧根离子。7.根据权利要求6所述的水消毒方法，其特征在于，所述水消毒方法还包括为所述水提供臭氧，从而使得臭氧与氢氧根离子相反应以生成羟基自由基：可选地，所述水消毒方法还包括将含有所述负氧离子的气体连续地或者断续地输送到所述水中；可选地，所述水消毒方法还包括将含有所述负氧离子的气体和/或臭氧连续地或者断续地输送到所述水中；可选地，所述水消毒方法还包括将含有氢氧根离子的水与含有臭氧的水输送到另一容器中以进行混合；可选地，所述水消毒方法还包括将所述水进行紫外杀菌处理和/或红外辐射处理。
8.采用如权利要求1-5中任一项所述的水消毒设备实现的水消毒方法，其特征在于，所述水消毒方法包括：通过气体供应装置将气体供应到负氧离子反应仓；通过负氧离子发生装置的电子释放极向含有气体的负氧离子反应仓释放电子，从而在所述气体中形成负氧离子；将包含所述负氧离子的气体输送到水供应装置，从而在水供应装置的水中生成氢氧根离子。9.根据权利要求8所述的水消毒方法，其特征在于，可选地，所述水消毒方法还包括通过臭氧发生器为所述水供应装置或另一水供应装置的水提供臭氧，并且使得臭氧与来自水供应装置中的水中的氢氧根离子相反应以生成羟基自由基；可选地，所述水消毒方法还包括将含有所述负氧离子的气体连续地或者断续地输送到水供应装置；可选地，所述水消毒方法还包括将含有所述负氧离子的气体和/或通过臭氧发生器产生的臭氧连续地或者断续地输送到水供应装置或另一水供应装置中；可选地，所述水消毒方法还包括将来自水供应装置中的含有氢氧根离子的水与来自另一水供应装置中的含有臭氧的水输送到另一容器中以进行混合。10.根据权利要求8或9所述的水消毒方法，其特征在于，所述水消毒方法还包括将所述水消毒设备中的水通过紫外线消毒装置进行紫外杀菌处理和/或通过红外辐射装置进行红外辐射处理。
技术总结
本发明涉及一种水消毒设备和水消毒方法。水消毒设备包括气体供应装置，用于供应气体；水供应装置，用于供应水；负氧离子发生装置，与气体供应装置和水供应装置分别流体连接，负氧离子发生装置包括电子释放极和负氧离子反应仓，负氧离子反应仓与气体供应装置流体连接以接收来自气体供应装置的气体，电子释放极位于负氧离子反应仓内，以在运行时向气体供应装置提供的气体释放电子，从而在气体中形成负氧离子，负氧离子反应仓与水供应装置流体连接以将包含负氧离子的气体输送到水供应装置。本发明的水消毒设备和方法，可以对水在流动过程中实现消毒。现消毒。现消毒。
技术研发人员：唐丹天
受保护的技术使用者：北京欣天和怡光电科技有限公司
技术研发日：2021.02.09
技术公布日：2022/8/16