一种陶瓷分散研磨器的制作方法

本实用新型涉及研磨器技术领域，尤其涉及一种陶瓷分散研磨器。

背景技术：

研磨设备中通常通过分散盘或分散轮带动研磨球高速运动，研磨球之间相互挤压碰撞使研磨物料破碎，实现对颗粒研磨，并通过分离器将已经研磨好的物料与未研磨完成的物料和研磨球分离，使研磨好的物料输出。

现有的研磨分散研磨装置在工作时，在分散器高速转动的作用下研磨球在筒体内壁运动，无法形成多个研磨环流，搅拌效率不高，颗粒分散流量不平衡，且现有的分散研磨装置研磨效果不充分，研磨效率较低。

技术实现要素：

为了克服现有技术的缺陷，本实用新型所要解决的技术问题在于提出一种陶瓷分散研磨器，本实用新型可增强研磨效果、提高研磨效率、增强级间流动、改善流量不平衡问题。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供了一种陶瓷分散研磨器，包括有：传动轴、套设于所述传动轴上的机隔套、等距离设置在所述机隔套上的若干个分散组件；

每所述分散组件包括有第一研磨盘、第二研磨盘；所述第一研磨盘、所述第二研磨盘均套设于所述机隔套上；所述第一研磨盘与第二研磨盘相互背向的两端面均开设有若干个腰型孔，所述腰型孔分别贯穿所述第一研磨盘、所述第二研磨盘；所述第一研磨盘外沿的弧形面、所述第二研磨盘外沿的弧形面分别开设有若干个第一缺口、若干个第二缺口，所述第一缺口、所述第二缺口分别与对应相靠近的所述腰型孔连通；所述第一缺口呈螺旋形延伸至所述第一研磨盘的内部形成第一弧形通道，相邻的两个所述第一弧形通道靠近所述机隔套的一端相互连通；所述第二缺口呈螺旋形延伸至所述第二研磨盘的内部形成第二弧形通道，相邻的两个所述第二弧形通道靠近所述机隔套的一端相互连通；所述第一研磨盘、所述第二研磨盘背向的两端面均设置有若干个用于增强研磨效果的凸台结构；所述凸台结构位于所述腰型孔外侧；所述第一研磨盘与所述第二研磨盘可拆卸固定连接。

进一步地，所述第一弧形通道、所述第二弧形通道分别设置于所述第一研磨盘、所述第二研磨盘相对的两端面上，每个所述第一缺口与每个所述第二缺口对应设置相连通，并且所述第一弧形通道与相接近的所述第二弧形通道连通形成通槽。

进一步地，多个所述凸台结构倾斜设置并环形阵列分布于其所在的端面外沿上。

进一步地，多个所述腰型孔均倾斜设置并环形阵列分布于其所在的端面上。

进一步地，所述腰型孔的数量大于所述通槽的数量。

进一步地，多个所述通槽等距设置，所述通槽贯穿所述第一研磨盘的内外两弧面、所述第二研磨盘的内外两弧面。

进一步地，所述第一研磨盘与所述第二研磨盘背向的两端面设置有方便安装的环形凹槽，所述环形凹槽位于所在端面的中心处，所述环形凹槽的底面开设有若干个安装孔。

相比现有技术，本实用新型的有益效果在于：

本实用新型设置的第一研磨盘有第一缺口、第二研磨盘有第二缺口，且第一缺口、第二缺口分别延伸形成螺旋形的第一弧形通道、第二弧形通道，且相邻的两个第一弧形通道、两个第二弧形通道连通，从而提高增强级间流动，另外第一研磨盘、第二研磨盘相互背向的两端面均设置有提高研磨效果以及研磨效率的凸台结构，设置多个腰型孔可使物料快速地进出第一研磨盘、第二研磨盘，提高研磨效率进一步避免堵塞以及改善流量不平衡问题。

附图说明

图1是本实用新型具体实施方式提供的一种陶瓷分散研磨器的立体结构示意图；

图2是本实用新型具体实施方式提供的一种陶瓷分散研磨器的主视结构示意图；

图3是本实用新型具体实施方式提供的第一研磨盘的立体结构示意图；

图4是本实用新型具体实施方式提供的第一研磨盘的另一立体结构示意图。

图中：

1、传动轴；2、机隔套；3、分散组件；31、第一研磨盘；32、第二研磨盘；4、腰型孔；5、第一缺口；51、第一弧形通道；6、第二缺口；61、第二弧形通道；7、凸台结构；8、通槽；81、安装孔；9、环形凹槽。

具体实施方式

下面，结合附图以及具体实施方式，对本实用新型做进一步描述，需要说明的是，在不相冲突的前提下，以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。

如图1、图2、图3以及图4所示，一种陶瓷分散研磨器，包括有：传动轴1、套设于传动轴1上的机隔套2、等距离设置在机隔套2上的若干个分散组件3；每分散组件3包括有第一研磨盘31、第二研磨盘32；第一研磨盘31、第二研磨盘32均套设于机隔套2上；第一研磨盘31与第二研磨盘32相互背向的两端面均开设有若干个腰型孔4，腰型孔4分别贯穿第一研磨盘31、第二研磨盘32；第一研磨盘31外沿的弧形面、第二研磨盘32外沿的弧形面分别开设有若干个第一缺口5、若干个第二缺口6，第一缺口5、第二缺口6分别与对应相靠近的腰型孔4连通；第一缺口5呈螺旋形延伸至第一研磨盘31的内部形成第一弧形通道51，相邻的两个第一弧形通道51靠近机隔套2的一端相互连通；第二缺口6呈螺旋形延伸至第二研磨盘32的内部形成第二弧形通道61，相邻的两个第二弧形通道61靠近机隔套2的一端相互连通；第一研磨盘31、第二研磨盘32背向的两端面均设置有若干个用于增强研磨效果的凸台结构7；凸台结构7位于腰型孔4外侧；第一研磨盘31与第二研磨盘32可拆卸固定连接。

第一弧形通道51、第二弧形通道61分别贯穿第一研磨盘31内沿的弧面、第二研磨盘32内沿的弧面；设置多个腰型孔4可使物料快速地进出分散研磨器、提高研磨效率，物料可通过第一研磨盘31外沿弧面的第一缺口5、第二研磨盘32外沿弧面的第二缺口6流入第一弧形通道51、第二弧形通道61，第一弧形通道51、第二弧形通道61以传动轴1为中心螺旋形设置，提高物料进入第一弧形通道51、第二弧形通道61的流速，从而提高分散效率，另外相邻的两个第一弧形通道51、相邻的两个第二弧形通道61相连通，进一步提高物料分散效率以及避免堵塞，每个第一研磨盘31与每个第二研磨盘32作为一组通过机隔套2套设于传动轴1上，传动轴1通过驱动装置驱动，驱动装置可选取电机等；机隔套2可将多组分散组件3等距离设置，从而大大的增加了物料的研磨路径，使物料更快的达到纳米工艺要求。设置第一研磨盘31、第二研磨盘32相背向的两个端面有多个凸台结构7，凸台结构7稳固，不易损毁，提高与物料的碰撞几率，提高物料的分散以及研磨效果、分散效率。

进一步地，第一弧形通道51、第二弧形通道61分别设置于第一研磨盘31、第二研磨盘32相对的两端面上，每个第一缺口5与每个第二缺口6对应设置相连通，并且第一弧形通道51与相接近的第二弧形通道61连通形成通槽8。每个第一缺口5与每个第二缺口6对应设置相连通，延伸的第一弧形通道51与第二弧形通道61从而使得形成通槽8进一步扩大了研磨有效区，使物料快速地进出分散研磨器，提高研磨效率。

进一步地，多个凸台结构7倾斜设置并环形阵列分布于其所在的端面外沿上。凸台结构7倾斜设置于所在端面的外沿上，有效切割以及碰撞需要分散的物料，提高均匀研磨效率以及分散效率。

进一步地，多个腰型孔4均倾斜设置并环形阵列分布于其所在的端面上。设置腰型孔4倾斜设置，当第一研磨盘31、第二研磨盘32旋转时，减少腰型孔4边沿与颗粒的碰撞，避免碰撞受损，提高第一研磨盘31、第二研磨盘32的有效寿命，同时促进物料的流动。

进一步地，腰型孔4的数量大于通槽8的数量。使得第一研磨盘31、第二研磨盘32的非弧形端面尽大可能地提高物料的分散效率。

进一步地，多个通槽8等距设置，通槽8贯穿第一研磨盘31的内外两弧面、第二研磨盘32的内外两弧面。设置多个通槽8等距设置，保证第一研磨盘31、第二研磨盘32弧面上颗粒的均匀流动。

进一步地，第一研磨盘31与第二研磨盘32背向的两端面设置有方便安装的环形凹槽9，环形凹槽9位于所在端面的中心处，环形凹槽9的底面开设有若干个安装孔81。设置环形凹槽9以及安装孔81方便与机隔套2等连接件的安装拆卸。

上述实施方式仅为本实用新型的优选实施方式，不能以此来限定本实用新型保护的范围，本领域的技术人员在本实用新型的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本实用新型所要求保护的范围。