一种带光路的匀胶机的制作方法

1.本实用新型涉及匀胶机技术领域，尤其涉及一种带光路的匀胶机。


背景技术：

2.钙钛矿和有机半导体薄膜在发光面板、光伏、半导体晶体管等领域具有广泛的应用，这些薄膜主要通过溶液旋涂、刮涂、丝网印刷、狭缝涂布等工艺实现，常见通常由匀胶机进行生产。在溶剂挥发过程中，材料从溶液态向薄膜固态逐步进行相转变，与之同时材料的光学特性，包括荧光光谱特性、吸收光谱特性、反射光谱特性均会随着溶剂的挥发而改变，而传统的匀胶机通常只能实现对有机半导体薄膜的制成，而无法对有机半导体薄膜形成的过程中进行材料光学特性的研究。


技术实现要素：

3.为了解决上述问题，本实用新型提出一种带光路的匀胶机，以更加确切地解决上述所述在有机半导体薄膜形成的过程中进行材料光学特性研究的问题。
4.本实用新型通过以下技术方案实现的：
5.本实用新型提出一种带光路的匀胶机，包括匀胶机本体，所述匀胶机本体包括第一机座，第一机座顶部固定有第二机座，第二机座顶部固定有涂膜工作基座，涂膜工作基座的一侧通过一对合页连接有防反溅顶盖，防反溅顶盖配合罩设于涂膜工作基座上端口，涂膜工作基座与防反溅顶盖之间形成相对封闭的工作腔，所述第二机座内部设有光路气路多用途旋转机构，光路气路多用途旋转机构包括设置于第二机座内部的电动机，电动机中的电动转轴呈垂直向上贯穿至涂膜工作基座的工作腔中，所述第二机座的顶部通过螺栓连接有上支撑座，上支撑座配合支撑电动机的顶部，第二机座的底部通过螺栓连接有下支撑座，且下支撑座配合支撑电动机的底部，所述电动转轴的上端固定连接有吸盘安装座，吸盘安装座的上端通过螺栓连接有吸盘，所述第一机座的内腔顶部设有光源组件，光源组件对应设置在电动转轴的正下方位置，所述第二机座的一侧壁设有控制面板，所述涂膜工作基座内部的工作腔底部设有排气管。
6.进一步的，所述电动转轴为延伸出电动机上下端部的空心轴体，吸盘安装座、吸盘对应电动转轴的内部通道位置开设有光路气路混用通孔，电动转轴的下端连接有气转接头，气转接头配合固定于下支撑座内部，下支撑座内部开设有与气转接头相连通的排气内通道，且排气内通道的外端口通过管接件连接有排气泵机。
7.所述光源组件由通过螺栓固定于第一机座内腔顶部的光源安装座，光源安装座底部通过螺栓固定与光源发生器，且光源发生器的光源发射方向与电动转轴呈同轴度设置，光源发生器的发射光源沿电动转轴以及吸盘安装座、吸盘所设的光路气路混用通孔贯穿。
8.所述防反溅顶盖的顶部开设有监测窗口，且检测窗口的开口处通过螺栓固定连接有透光板。
9.所述防反溅顶盖顶部设有光纤信号收集设备，光纤信号收集设备的信号采集端设
置于吸盘安装座、吸盘所设光路气路混用通孔的正上方。
10.所述控制面板上集合有位于外部的显示屏，且显示屏为可触控显示屏。
11.所述涂膜工作基座内部的工作腔为圆形内腔，且排气管为与涂膜工作基座的工作腔呈同轴度设置的圆环形气管体。
12.所述排气管由底部的排气管座以及顶部的排气管盖构成，排气管盖顶部开设有圆环形排气槽口，排气管座与排气管盖上一体成型有相对应的螺栓耳座，且其相对应设置的螺栓耳座通过螺栓螺母件固定，排气管座与排气管盖的贴合面之间设有密封胶垫。
13.所述排气管底部连接有8-10条导气管，且多条导气管沿排气管的中心呈环形阵列设置，下支撑座内部开设有多道与导气管相对应的排气内通道，且导气管的底端与相对应的排气内通道通过管接件连接。
14.所述排气管的内部设有与其内腔相配适贴合的储存槽，且储存槽与导气管的相接口位置设有细滤网层。
15.本实用新型的有益效果：
16.1、本实用新型可在旋涂过程中吸收光谱、荧光光谱和反射光谱的动态变化，用于跟踪溶剂挥发、溶剂退火、热退火过程中的材料相变，并在化学反应动力学、生化过程的跟踪检测方面具有优势，方便进行实时数据分析；
17.2、本实用新型在基片的涂膜操作过程中，排气泵机同时通过多条对称设置的导气管使得排气管进行抽气工作，而由于排气管座顶部开设有呈圆环形的排气槽口，且排气管与涂膜工作基座的工作腔呈同轴度设置，使得排气管能够对工作腔中湿润空气进行吸取，排气过程中，排气均匀，不产生气流紊乱，保证基片上涂膜的精度；
18.3、本实用新型在排气管的内部设有与其内腔相配适贴合的储存槽，储存槽能够对吸入气体中携带有的悬浮的胶质颗粒或者胶液进行过滤收集，且由于排气管的可拆卸结构，方便对储存槽进行清洁和更换。
附图说明
19.图1为本实用新型的一种带光路的匀胶机立体结构的第一视图；
20.图2为本实用新型的一种带光路的匀胶机立体结构的第二视图；
21.图3为本实用新型的一种带光路的匀胶机立体结构的第三视图；
22.图4为本实用新型的一种带光路的匀胶机结构的侧剖视图；
23.图5为本实用新型的一种带光路的匀胶机中排气管的结构示意图；
24.图6为图4中a处的放大图。
25.图中：1、第一机座；2、第二机座；201、上支撑座；202、下支撑座；2021、排气内通道；2022、气转接头；3、涂膜工作基座；301、防反溅顶盖；3011、透光板；4、光路气路多用途旋转机构；401、电动机；402、电动转轴；5、吸盘安装座；501、吸盘；6、排气泵机；7、光源组件；701、光源安装座；702、光源发生器；8、控制面板；9、排气管；901、排气管座；902、排气管盖；9021、排气槽口；903、螺栓耳座；904、密封胶垫；905、储存槽；10、导气管。
具体实施方式
26.为了更加清楚完整的说明本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型作
进一步说明。
27.请参考图1-图6，本实用新型提出一种带光路的匀胶机，包括匀胶机本体，结合图2和图4所示，匀胶机本体包括第一机座1，第一机座1顶部固定有第二机座2，第二机座2顶部固定有涂膜工作基座3，涂膜工作基座3的一侧通过一对合页连接有防反溅顶盖301，防反溅顶盖301配合罩设于涂膜工作基座3上端口，涂膜工作基座3与防反溅顶盖301之间形成相对封闭的工作腔，第二机座2内部设有光路气路多用途旋转机构4，光路气路多用途旋转机构4包括设置于第二机座2内部的电动机401，电动机401中的电动转轴402呈垂直向上贯穿至涂膜工作基座3的工作腔中，第二机座2的顶部通过螺栓连接有上支撑座201，上支撑座201配合支撑电动机401的顶部，第二机座2的底部通过螺栓连接有下支撑座202，且下支撑座202配合支撑电动机401的底部，电动转轴402的上端固定连接有吸盘安装座5，吸盘安装座5的上端通过螺栓连接有吸盘501，吸盘501可根据加工基片的规格、型号进行更换配对，电动转轴402为延伸出电动机401上下端部的空心轴体，吸盘安装座5、吸盘501对应电动转轴402的内部通道位置开设有光路气路混用通孔，电动转轴402的下端连接有气转接头2022，气转接头2022配合固定于下支撑座202内部，下支撑座202内部开设有与气转接头2022相连通的排气内通道2021，且排气内通道2021的外端口通过管接件连接有排气泵机6；本实用新型进行涂膜操作时：将基片放置于吸盘501上，控制电动机401工作，由电动转轴402驱使吸盘501进行转动，同时由排气泵机6进行抽气工作，使电动机401的内部通道形成负压，进而由吸盘501中部开设的光路气路混用通孔对基片进行吸取固定，同时在吸盘501的旋转下，使基片上滴有的溶液进行离心均匀涂膜。
28.结合图1和图4所示，第一机座1的内腔顶部设有光源组件7，光源组件7对应设置在电动转轴402的正下方位置，光源组件7由通过螺栓固定于第一机座1内腔顶部的光源安装座701，光源安装座701底部通过螺栓固定与光源发生器702，且光源发生器702的光源发射方向与电动转轴402呈同轴度设置，光源发生器702的顶端与气转接头2022之间设有光路密封组件，防反溅顶盖301顶部设有光纤信号收集设备，光纤信号收集设备的信号采集端设置于吸盘安装座5、吸盘501所设光路气路混用通孔的正上方，防反溅顶盖301的顶部开设有监测窗口，且检测窗口的开口处通过螺栓固定连接有透光板3011，在光纤信号收集设备接收光信号的同时，保证涂膜工作基座3与防反溅顶盖301构成的工作腔的密闭性；本实用新型基片涂膜的过程中进行材料光谱的研究操作：随着上述对基片的涂膜操作过程中，光源发生器702根据实验需求发射出光源，光源沿电动转轴402以及吸盘安装座5、吸盘501所设的光路气路混用通孔贯穿，使得光源打射在基片以及基片上形成的涂膜上，此时设备上方光纤信号收集设备实时进行原位获得并跟踪监测旋涂过程中吸收光谱、荧光光谱和反射光谱动态变化。
29.结合图3和图4所示，第二机座2的一侧壁设有控制面板8，控制面板8上集合有位于外部的显示屏，且显示屏为可触控显示屏，由控制面板8达到对光路气路多用途旋转机构4以及对光源组件7的操控。
30.结合图3、图4和图5所示，涂膜工作基座3内部的工作腔底部设有排气管9，且排气管9通过导气管10与下支撑座202内部开设有的排气内通道2021相连接，涂膜工作基座3内部的工作腔为圆形内腔，且排气管9为与涂膜工作基座3的工作腔呈同轴度设置的圆环形气管体，排气管9由底部的排气管座901以及顶部的排气管盖902构成，排气管盖902顶部开设
有圆环形的排气槽口9021，排气管座901与排气管盖902上一体成型有相对应的螺栓耳座903，且其相对应设置的螺栓耳座903通过螺栓螺母件固定，排气管座901与排气管盖902的贴合面之间设有密封胶垫904，排气管9底部连接有8-10条导气管10，且多条导气管10沿排气管9的中心呈环形阵列设置，下支撑座202内部开设有多道与导气管10相对应的排气内通道2021，且导气管10的底端与相对应的排气内通道2021通过管接件连接，在排气泵机6的排气过程中，通过多条对称设置的导气管10使得排气管9进行抽气工作，而由于排气管座901顶部开设有呈圆环形的排气槽口9021，且排气管9与涂膜工作基座3的工作腔呈同轴度设置，使得排气管9能够对工作腔中湿润空气进行吸取，排气过程中，排气均匀，不产生气流紊乱，保证基片上涂膜的精度，排气管9的内部设有与其内腔相配适贴合的储存槽905，且储存槽905与导气管10的相接口位置设有细滤网层，储存槽905能够对吸入气体中携带有的悬浮的胶质颗粒或者胶液进行过滤收集，且由于排气管9的可拆卸结构，方便对储存槽905进行清洁和更换。
31.本实用新型进行基片的涂膜以及涂膜的过程中进行材料光谱的研究操作时：将基片放置于吸盘501上，控制电动机401工作，由电动转轴402驱使吸盘501进行转动，同时由排气泵机6进行抽气工作，使电动机401的内部通道形成负压，进而由吸盘501中部开设的光路气路混用通孔对基片进行吸取固定，同时在吸盘501的旋转下，使基片上滴有的溶液进行离心均匀涂膜；
32.在基片的涂膜操作过程中，光源发生器702根据实验需求发射出光源，光源沿电动转轴402以及吸盘安装座5、吸盘501所设的光路气路混用通孔贯穿，使得光源打射在基片以及基片上形成的涂膜上，此时设备上方光纤信号收集设备实时进行原位获得并跟踪监测旋涂过程中吸收光谱、荧光光谱和反射光谱动态变化；
33.在基片的涂膜操作过程中，排气泵机6同时通过多条对称设置的导气管10使得排气管9进行抽气工作，而由于排气管座901顶部开设有呈圆环形的排气槽口9021，且排气管9与涂膜工作基座3的工作腔呈同轴度设置，使得排气管9能够对工作腔中湿润空气进行吸取，排气过程中，排气均匀，不产生气流紊乱，保证基片上涂膜的精度；且在排气管9的内部设有与其内腔相配适贴合的储存槽905，储存槽905能够对吸入气体中携带有的悬浮的胶质颗粒或者胶液进行过滤收集，且由于排气管9的可拆卸结构，方便对储存槽905进行清洁和更换。
34.当然，本实用新型还可有其它多种实施方式，基于本实施方式，本领域的普通技术人员在没有做出任何创造性劳动的前提下所获得其他实施方式，都属于本实用新型所保护的范围。