一种清洗工装

1.本发明涉及光学基底清洗技术领域，尤其涉及一种适用于大口径光学基底的清洗工装。


背景技术：

2.超声波清洗技术是目前最普遍的光学基底清洗技术之一。由于其操作流程简单，清洗效果明显被广泛用于工厂、实验室等对光学基底的清洗处理领域。
3.超声波清洗是利用超声波在液体中传播时产生的空化作用，传递的能量，以及搅拌作用实现对样品的清洗的。其中，空化作用是指超声波作为压力波在液体中传播时，由于负压作用产生空穴，在正压时，空穴又被压碎产生强大的冲击力，由此使样品表面污染物剥离脱落的现象。传递的能量是超声波本身在液体中传播时，所携带的能量使样品表面污染物震荡剥离的现象。搅拌作用是指，超声波在液体中传播引起的水流变化，将样品表面污染物带离的作用。在恰当的液体温度、超声波频率、功率以及清洗溶剂的选择下，超声波可以实现较为理想的光学基底的清洗。超声波清洗的一般流程是将待洗件垂直放入清洗花篮中，利用夹持机构在待洗件侧面夹紧，使待洗件稳定且清洗面与液体完全接触。之后将清洗花篮依次放置到不同频率的超声波清洗槽中，一般在第一个清洗槽中会添加相应的清洗剂来提高清洗效果。之后还需将清洗花篮放入慢拉脱水、酒精烘干等用于脱水烘干的设备中，避免在清洗面留下水渍。
4.在超声波清洗过程，清洗花篮作为夹持支撑工具是十分重要的。目前大多数清洗花篮采用垂直放入的方式，这种放置方式会在光学表面上残留水痕，同时易碰触到光学表面造成损伤。


技术实现要素：

5.本发明的目的在于提供一种清洗工装，其旨在解决清洗花篮采用垂直放入的方式，这种放置方式会在光学表面上残留水痕，同时易碰触到光学表面造成损伤的技术问题。
6.为达到上述目的，本发明提供的方案是：一种清洗工装，包括框体和设置在所述框体上的限位结构，所述框体包括底部支撑结构、顶部支撑结构、以及连接所述顶部支撑结构和所述底部支撑结构的连接杆，所述限位结构包括底板和与所述底板垂直连接的背板，所述底板安装在所述底部支撑结构上，所述背板上部抵靠在所述顶部支撑结构上，且所述底板背离所述底部支撑结构的侧面和所述背板背离所述顶部支撑结构的侧面均设置有若干个锯齿结构，相邻两个所述锯齿结构形成沟槽。
7.优选地，所述背板上的锯齿结构阵列设置。
8.优选地，所述底板上的锯齿结构阵列设置。
9.优选地，所述底部支撑结构呈井字形设置，所述顶部支撑结构呈井字形设置，所述底部支撑结构和所述顶部支撑结构之间通过四根所述连接杆连接。
10.优选地，所述框体还包括第一限位横梁，所述第一限位横梁连接在所述背板背离
所述顶部支撑结构的一侧的两根所述连接杆。
11.优选地，所述框体还包括第二限位横梁，所述第二限位横梁连接在所述背板靠近所述顶部支撑结构的一侧的两根所述连接杆。
12.本发明提供的清洗工装在限位结构上设置有锯齿结构，使得光学基底能够倾斜放置在清洗工装内的，因此，利用该清洗工装对光学基底清洗时能够避免光学基底的光学表面残留水渍的问题，同时有效避免光学基底的光学表面由于接触造成的损伤。
附图说明
13.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
14.图1是本发明实施例提供的清洗工装的结构示意图；
15.图2是本发明实施例提供的清洗工装的使用状态图。
16.附图标号说明：
17.10、框体；11、底部支撑结构；12、顶部支撑结构；13、连接杆；14、第一限位横梁；15、第二限位横梁；
18.20、限位结构；21、底板；22、背板；23、锯齿结构；
19.2、光学基底。
具体实施方式
20.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
21.需要说明，本发明实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
22.还需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件上时，它可以直接在另一个元件上或者可能同时存在居中元件。当一个元件被称为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接另一个元件或者可能同时存在居中元件。
23.另外，在本发明中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本发明要求的保护范围之内。
24.如图1至图2所示，其为本发明的一种实施例的清洗工装，其适用于大口径光学基底，并且适用于不同尺寸规格的大口径光学基底。大口径光基底指的是如直径150mm
‑
450mm
左右，厚度100mm
‑
200mm左右的光学基底。
25.请参阅图1
‑
图2，本发明实施例的清洗工装包括框体10和设置在框体10上的限位结构20，框体10包括底部支撑结构11、顶部支撑结构12、以及连接顶部支撑结构12和底部支撑结构11的连接杆13，限位结构20包括底板21和与底板21垂直连接的背板22，底板21安装在底部支撑结构11上，背板22上部抵靠在顶部支撑结构12上，且底板21背离底部支撑结构11的侧面和背板22背离顶部支撑结构12的侧面均设置有若干个锯齿结构23，相邻两个锯齿结构23之间形成沟槽，用于在水平方向限制光学基底2的移动，保证光学基底2在工装上的位置不变。
26.具体地，限位结构20与框体10焊接为一体，能够提高限位结构20与框体10的连接可靠性。
27.请参阅图2，在放置光学基底2(单面抛光)时，光学基底2的光学表面朝上，非光学表面朝下，将光学基底2倾斜放入清洗工装内，即光学基底2一端靠在背板22上，并嵌入沟槽中，另一端靠在底板21上，并嵌入相邻两个锯齿结构23形成的沟槽中，这样，光学基底2就能够稳定可靠地支撑在清洗工装内，不会发生水平移动。由于光学基底2是倾斜放置在清洗工装内的，因此，利用该清洗工装对光学基底2清洗时能够避免光学基底2的光学表面残留水渍的问题，同时有效避免光学基底2的光学表面由于接触造成的损伤。
28.而且，本发明实施例的清洗工装结构简单，设计巧妙，实用性强，能够适用于不同尺寸规格的大口径光学基底2。
29.可选地，为了方便制造，背板22上的锯齿结构23阵列设置，同理，底板21上的锯齿结构23也阵列设置。
30.可选地，框体10整体为由不锈钢的材料杆构成的立方体框架。具体地，底部支撑结构11呈井字形设置，顶部支撑结构12呈井字形设置，两者之间通过四根连接杆13连接。不锈钢具有耐腐蚀的优点，能够保证在使用时具有高清洁度，不会染清洗设备和光学基底2。
31.进一步地，框体10还包括第一限位横梁14和第二限位横梁15，其中第一限位横梁14连接在背板22背离顶部支撑结构12的一侧(背板22前方)的两根连接杆13上，用于限制光学基底2的移动，避免在放置光学基底2时，倾斜过度导致光学基底2滑出清洗工装。第二限位横梁15连接在背板22靠近顶部支撑结构12的一侧(背板22后方)的两根连接杆13上，起到加固作用，提高对背板22的支撑力。
32.可以理解地，第一限位横梁14和第二限位横梁15可以单独设置，也可以同时设置。
33.以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是在本发明的发明构思下，利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本发明的专利保护范围内。