一种造粒机转子搅齿排列结构的制作方法

文档序号:21531137发布日期:2020-07-17 16:12阅读:441来源:国知局
一种造粒机转子搅齿排列结构的制作方法

本实用新型涉及粉体湿法造粒领域,特别是涉及一种造粒机转子搅齿排列结构。



背景技术:

近年来,由于炭黑品种的不断开发和扩展,炭黑使用单位对粒子的均匀度以及粒子的尺寸(粒径大小)提出了严格的要求,要求粒子的集中度要高,均匀性要好。目前公知的造粒机转子排布结构大多采用多头螺旋搅齿排布,即在转子轴上未进行精细化设计和功能性分段,这样造成了成粒性不好,粒子分布不均匀,粒子直径一次合格率低。



技术实现要素:

为解决现有技术中存在的问题,本实用新型提供了一种造粒机转子搅齿排列结构,对转子搅齿进行螺带段、多头螺旋形搅齿段和多头直形排列搅齿段的功能化分段,炭黑在转子螺带段作用下完成输送和混合,在呈多头螺旋形搅齿段作用下完成炭黑粉体团聚造粒,在多头直形排列搅齿段作用下完成粒子密实、抛光、均匀化,提升了炭黑成粒率,粒子分布均匀,造粒效果好。

为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:

一种造粒机转子搅齿排列结构,包括设置在造粒机转轴上的沿物料的运行方向依次连接的多头螺带段、多头螺旋形搅齿段和多头直线形排列搅齿段。

本实用新型的搅齿排列结构,在炭黑进口段布置有多头螺旋带,在转子转动下对炭黑进行混合和输送,达到造粒条件;进入到强制造粒段,在多头螺旋形搅齿段作用下,完成造粒;在多头直形排列搅齿段作用下完成粒子密实、抛光、均匀化。这样的排列形式有利于成粒,提升了炭黑成粒率,粒子分布均匀,造粒效果好。

优选的,所述多头螺带段、多头螺旋形搅齿段和多头直线形排列搅齿段的长度分别占造粒机转子搅齿总布置长度的1/5、3/5和1/5。

根据造粒原理及大量的生产实践数据,沿着物料在造粒机长度方向上输送段一般为占到全部造粒部分长度1/5,造粒段一般为全部长度的3/5,抛光段为为全部长度的1/5,这样造粒效果最好,粒子强度合格率最好。

优选的,所述多头螺带段的每头螺带段分别在所述造粒机转轴上螺旋环绕设置;所述多头螺带段的多个起点均位于同一平面上,并沿所述造粒机转轴的周向均匀分布;所述多头螺带段的多个终点均位于同一平面上,并沿所述造粒机转轴的周向均匀分布,多头螺带段的起点和终点无错位。

多头螺带段在圆周方向的均匀分布、在轴线方向的均匀分布,从而保证了结构上的均匀性,这样有利于输送混合的均匀性,给造粒创造良好的条件。

优选的,所述多头螺旋形搅齿段的每头螺旋形搅齿段分别在所述造粒机转轴上螺旋环绕设置;所述多头螺旋形搅齿段的多个起点均位于同一平面上,并沿所述造粒机转轴的周向均匀分布;所述多头螺旋形搅齿段的多个终点均位于同一平面上,并沿所述造粒机转轴的周向均匀分布,多头螺旋形搅齿段的起点和终点无错位。

多头螺旋形搅齿段在圆周方向的均匀分布、在轴线方向的均匀分布,从而保证了结构上的均匀性,这样有利于造粒的均匀性,可以达到良好的造粒效果,成粒性高。

优选的,所述多头直线形排列搅齿段的每头直线形排列搅齿段分别沿所述造粒机转轴的长度方向设置;所述多头直线形排列搅齿段的多个起点均位于同一平面上,并沿所述造粒机转轴的周向均匀分布;所述多头直线形排列搅齿段的多个终点均位于同一平面上,并沿所述造粒机转轴的周向均匀分布,多头直线形排列搅齿段的起点和终点无错位。

多头直线形排列搅齿段在圆周方向的均匀分布、在轴线方向的均匀分布,从而保证了结构上的均匀性,这样有利于压实抛光效果均匀,从而保证粒子大小均匀、表面光滑,粒子强度一致。

优选的,所述多头螺旋形搅齿段的同一头螺旋形搅齿段上相邻的两搅齿杆的间距与所述多头直线形排列搅齿段的同一头直线形排列搅齿段上相邻的两搅齿杆的间距相同,保证了螺旋形搅齿段和直线形排列搅齿段搅齿的结构上没有突变,均匀过度,进一步保证了对粒子均匀性的影响。

优选的,所述多头螺带段、多头螺旋形搅齿段和多头直线形排列搅齿段的头数相同,保证各段在造粒机转轴圆周面上总体一致均匀,减小了对粒子的波动影响。

本实用新型的有益效果是:

1、对转子搅齿进行螺带段、多头螺旋形搅齿段和多头直形排列搅齿段的功能化分段,炭黑在转子螺带段作用下完成输送和混合,在呈多头螺旋形搅齿段作用下完成炭黑粉体团聚造粒,在多头直形排列搅齿段作用下完成粒子密实、抛光、均匀化,提升了炭黑成粒率,粒子分布均匀,造粒效果好。

2、根据造粒原理及大量的生产实践数据,沿着物料在造粒机长度方向上输送段一般为占到全部造粒部分长度1/5,造粒段一般为全部长度的3/5,抛光段为为全部长度的1/5,这样造粒效果最好,粒子强度合格率最好。

3、多头螺带段在圆周方向的均匀分布、在轴线方向的均匀分布,从而保证了结构上的均匀性,这样有利于输送混合的均匀性,给造粒创造良好的条件。

4、多头螺旋形搅齿段在圆周方向的均匀分布、在轴线方向的均匀分布,从而保证了结构上的均匀性,这样有利于造粒的均匀性,可以达到良好的造粒效果,成粒性高。

5、多头直线形排列搅齿段在圆周方向的均匀分布、在轴线方向的均匀分布,从而保证了结构上的均匀性,这样有利于压实抛光效果均匀,从而保证粒子大小均匀、表面光滑,粒子强度一致。

6、多头螺旋形搅齿段保证了螺旋形搅齿段和直线形排列搅齿段搅齿的结构上没有突变,均匀过度,进一步保证了对粒子均匀性的影响。

7、多头螺带段、多头螺旋形搅齿段和多头直线形排列搅齿段的头数相同,保证各段在造粒机转轴圆周面上总体一致均匀,减小了对粒子的波动影响。

8、多头螺旋形搅齿段的同一头螺旋形搅齿段上相邻的两搅齿杆的间距与多头直线形排列搅齿段的同一头直线形排列搅齿段上相邻的两搅齿杆的间距相同,保证了螺旋形搅齿段和直线形排列搅齿段搅齿的结构上没有突变,均匀过度,进一步保证了对粒子均匀性的影响。

附图说明

图1为本实用新型实施例所述造粒机转子搅齿排列结构的结构示意图;

图2为本实用新型实施例所述造粒机转子搅齿排列结构的展开图。

附图标记说明:

1、多头螺带段;2、多头螺旋形搅齿段;21、第一搅齿杆;3、多头直线形排列搅齿段;31、第二搅齿杆;4、造粒机转轴。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明。

实施例:

如图1所示,一种造粒机转子搅齿排列结构,包括设置在造粒机转轴4外表面上的沿物料的运行方向f依次连接的多头螺带段1、多头螺旋形搅齿段2和多头直线形排列搅齿段3,多头螺带段1、多头螺旋形搅齿段2和多头直线形排列搅齿段3均为a、b两头,多头螺带段1、多头螺旋形搅齿段2和多头直线形排列搅齿段3与造粒机转轴4均采用焊接或其他方式连接。

本实用新型的搅齿排列结构,在炭黑进口段布置有多头螺旋带,在转子转动下对炭黑进行混合和输送,达到造粒条件;进入到强制造粒段,在多头螺旋形搅齿段2作用下,完成造粒;在多头直形排列搅齿段作用下完成粒子密实、抛光、均匀化。这样的排列形式有利于成粒,提升了炭黑成粒率,粒子分布均匀,造粒效果好。

在其中一个实施例中,如图1所示,多头螺带段1、多头螺旋形搅齿段2和多头直线形排列搅齿段3的长度分别占造粒机转子搅齿总布置长度l的1/5、3/5和1/5。

根据造粒原理及大量的生产实践数据,沿着物料在造粒机长度方向上输送段一般为占到全部造粒部分长度1/5,造粒段一般为全部长度的3/5,抛光段为为全部长度的1/5,这样造粒效果最好,粒子强度合格率最好。

在其中一个实施例中,如图2所示,多头螺带段1的每头螺带段分别在造粒机转轴4上螺旋环绕设置;多头螺带段1的a头的起点和b头的起点均位于造粒机转轴4的同一横截面所在的平面上,并沿造粒机转轴4的周向均匀分布;多头螺带段1的a头的终点和b头的终点均位于造粒机转轴4的同一横截面所在的平面上,并沿造粒机转轴4的周向均匀分布,多头螺带段1的起点位置和终点位置无错位。

多头螺带段1在圆周方向的均匀分布、在轴线方向的均匀分布,从而保证了结构上的均匀性,这样有利于输送混合的均匀性,给造粒创造良好的条件。

在其中一个实施例中,如图2所示,多头螺旋形搅齿段2的每头螺旋形搅齿段分别在造粒机转轴4上螺旋环绕设置;多头螺旋形搅齿段2的a头的起点和b头的起点均位于造粒机转轴4的同一横截面所在的平面上,并沿造粒机转轴4的周向均匀分布;多头螺旋形搅齿段2的a头的终点和b头的终点均位于造粒机转轴4的同一横截面所在的平面上,并沿造粒机转轴4的周向均匀分布,多头螺旋形搅齿段2的起点位置和终点位置无错位。

多头螺旋形搅齿段2在圆周方向的均匀分布、在轴线方向的均匀分布,从而保证了结构上的均匀性,这样有利于造粒的均匀性,可以达到良好的造粒效果,成粒性高。

在其中一个实施例中,如图2所示,多头直线形排列搅齿段3的每头直线形排列搅齿段分别沿造粒机转轴4的长度方向设置;多头直线形排列搅齿段3的a头的起点和b头的起点均位于造粒机转轴4的同一横截面所在的平面上,并沿造粒机转轴4的周向均匀分布;多头直线形排列搅齿段3的a头的终点和b头的终点均位于造粒机转轴4的同一横截面所在的平面上,并沿造粒机转轴4的周向均匀分布,多头直线形排列搅齿段3的起点位置和终点位置无错位。

多头直线形排列搅齿段3在圆周方向的均匀分布、在轴线方向的均匀分布,从而保证了结构上的均匀性,这样有利于压实抛光效果均匀,从而保证粒子大小均匀、表面光滑,粒子强度一致。

在其中一个实施例中,如图2所示,多头螺旋形搅齿段2的同一头螺旋形搅齿段上相邻两第一搅齿杆21的间距h与多头直线形排列搅齿段3的同一头直线形排列搅齿段上相邻两第二搅齿杆31的间距相同h,保证了多头螺旋形搅齿段2和多头直线形排列搅齿段3搅齿的结构上没有突变,均匀过度,进一步保证了对粒子均匀性的影响。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的具体实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。

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