一种半导体加工用清洁装置的制作方法

1.本实用新型涉及清洁装置技术领域，特别涉及一种半导体加工用清洁装置。


背景技术：

2.半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域都有应用，如二极管就是采用半导体制作的器件，无论从科技或是经济发展的角度来看，半导体的重要性都是非常巨大的，大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关联，常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，硅是各种半导体材料应用中最具有影响力的一种。
3.但现有的半导体加工用清洁装置仍然有一些不足之处：
4.半导体搁置到清洁装置的内部进行清洁，需要与特定的清洗剂一同搅拌清洗，但清洁装置多为固定状态，有较多的清洗剂未与半导体充分反应，造成了清洗剂的浪费，且半导体的清洁度较低，同时半导体没有外力的作用下将有较多的面积未清洗干净，需要工作人员不断翻动半导体，耗时耗力。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供一种半导体加工用清洁装置，以解决上述背景技术中提出的清洁装置多为固定状态，有较多的清洗剂未与半导体充分反应，造成了清洗剂的浪费，半导体没有外力的作用下将有较多的面积未清洗干净的问题。
6.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种半导体加工用清洁装置，包括清洁装置本体，所述清洁装置本体的顶端活动铰接有翻盖，所述清洁装置本体内壁的一侧固定安装有电机座，所述电机座的顶端固定安装有电机，所述电机的输出轴传动连接有旋转柱，所述旋转柱的一端与清洁装置本体内壁的另一侧穿插连接，所述旋转柱的一端部固定套设有两个辅助套，两个所述辅助套的两侧均活动铰接有弧形块，其中两个所述弧形块的两侧均设有连接架，相邻的两个所述连接架的内壁之间均穿插连接有转轴。
7.作为本实用新型的一种优选技术方案，其中两个所述弧形块的两侧分别与四个连接架的一侧固定连接，四个所述弧形块设置的位置为等间距排列。
8.作为本实用新型的一种优选技术方案，两个所述转轴的一端部均活动套设有连接套筒，两个所述连接套筒的顶端均活动铰接有延展架，两个所述延展架的顶端均活动铰接有多个弹力球。
9.作为本实用新型的一种优选技术方案，多个所述弹力球设置的位置为等间距排列，两个所述连接套筒的开口直径均大于两个转轴的开口直径。
10.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述清洁装置本体内壁的两侧均固定安装有三个第一弹簧，相邻的三个所述第一弹簧的一端均固定安装有清洁箱。
11.作为本实用新型的一种优选技术方案，两个所述清洁箱的一侧通过三个第二弹簧
固定连接，两个所述清洁箱顶端的中部均穿插连接有活动柱。
12.作为本实用新型的一种优选技术方案，两个所述活动柱的一侧均活动铰接有搅拌架，两个所述搅拌架设置的位置相对应。
13.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
14.1、本实用新型一种半导体加工用清洁装置，通过设置了电机、旋转柱、辅助套、连接架和第二弹簧，启动电机，将带动着旋转柱转动，从而带动两个固定套设在旋转柱一端部的辅助套转动，辅助套两侧活动铰接的弧形块为凸出状态，当其转动到清洁箱的底部时，将带动着多个弹力球与清洁箱的底部相互撞击，从而提高了清洁箱的晃动频率，使清洁箱内部储存的清洗剂能够快速的流动，从而可以与半导体充分接触，通过该结构有效的提高了对半导体的清洁力度，避免了清洗剂的资源浪费。
15.2、本实用新型一种半导体加工用清洁装置，通过设置了清洁箱、活动柱、搅拌架、弹力球和延展架，两个清洁箱的一侧通过对应安装的三个第一弹簧相连接，且两个清洁箱的另一侧通过三个第二弹簧弹性连接，因此在清洁箱受到撞击与挤压时，将不同程度的发生晃动，当弹力球转动到活动柱的底部后，将会带动着活动柱活动，从而使搅拌架也会跟着转动，搅拌架与半导体相接触，能够对半导体进行翻转，从而增加了半导体与清洗剂的接触面积，节省了工作人员后期翻转半导体的时间。
附图说明
16.图1为本实用新型的正视结构示意图；
17.图2为本实用新型的图1中a处的放大图；
18.图3为本实用新型的局部仰视结构示意图；
19.图4为本实用新型的图3中b处的放大图。
20.图中：1、清洁装置本体；2、翻盖；3、电机；4、旋转柱；5、辅助套；6、弧形块；7、连接架；8、转轴；9、连接套筒；10、延展架；11、弹力球；12、第一弹簧；13、清洁箱；14、第二弹簧；15、活动柱；16、搅拌架。
具体实施方式
21.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
22.请参阅图1-4，本实用新型提供了一种半导体加工用清洁装置的技术方案：
23.实施例一：
24.如图1-3所示，一种半导体加工用清洁装置，包括清洁装置本体1，清洁装置本体1的顶端活动铰接有翻盖2，清洁装置本体1内壁的一侧固定安装有电机座，电机座的顶端固定安装有电机3，电机3的输出轴传动连接有旋转柱4，旋转柱4的一端与清洁装置本体1内壁的另一侧穿插连接，旋转柱4的一端部固定套设有两个辅助套5，两个辅助套5的两侧均活动铰接有弧形块6，其中两个弧形块6的两侧均设有连接架7，相邻的两个连接架7的内壁之间均穿插连接有转轴8，多个弹力球11设置的位置为等间距排列，两个连接套筒9的开口直径
均大于两个转轴8的开口直径，启动电机3，将带动着旋转柱4转动，从而带动两个固定套设在旋转柱4一端部的辅助套5转动，辅助套5两侧活动铰接的弧形块6为凸出状态，当其转动到清洁箱13的底部时，将带动着多个弹力球11与清洁箱13的底部相互撞击，从而提高了清洁箱13的晃动频率。
25.实施例二：
26.在实施例一的基础上，如图1和图4所示，清洁装置本体1内壁的两侧均固定安装有三个第一弹簧12，相邻的三个第一弹簧12的一端均固定安装有清洁箱13，两个清洁箱13的一侧通过三个第二弹簧14固定连接，两个清洁箱13顶端的中部均穿插连接有活动柱15，本实用新型一种半导体加工用清洁装置，通过设置了清洁箱13、活动柱15、搅拌架16、弹力球11和延展架10，两个清洁箱13的一侧通过对应安装的三个第一弹簧12相连接，且两个清洁箱13的另一侧通过三个第二弹簧14弹性连接，因此在清洁箱13受到撞击与挤压时，将不同程度的发生晃动，当弹力球11转动到活动柱15的底部后，将会带动着活动柱15活动。
27.工作原理：将需要清洁的半导体分别搁置到两个第一弹簧12的内部，然后将翻盖2翻转到清洁装置本体1的一侧，将清洁装置本体1遮盖住，翻盖2为透明状，可以清晰的看清清洁装置本体1内部的工作状态，随后，启动电机3，将带动旋转柱4转动，在旋转柱4转动的过程中，将会带动着两个辅助套5转动，辅助套5两侧活动铰接的弧形块6也会跟着活动，其中两个弧形块6之间设有多个弹力球11，且多个弹力球11为等间距排列着，从而可以更加全面的与清洁箱13的底部相接触，增加了清洁箱13受到撞击时的振动幅度，弧形块6翻转到90
°
时，这时候多个弹力球11位于清洁箱13的底部，且已经与清洁箱13相互撞击，清洁箱13在受到挤压时，将会产生晃动，清洁箱13的两侧均通过三个第一弹簧12进行连接的，因此可以在受到外力的作用下，跟着晃动，使清洁箱13内部储存的清洗剂能够快速的流动，从而可以与半导体充分接触，通过该结构有效的提高了对半导体的清洁力度，避免了清洗剂的资源浪费，当弹力球11转动到活动柱15的底部后，将会带动着活动柱15活动，从而使搅拌架16也会跟着转动，搅拌架16与半导体相接触，能够对半导体进行翻转，从而增加了半导体与清洗剂的接触面积，使半导体能够清洁的更加干净。
28.在本实用新型的描述中，需要理解的是，指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
29.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
30.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。