一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置的制作方法

文档序号:30327949发布日期:2022-06-08 02:53阅读:180来源:国知局
一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置的制作方法

1.本实用新型涉及烟气脱硝装置技术领域,特别涉及一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置。


背景技术:

2.烟气脱硝技术主要有干法(选择性催化还原烟气脱硝、选择性非催化还原法脱硝)和湿法两种。与湿法烟气脱硝技术相比,干法烟气脱硝技术的主要优点是:基本投资低,设备及工艺过程简单,脱除nox的效率也较高,无废水和废弃物处理,不易造成二次污染。
3.专利号cn210674739u公布了一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置,该实用新型公开了一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置,该脱硝装置布置于间歇式电瓷窑炉排烟引风机后端,在不需要外加还原剂(如氨)的情况下实现烟气脱硝,避免了对窑炉产品的负面影响。通过采用固定床反应器,对间歇式电瓷窑炉温度变化范围大、氮氧化物浓度变化大等具有较好的适应性。通过设置调节室,在烟气脱硝中能有选择性的处理氮氧化物集中产生期的烟气量,降低了装置的设计处理量和占地面积。同时解决了间歇式电瓷窑炉因烟温变化较大、烟气含水率变化大、窑炉停炉后热烟气冷凝等对脱硝剂产生的不利影响。此外,本实用新型结构简单,大大节约占地面积。
4.该一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置存在以下弊端:该申请整体操作需要大量人工参与,操作较为麻烦,并且不可以针对更多孔径的烟囱进行固定。为此,我们提出一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置。


技术实现要素:

5.本实用新型的主要目的在于提供一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置,可以有效解决背景技术中的问题。
6.为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:
7.一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置,包括储气仓,还包括进气机构和排气机构,所述进气机构由进气管、电磁阀a、转动仓、喷头和轴承组成,所述进气管表面安装有电磁阀a,所述进气管表面一侧安装有轴承,所述轴承表面安装有转动仓,所述转动仓表面开设有喷头且喷头开设方向相同,所述排气机构由排气管、气体监测仪和电磁阀b组成,所述排气管表面安装有电磁阀b,所述储气仓内壁安装有气体监测仪。
8.进一步地,还包括固定机构和密封机构,所述固定机构由固定槽、进气口、密封垫、弧形片和螺纹杆组成,所述密封机构由密封块、球形块和接触片组成;通过固定机构,让整体可以和更多直径的烟囱进行对接固定,通过密封机构让转动仓和轴承连接时不会出现漏气的现象。
9.进一步地,所述储气仓表面固定连接有进气口,所述进气口表面焊接有固定槽,所述固定槽内壁固定连接有密封垫,所述固定槽内壁配合滑动连接有弧形片,所述固定槽表面配合螺纹连接有螺纹杆,所述螺纹杆表面另一侧配合转动连接于弧形片表面;通过进气
口与储气仓相连,让烟囱排出的烟气可以直接进入储气仓内,并且在固定时通过密封垫有效的阻挡的烟气进入固定槽内而造成的空气污染,并且通过螺纹杆带动弧形片进行移动,从而可以对更多直径的烟囱进行固定。
10.进一步地,所述转动仓内壁安装有密封块,所述密封块表面安装有接触片,所述密封块内壁填充有球形块;密封块表面的接触片会与转动仓内壁相互接触,并且在球形块弹性的作用下,即使转动仓转动时,也会让接触片牢牢的贴合在转动仓的内壁形成密封结构,有效的阻止了气体的泄漏。
11.进一步地,所述储气仓内壁安装有气压监测仪,所述储气仓表面安装有plc控制器,所述气体监测仪和气压监测仪信号输出端与plc控制器信号输入端相连;plc控制器来通过气体监测仪和气压监测仪反馈的数据来对电磁阀a和电磁阀b进行控制。
12.与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:在使用时先将进气口对着窑炉的排烟口,这时密封垫是位于排烟口的外侧,通过转动四根螺纹杆,让螺纹杆带动弧形片向前推动,借助密封垫与排烟口相互接触并产生挤压,这样就形成了一个固定结构,在密封垫的隔绝作用下有效的阻挡了烟气从固定槽向外排出,这时将两个进气管分别与氧气管和还原气体管道相连,并且是现在plc控制器上进行编程,当气压监测仪达到一定数值时自动打开电磁阀a,当气体监测仪检测数据达到一定正常值时,打开电磁阀b,当打开电磁阀a时两个进气管分别进入氧气和还原剂气,当气体顺着进气管进入时,其有一定初始速度,这时气体冲入转动仓内,通过转动仓表面的喷头向外喷射,由于喷头的开设方向一致,在向外喷射的过程中就会产生一定的反作用力带动转动仓在轴承的作用下转动,并且在转动的过程中转动仓内壁的接触片,会在球形块弹力的作用下,牢牢的与转动仓内壁接触并产生挤压,从而形成密封结构,有效的防止了因为气体外漏而造成的气压不足,这样通过转动仓排出的气体范围较大,与废气接触的面积就较大,这样可以让其反应更加充分,当气体检测仪检测数据达到可以排放的量时,自动开启电磁阀b,由于其内部有一定的气压,在开启电磁阀b后,气体会向外排出,在排出完毕后,通过plc控制器将电磁阀b关闭即可,整个操作自动化程度较高,大大的降低了人们的消耗,并且增大了脱销的效率。
附图说明
13.图1为本实用新型一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置的整体结构示意图。
14.图2为本实用新型一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置的固定槽结构示意图。
15.图3为本实用新型一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置的进气管结构示意图。
16.图4为本实用新型一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置的密封块结构示意图。
17.图中:1、储气仓;2、固定槽;3、进气口;4、密封垫;5、弧形片;6、螺纹杆;7、进气管;8、电磁阀a;9、排气管;10、电磁阀b;11、气体监测仪;12、轴承;13、转动仓;14、密封块;15、喷头;16、接触片;17、球形块;18、气压监测仪;19、plc控制器。
具体实施方式
18.为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
19.如图1-4所示,一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置,包括储气仓1,还包括进气机构
和排气机构,所述进气机构由进气管7、电磁阀a8、转动仓13、喷头15和轴承12组成,所述进气管7表面安装有电磁阀a8,所述进气管7表面一侧安装有轴承12,所述轴承12表面安装有转动仓13,所述转动仓13表面开设有喷头15且喷头15开设方向相同,所述排气机构由排气管9、气体监测仪11和电磁阀b10组成,所述排气管9表面安装有电磁阀b10,所述储气仓1内壁安装有气体监测仪11。
20.其中,还包括固定机构和密封机构,所述固定机构由固定槽2、进气口3、密封垫4、弧形片5和螺纹杆6组成,所述密封机构由密封块14、球形块17和接触片16组成;通过固定机构,让整体可以和更多直径的烟囱进行对接固定,通过密封机构让转动仓13和轴承12连接时不会出现漏气的现象。
21.其中,所述储气仓1表面固定连接有进气口3,所述进气口3表面焊接有固定槽2,所述固定槽2内壁固定连接有密封垫4,所述固定槽2内壁配合滑动连接有弧形片5,所述固定槽2表面配合螺纹连接有螺纹杆6,所述螺纹杆6表面另一侧配合转动连接于弧形片5表面;通过进气口3与储气仓1相连,让烟囱排出的烟气可以直接进入储气仓1内,并且在固定时通过密封垫4有效的阻挡的烟气进入固定槽2内而造成的空气污染,并且通过螺纹杆6带动弧形片5进行移动,从而可以对更多直径的烟囱进行固定。
22.其中,所述转动仓13内壁安装有密封块14,所述密封块14表面安装有接触片16,所述密封块14内壁填充有球形块17;密封块14表面的接触片16会与转动仓13内壁相互接触,并且在球形块17弹性的作用下,即使转动仓13转动时,也会让接触片16牢牢的贴合在转动仓13的内壁形成密封结构,有效的阻止了气体的泄漏。
23.其中,所述储气仓1内壁安装有气压监测仪18,所述储气仓1表面安装有plc控制器19,所述气体监测仪11和气压监测仪18信号输出端与plc控制器19信号输入端相连;plc控制器19来通过气体监测仪11和气压监测仪18反馈的数据来对电磁阀a8和电磁阀b10进行控制。
24.需要说明的是,本实用新型为一种间歇式电瓷窑炉烟气脱硝装置,工作时,先将进气口3对着窑炉的排烟口,这时密封垫4是位于排烟口的外侧,通过转动四根螺纹杆6,让螺纹杆6带动弧形片5向前推动,借助密封垫4与排烟口相互接触并产生挤压,这样就形成了一个固定结构,在密封垫4的隔绝作用下有效的阻挡了烟气从固定槽2向外排出,这时将两个进气管7分别与氧气管和还原气体管道相连,并且是现在plc控制器19上进行编程,当气压监测仪18达到一定数值时自动打开电磁阀a8,当气体监测仪11检测数据达到一定正常值时,打开电磁阀b,当打开电磁阀a8时两个进气管7分别进入氧气和还原剂气,当气体顺着进气管7进入时,其有一定初始速度,这时气体冲入转动仓13内,通过转动仓13表面的喷头15向外喷射,由于喷头15的开设方向一致,在向外喷射的过程中就会产生一定的反作用力带动转动仓13在轴承12的作用下转动,并且在转动的过程中转动仓13内壁的接触片16,会在球形块17弹力的作用下,牢牢的与转动仓13内壁接触并产生挤压,从而形成密封结构,有效的防止了因为气体外漏而造成的气压不足,这样通过转动仓排出的气体范围较大,与废气接触的面积就较大,这样可以让其反应更加充分,当气体检测仪11检测数据达到可以排放的量时,自动开启电磁阀b10,由于其内部有一定的气压,在开启电磁阀b10后,气体会向外排出,在排出完毕后,通过plc控制器19将电磁阀b10关闭即可,整个操作自动化程度较高,大大的降低了人们的消耗,并且增大了脱销的效率。
25.以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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