一种硫二甘醇聚氧乙烯醚防烧焦生产系统的制作方法

1.本实用新型涉及硫二甘醇聚氧乙烯醚生产技术领域，尤其涉及一种硫二甘醇聚氧乙烯醚防烧焦生产系统。


背景技术：

2.硫二甘醇聚氧乙烯醚是化学镀铜基本光亮剂，新一代镀锌光亮剂、增溶剂，用于防止高电流密度烧焦。硫二甘醇聚氧乙烯醚生产时，需要将硫二甘醇、催化剂和环氧乙烷送入反应釜中进行反应，目前反应釜的反应效率低，硫二甘醇、催化剂和环氧乙烷在反应釜内不能充分接触，快速反应，从而降低了硫二甘醇聚氧乙烯醚的生产效率。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的是为了解决现有技术中反应釜的反应效率低，硫二甘醇、催化剂和环氧乙烷在反应釜内不能充分接触，快速反应，从而降低了硫二甘醇聚氧乙烯醚生产效率，而且使得硫二甘醇聚氧乙烯醚的纯度、色泽、稳定性和优异相容性较差的问题，而提出的一种硫二甘醇聚氧乙烯醚防烧焦生产系统。
4.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
5.一种硫二甘醇聚氧乙烯醚防烧焦生产系统，包括反应釜，所述反应釜的上端连通有第一导料管和第二导料管，所述反应釜的釜壁内安装有冷却组件，所述反应釜内连接有搅拌机构；
6.所述搅拌机构包括变频电机，所述变频电机固定连接在反应釜的外釜底中心处，所述变频电机的输出端通过联轴器连接有主动轴，所述反应釜的釜底中心处镶嵌有密封轴承，所述主动轴远离变频电机的一端依次穿过密封轴承并向反应釜内延伸，所述反应釜靠近釜顶一端位置的内釜壁上连接有内齿圈，所述内齿圈的内池壁上对称啮合有齿轮，所述齿轮的下端连接有搅拌轴，所述搅拌轴的轴壁上固定套接有滚珠轴承，所述滚珠轴承靠近主动轴的环形侧壁上连接有传动杆，所述传动杆的另一端固定连接在主动轴的轴壁上，所述主动轴和搅拌轴的轴壁上沿竖直方向均匀等距的套接有若干个搅拌扇叶，且主动轴和搅拌轴上的搅拌扇叶交替设置，所述主动轴的轴壁上呈环形均匀等距的铰接有四块搅拌板，且搅拌板设置在搅拌扇叶的下方。
7.优选的，所述第一导料管上安装有泵体。
8.优选的，所述第二导料管上安装有流量计和气动阀。
9.优选的，所述冷却组件包括冷却腔，所述冷却腔开设在反应釜的釜壁内，所述冷却腔的腔壁上对称连通有进水管和出水管。
10.优选的，所述反应釜的外釜底四角处均固定连接有支撑腿。
11.优选的，所述反应釜的内釜顶中心处开设有滚动槽，所述滚动槽内设有滚动的滚珠，所述滚珠穿过滚动槽的槽口设置，且滚珠滚动连接在主动轴的上端。
12.优选的，所述反应釜靠近釜底一端位置的釜壁上连通有排污管，且排污管上安装
有阀门
13.与现有技术相比，本实用新型提供了一种硫二甘醇聚氧乙烯醚防烧焦生产系统，具备以下有益效果：
14.该硫二甘醇聚氧乙烯醚防烧焦生产系统，通过设置搅拌机构，将硫二甘醇、催化剂通过第一导料管输送到反应釜中，反应釜升温至 70
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100℃，再将环氧乙烷通过第二导料管输送到反应釜内与硫二甘醇反应，反应过程通过冷却组件控制反应釜温度在100
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150℃，反应时间为2
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3h，同时反应过程中，启动变频电机，带动主动轴做变速转动，主动轴转动时通过传动杆带动滚珠轴承做同步转动，使得滚珠轴承内的搅拌轴带动齿轮以主动轴为中心进行公转，搅拌轴公转时带动齿轮在内齿圈上滚动，使得搅拌轴在公转的同时自身还在自转，主动轴和搅拌轴转动的同时带动各自搅拌扇叶同步转动，且主动轴转动时，其自身铰接的搅拌板在离心力的作用下甩起，变频电机的输出频率越大，主动轴转速越快，搅拌板与主动轴之间的夹具越大，使得搅拌板随着变频电机的变频不断改变自身位置，对反应釜内的硫二甘醇、催化剂和环氧乙烷进行充分的搅拌接触，提高了三者的反应速度，从而提高了硫二甘醇聚氧乙烯醚生产效率，而且提高了硫二甘醇聚氧乙烯醚的纯度、色泽、稳定性和优异相容性。
15.该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现，本实用新型对反应釜内的硫二甘醇、催化剂和环氧乙烷进行充分的搅拌接触，提高了三者的反应速度，从而提高了硫二甘醇聚氧乙烯醚生产效率，而且提高了硫二甘醇聚氧乙烯醚的纯度、色泽、稳定性和优异相容性。
附图说明
16.图1为本实用新型提出的一种硫二甘醇聚氧乙烯醚防烧焦生产系统的结构示意图；
17.图2为图1中a部分的放大图。
18.图中：1反应釜、2第一导料管、3第二导料管、4变频电机、5 主动轴、6密封轴承、7内齿圈、8齿轮、9搅拌轴、10滚珠轴承、 11传动杆、12搅拌扇叶、13搅拌板、14泵体、15流量计、16气动阀、17冷却腔、18进水管、19出水管、20支撑腿、21滚动槽、22 滚珠、23排污管。
具体实施方式
19.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
20.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
21.参照图1
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2，一种硫二甘醇聚氧乙烯醚防烧焦生产系统，包括反应釜1，反应釜1的上端连通有第一导料管2和第二导料管3，反应釜1的釜壁内安装有冷却组件，反应釜1内连接有搅拌机构；
22.搅拌机构包括变频电机4，变频电机4固定连接在反应釜1的外釜底中心处，变频电机4的输出端通过联轴器连接有主动轴5，反应釜1的釜底中心处镶嵌有密封轴承6，主动轴5远离变频电机4的一端依次穿过密封轴承6并向反应釜1内延伸，反应釜1靠近釜顶一端位置的内釜壁上连接有内齿圈7，内齿圈7的内池壁上对称啮合有齿轮8，齿轮8的下端连接有搅拌轴9，搅拌轴9的轴壁上固定套接有滚珠轴承10，滚珠轴承10靠近主动轴5的环形侧壁上连接有传动杆 11，传动杆11的另一端固定连接在主动轴5的轴壁上，主动轴5和搅拌轴9的轴壁上沿竖直方向均匀等距的套接有若干个搅拌扇叶12，且主动轴5和搅拌轴9上的搅拌扇叶12交替设置，主动轴5的轴壁上呈环形均匀等距的铰接有四块搅拌板13，且搅拌板13设置在搅拌扇叶12的下方，将硫二甘醇、催化剂通过第一导料管2输送到反应釜1中，反应釜1升温至70
‑
100℃，再将环氧乙烷通过第二导料管3 输送到反应釜1内与硫二甘醇反应，反应过程通过冷却组件控制反应釜1温度在100
‑
150℃，反应时间为2
‑
3h，同时反应过程中，启动变频电机4，带动主动轴5做变速转动，主动轴5转动时通过传动杆11 带动滚珠轴承10做同步转动，使得滚珠轴承10内的搅拌轴9带动齿轮8以主动轴5为中心进行公转，搅拌轴9公转时带动齿轮8在内齿圈7上滚动，使得搅拌轴9在公转的同时自身还在自转，主动轴5和搅拌轴9转动的同时带动各自搅拌扇叶12同步转动，且主动轴5转动时，其自身铰接的搅拌板13在离心力的作用下甩起，变频电机4 的输出频率越大，主动轴5转速越快，搅拌板13与主动轴5之间的夹具越大，使得搅拌板13随着变频电机4的变频不断改变自身位置，对反应釜1内的硫二甘醇、催化剂和环氧乙烷进行充分的搅拌接触，提高了三者的反应速度，从而提高了硫二甘醇聚氧乙烯醚生产效率，而且提高了硫二甘醇聚氧乙烯醚的纯度、色泽、稳定性和优异相容性，反应操作简单，易于量产，可通过控制配比，得到一系列防烧焦效果不同的的产品，产品可用作电镀液中的防烧焦剂和抗氧化剂，能够有效防止电镀液出现氧化和烧焦现场。
23.第一导料管2上安装有泵体14，将硫二甘醇和催化剂通过第一导料管2上的泵体14输送到反应釜1中。
24.第二导料管3上安装有流量计15和气动阀16，将环氧乙烷通过第二导料管3上流量计15和气动阀16控制输送到反应釜1与硫二甘醇反应。
25.冷却组件包括冷却腔17，冷却腔17开设在反应釜1的釜壁内，冷却腔17的腔壁上对称连通有进水管18和出水管19，通过进水管 18向冷却腔17中倒入冷水，通过出水管19将向冷却腔17中冷水导出，对反应釜1中温度进行控制。
26.反应釜1的外釜底四角处均固定连接有支撑腿20，通过支撑腿 20对反应釜1进行支撑。
27.反应釜1的内釜顶中心处开设有滚动槽21，滚动槽21内设有滚动的滚珠22，滚珠22穿过滚动槽21的槽口设置，且滚珠22滚动连接在主动轴5的上端，主动轴5转动时带动滚珠22在反应釜1的内釜顶滚动，使得主动轴5转动的更加稳定。
28.反应釜1靠近釜底一端位置的釜壁上连通有排污管23，且排污管23上安装有阀门，通过排污管23排出反应釜1中的反应产物。
29.本实用新型中，将硫二甘醇、催化剂通过第一导料管2输送到反应釜1中，反应釜1升温至70
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100℃，再将环氧乙烷通过第二导料管3输送到反应釜1内与硫二甘醇反应，反应过程通过冷却组件控制反应釜1温度在100
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150℃，反应时间为2
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3h，同时反应过程中，启动变频电机4，带动主动轴5做变速转动，主动轴5转动时通过传动杆11带动滚珠轴承10做同步
转动，使得滚珠轴承10内的搅拌轴9 带动齿轮8以主动轴5为中心进行公转，搅拌轴9公转时带动齿轮8 在内齿圈7上滚动，使得搅拌轴9在公转的同时自身还在自转，主动轴5和搅拌轴9转动的同时带动各自搅拌扇叶12同步转动，且主动轴5转动时，其自身铰接的搅拌板13在离心力的作用下甩起，变频电机4的输出频率越大，主动轴5转速越快，搅拌板13与主动轴5 之间的夹具越大，使得搅拌板13随着变频电机4的变频不断改变自身位置，对反应釜1内的硫二甘醇、催化剂和环氧乙烷进行充分的搅拌接触，提高了三者的反应速度，从而提高了硫二甘醇聚氧乙烯醚生产效率，而且提高了硫二甘醇聚氧乙烯醚的纯度、色泽、稳定性和优异相容性。
30.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。