一种脱硫塔新型高效曝气装置的制作方法

本实用新型涉及废气处理技术领域，特别是涉及一种脱硫塔新型高效曝气装置。

背景技术：

脱硫塔是对工业废气进行脱硫处理的塔式设备。现有的脱硫塔中，溶液氧化率一般为93-94%，氧化率较低，氧化不充分，使得脱硫塔内的硫酸铵溶液中的亚硫酸氢铵含量较高，会严重影响硫铵产量。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是，克服现有技术的缺点，提供一种脱硫塔新型高效曝气装置。

为了解决以上技术问题，本实用新型的技术方案如下：

一种脱硫塔新型高效曝气装置，包括圆柱状脱硫塔，所述脱硫塔的塔底设置有曝气装置，所述曝气装置包括进气主管、与进气主管连通的若干根进气支管，若干根所述进气支管均互相平行，且每根所述进气支管的两端均抵接在脱硫塔的侧壁上，每根所述进气支管上均匀设置有若干个曝气头。

进一步地，进气主管沿脱硫塔塔底的直径方向设置，进气主管位于进气支管的垂直平分线上。

前所述的一种脱硫塔新型高效曝气装置，曝气装置包括第一曝气单元和第二曝气单元，第一曝气单元和第二曝气单元均包括进气主管和若干根进气支管，两根进气主管位于同一直线上。

前所述的一种脱硫塔新型高效曝气装置，若干根进气支管上相邻两个曝气头之间的间距均相等。

前所述的一种脱硫塔新型高效曝气装置，相邻两根进气支管上曝气头的数量差为4。

前所述的一种脱硫塔新型高效曝气装置，相邻两根进气支管之间的距离等于相邻两个曝气头之间的间距。

前所述的一种脱硫塔新型高效曝气装置，脱硫塔内溢流管的高度不小于9m。

前所述的一种脱硫塔新型高效曝气装置，曝气头为刚玉球形微孔曝气器。

本实用新型的有益效果是：

（1）本实用新型将若干根进气支管均匀布设在脱硫塔的塔底，且每根进气支管的端部均抵接在脱硫塔的侧壁上，使进气支管上曝气头的曝气区域尽可能覆盖整个脱硫塔塔底，保证氧气与脱硫塔内溶液的接触面积，从而提高溶液的氧化率，提高硫铵产量，同时，还可起到搅拌作用，防止塔内淤泥沉淀；

（2）本实用新型将脱硫塔的溢流管高度由原先的5.8m提高为不小于9m，从而提高了脱硫塔内溶液的液位，液位提高后，溶液增加，塔底压强增加形成加压氧化，使曝气头与溶液接触增加，混合更加均匀，脱硫塔内亚硫酸铵溶液与氧气充分反应，形成硫酸铵溶液，提高溶液的氧化率；同时，结合曝气管的布置，使下部溶液的氧化率进一步提高，脱硫塔内溶液的氧化率可由原先的93-94%提高至98%；

（3）本实用新型每根进气支管上相邻曝气头的间距均相等，且该间距等于相邻进气支管之间的距离，使任意相邻的四个曝气头组成一个正方形，在尽可能减少曝气头数量的前提下保证曝气头的覆盖范围，减小曝气死角；

（4）本实用新型中进气主管位于进气支管的垂直平分线上，使进气主管两侧的进气支管中的气压相等，从而使进气主管两侧的曝气效果大致相同；

（5）本实用新型将曝气装置设置为第一曝气单元和第二曝气单元，通过两根进气主管分别对两个曝气单元进行供气，避免了曝气主管较长而导致的曝气主管后部曝气支管气压较低，保证了曝气效果。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

其中：1、脱硫塔；2、进气主管；3、进气支管；4、曝气头；5、第一曝气单元；6、第二曝气单元。

具体实施方式

为使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施方式并结合附图，对本实用新型作出进一步详细的说明。

本实施例提供了一种脱硫塔新型高效曝气装置，包括圆柱状脱硫塔1，该脱硫塔1内溢流管的高度为9m。

在脱硫塔1的塔底安装有曝气装置，参见图1，曝气装置包括第一曝气单元5和第二曝气单元6，第一曝气单元5和第二曝气单元6均包括一根进气主管2和若干根进气支管3，两根进气主管2位于脱硫塔1外的一端均与供气装置连接，两根进气主管2位于同一直线上，且该直线位于脱硫塔1底所在圆的直径方向。

若干根进气支管3均互相平行，且进气主管2位于所有进气支管3的垂直平分线上，每根进气支管3的两端分别抵接在脱硫塔1的内侧壁上，由于进气主管2位于脱硫塔1底所在圆的直径方向上，因此，每个曝气单元上进气支管3的长度由进气主管2的一端向另一端依次递增。

在每根进气支管3上均匀安装有若干个曝气头4，曝气头4采用刚玉球形微孔曝气器，型号为dn3290°±5°，曝气量2.5m3/h。所有进气支管3上相邻两个曝气头4之间的间距均相等，参见图1，相邻两根进气支管3上曝气头4数量的差值为4。

另外，相邻两根进气支管3之间的间距等于任意两个相邻曝气头4之间的间距。

在对脱硫塔1内硫酸铵溶液进行氧化时，两个供气装置同时对两根进气主管2供气，使所有曝气头4进行曝气，曝气头4的曝气区域覆盖整个脱硫塔1塔底，同时，溢流管高度设置为9m，提高了脱硫塔1内溶液的液位，使脱硫塔1下部的溶液压力更大，实现对溶液的加压氧化，大大提高溶液的氧化率。

除上述实施例外，本实用新型还可以有其他实施方式；凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案，均落在本实用新型要求的保护范围。