一种铜制程用剥离液的制备装置的制作方法

本实用新型涉及剥离液的制备技术领域，具体涉及一种铜制程用剥离液的制备装置，用于TFT行业。

背景技术：

当集成电路芯片持续往轻、薄、短、小及高密度方向发展时，对缺陷的容忍度也相对降低，随着集成电路器件密集度的提高，单位芯片的面积也越来越小，原本不会影响良率的缺陷却变成了良率的致命杀手。在液晶面板等制造过程中，需要通过多次图形掩膜照射曝光及蚀刻等工序在硅晶圆或玻璃基片形成多层精密的微电路，形成微电路之后，进一步使用专用的剥离液将涂覆在微电路保护区域上作为掩膜的光刻胶除去。剥离过程是将剥离液喷淋到刻蚀后的产品表面，剥离液会将未被紫外线照射的感光光阻溶解掉，留下被保护的部分，从而形成线路。凡是晶圆上存在的有形污染与不完美，统称为缺陷，一般包括晶圆上的物理性异物、化学性玷污和晶圆本身的缺陷。物理性异物一般指机械掉落的微尘，工艺残留下来的光刻胶，不正常的反应生成物等；化学性玷污，一般指残留化学药品，有机溶剂和光阻残留等。因此，为了避免晶圆产生物理或化学缺陷，需要制备更高品质更高纯度的剥离液。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于，克服现有技术中存在的缺陷，提供一种杂质更少，纯度更高，混合更均匀，剥离更完全无残留的铜制程用剥离液的制备装置。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案是设计一种铜制程用剥离液的制备装置，包括分别与混合罐进口连接的醇醚储罐、有机溶剂储罐、缓蚀剂储罐、表面活性剂储罐、去离子水储罐和顺次连接的混合罐、调节阀、过滤装置和成品罐；所述混合罐内还设有导流机构，所述导流机构包括混合罐内上端与混合罐进口位置相对应的进液盘和与进液盘底面相连通的导流管，所述混合罐内壁设有环形凸起，所述进液盘放置在环形凸起上，所述进液盘的底面直径大于环形凸起之间的内径。

优选的技术方案为，所述混合罐的进口有两个，以混合罐轴线为对称轴分别设于混合罐顶部的左右两侧。从左右两个进口加入原料至进液盘，加液速度快，节省工时。

进一步优选的技术方案为，所述导流管至少设置三个，所述至少三个导流管以混合罐的轴线为中心线呈圆周状，竖直分布在混合罐内。混合加液过程中，各组分原料在重力的作用下通过进液盘流出导流管，与混合罐内的其他组分充分混合，提高了各原料的混合均匀度。

进一步优选的技术方案为，所述导流管的管壁上均匀设有若干小孔。

进一步优选的技术方案为，所述混合罐内还设有搅拌器，所述搅拌器的搅拌杆设置于混合罐的轴线上，所述搅拌杆垂直穿过进液盘底面，并与进液盘底面固定连接。搅拌杆与进液盘底面垂直固定连接，当罐体内混合液需要搅拌时，启动搅拌器，搅拌器的搅拌杆带动进液盘一起转动，导流管与搅拌器的搅拌螺旋桨可以同时对罐内混合液体进行搅拌，使罐内混合液混合更均匀。

进一步优选的技术方案为，所述搅拌杆底部的搅拌螺旋桨位置略低于导流管的底部。

进一步优选的技术方案为，所述进液盘为扁平式的圆盘。

进一步优选的技术方案为，所述混合罐和成品罐内壁均为聚四氟乙烯层。

本实用新型的优点和有益效果在于：本实用新型铜制程用剥离液的制备装置，混合罐内设有导流机构，混合罐顶部两侧设有两个进口，原料液可以从两个方向进入罐体内后，分别流至进液盘上，原料液导流管在混合罐内呈圆周竖直分布，导流管管壁上均匀开有若干细孔，使原料液体在重力的作用下流出导流管，通过搅拌器搅拌，使各个组分原料充分混合，缩短了生产所需时间，生产周期中的原来的3-4h的原料混合溶解搅拌时间缩短至半小时左右的导流时间，生产效率有较大幅度的提高。

附图说明

图1是本实用新型铜制程用剥离液制备装置的结构示意图；

图2是本实用新型混合罐的结构示意图。

图中：1、醇醚储罐；2、有机溶剂储罐；3、缓蚀剂储罐；4、表面活性剂储罐；5、去离子水储罐；6、混合罐；7、调节阀；8、过滤装置；9、成品罐；10、进液盘；11、导流管；12、搅拌器；13、环形凸起。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。

如图1、2所示，一种铜制程用剥离液的制备装置，包括分别与混合罐6进口连接的醇醚储罐1、有机溶剂储罐2、缓蚀剂储罐3、表面活性剂储罐4、去离子水储罐5和顺次连接的混合罐6、调节阀7、过滤装置8和成品罐9；所述混合罐6内还设有导流机构，所述导流机构包括混合罐内上端与混合罐进口位置相对应的进液盘10和与进液盘10底面相连通的导流管11，所述混合罐6内壁设有环形凸起13，所述进液盘10放置在环形凸起13上，所述进液盘10的底面直径大于环形凸起13之间的内径。

所述混合罐6内还设有搅拌器12，所述搅拌器12的搅拌杆设置于混合罐6的轴线上，所述搅拌杆垂直穿过进液盘10底面，并与进液盘10底面固定连接。

所述进液盘10为扁平式的圆盘。

本实用新型的铜制程用剥离液的制备，包括如下步骤：

第一步：先将去离子水注入混合罐内，再向混合罐内按照配比加入醇醚、有机溶剂、缓蚀剂和表面活性剂，以上四种组分可逐一加入混合罐，也可两两同时加入混合罐内，搅拌混合均匀；

第二步：将混合罐中混合物通入过滤器进行过滤，得到所述铜制程用剥离液成品。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。