专利名称：适应不同流量的溅盘式再分布器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用于填料塔的液体再分布装置，特别是一种可适应 不同流量的溅盘式再分布器。
背景技术：
现有的溅盘式再分布器的结构是由气体上升管、上升管盖板、导流槽、 分布溅盘构成，由于导流槽设置于一个液位上，可适应的流量适用范围较窄。 现有的一些工艺流程中，根据生产检修环境的不同，需要使用设备有多种组 合，互为备用，这就要求同一个填料塔，在同一个填料层的流量要有较大变 化。因此，需要开发出一种适应不同流量的溅盘式再分布器。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种适应不同流量的溅盘式再分布器，该装置 结构合理，气、液分布效果好。
本实用新型通过以下技术方案实现
适应不同流量的溅盘式再分布器，该装置包括气体上升管、上升管盖板、 导流槽、分布溅盘，其特征在于，该装置设有低液位导流槽和高液位导流槽, 低液位导流槽的开口位置低于高液位导流槽的开口位置。
本实用新型的优点是结构合理，气、液分布效果好，可适应不同流量。
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图1是本实用新型装置的结构示意图。
具体实施方式
见图l，适应不同流量的溅盘式再分布器，该装置包括气体上升管l、上升管盖板3、低液位导流槽2、高液位导流槽4、分布溅盘5，本装置的特征 在于，设有低液位导流槽2和高液位导流槽4，低液位导流槽2的开口位置低 于高液位导流槽4的开口位置。液体流量小时，分布溅盘5上的液位低，只经由低液位导流槽2流到分 布溅盘5上；液体流量大时，分布溅盘5上液位升高，低液位导流槽2的流 量加大，液位继续升高，当超过高液位导流槽4的槽口时，高、低液位导流 槽同时使用。通过改变高、低导流槽的数量比、槽宽和开口大小，可适用不同高、低 流量比。
权利要求1、适应不同流量的溅盘式再分布器，该装置包括气体上升管、上升管盖板、导流槽、分布溅盘，其特征在于，该装置设有低液位导流槽和高液位导流槽，低液位导流槽的开口位置低于高液位导流槽的开口位置。
专利摘要本实用新型涉及一种用于填料塔的液体再分布装置，特别是一种可适应不同流量的溅盘式再分布器。该装置包括气体上升管、上升管盖板、导流槽、分布溅盘，该装置设有低液位导流槽和高液位导流槽，低液位导流槽的开口位置低于高液位导流槽的开口位置。本实用新型的优点是结构合理，气、液分布效果好，可适应不同流量。
文档编号B01D3/14GK201316542SQ20082022010
公开日2009年9月30日 申请日期2008年12月2日 优先权日2008年12月2日
发明者成 吕, 孟凡盛, 张美文, 马增礼 申请人:中冶焦耐工程技术有限公司