氧化铝抛光液配置装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种氧化铝抛光液配置装置，该装置包括用于配制氧化铝抛光液的物料桶、搅拌装置、粒径分级装置、过滤装置、超声池、PH测试口和辅料添加口；所述物料桶置于所述超声池上面；所述物料桶的盖子上设有PH测试口、辅料添加口、连接抛光粉粒径分级装置并且其底部设有带过滤装置的出料口。所述物料桶的内部设有搅拌器。本实用新型的氧化铝抛光液配置装置可以提高生产效率和产品质量，提高晶片表面抛光质量。
【专利说明】
氧化铝抛光液配置装置
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种抛光粉加工生产设备，具体地说本实用新型涉及氧化铝抛光液配置装置。
【背景技术】
[0002]作为精密加工的化学机械抛光技术(CMP)，抛光液的性能对CMP效果有非常重要的影响，尤其是抛光磨料粒径的均匀度和磨料的分散程度直接控制着抛光面的去除率和光洁度，粒径均匀的抛光磨料可以获得更好的抛光速率和准确精细的光洁面，因此对抛光磨料比如氧化铝、碳化硅、金刚石等进行配置装置的研究非常重要。
[0003]目前用于抛光液配置装置还没有和完善的，磨料分散一般分为:搅拌和搅拌加超声。磨料的粒径分级装置很多，例如中国专利CN1053565A公布了一种急弯射流微粉粒度分级方法及装置，该装置利用射流偏转筛分原理和错流筛分原理，适用1-100μπι的颗粒的筛分，适用范围也较窄。
【发明内容】
[0004]本实用新型的目的在于提供一种氧化铝抛光液配置装置，该装置不仅可以使氧化铝粉充分分散、粒径分级和成品过滤，而且结构灵活、易于更换。
[0005]本实用新型是通过以下技术方案来实现的:
[0006]利用氧化铝抛光液配合装置配置高品质氧化铝抛光液，包括氧化铝抛光液配置装置，其特征在于，该装置包括物料桶、搅拌装置、粒径分级装置、过滤装置、超声池、PH测试口和辅料添加口。所述的物料桶置于超声池内部，底部连接有过滤装置，内部包括搅拌装置，上部连接粒径分级装置、PH测试口和辅料添加口。所述物料桶用于储存抛光磨料浆料以及将浆料通过搅拌和超声进行分散的容器;所述物料桶盖上的PH测试口和辅料添加口分别用于对物料桶中氧化铝抛光液PH进行监控和抛光液制备过程中需要加入的辅料的加料口。所述超声池用于将超声波转换成机械振动，从而对浆料桶中氧化铝抛光液进行超声分散;所述粒径分级装置包括抛光粉输入口和连接栗的抛光粉输出口，用于对磨料粒径的初级筛分;所述过滤装置包括滤芯和过滤栗，滤芯微孔直径可以根据抛光粉粒径更换，用于氧化铝抛光液成品进行过滤。所述出料口固定在滤装置末端上，出料口通过螺钉固定在滤装置末端，便于拆卸，所述超声池包括超声波转换器和液体槽，所述超声池底端开设出料口。
[0007]本实用新型的有益效果如下:
[0008]本实用新型的利用粒径分级装置、超声池、搅拌装置和过滤装置完成对氧化铝抛光液配置，由于设置有粒径分级装置装置，使磨料粒径均一，提高抛光表面质量；由于超声池和搅拌装置，使抛光粉颗粒在溶剂中充分分散，避免出现团聚现象。另外，出料口处设置有过滤装置，进步一避免抛光液中大的颗粒物的出现;此外，过滤装置装灵活、便于拆卸，可以根据不同粒径要求对过滤装置进行更换。
[0009]【附图说明】
[0010]图1是本实用新型的氧化铝抛光液配置装置结构示意图；
[0011]附图标记说明:
[0012]1.超声池2.过滤装置3.出料口 4.电机5.插座6.PH测试口 7.辅料添加口 8.抛光粉加料口 9.粒径分级装置10.物料桶11.搅拌器12离心栗
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图详细描述本实用新型的【具体实施方式】。
[0014]氧化铝抛光液配置装置，如图1所示，包含1.超声池2.过滤装置3.出料口4.电机5.插座6.PH测试口 7.辅料添加口 8.抛光粉加料口 9.粒径分级装置10.物料桶11.搅拌器。所述氧化铝抛光粉通过粒径分级装置9输送到物料桶10中进行粒径分级，所述物料桶10位于超声池I的内部，所述搅拌器位于物料桶10内，PH测试口 6，辅料添加口 7固定在物料桶盖上，所述过滤装置2固定在出料口 3的前面。通过螺钉固定在出料口 3上的过滤装置2可根据抛光粉粒径选择不同目的滤芯，如为1250目,2500目和12500目。
[0015]本实用新型粒径分级装置、超声池和搅拌装置，提高抛光粉粒径均一性和抛光液分散性，其工作原理如下:由粒径分级装置对抛光粉进行粒径分级(去掉大粒径)，通过栗添加到物料桶中，其它辅料通过辅料添加口加入物料桶，超声池通过超声波换能器转换成每秒几万次的高频机械振动，在介质水中形成超声波，以正压和负压高频率交替变化的方式在水中疏密相间地向前辐射传播，使水中不断产生无数微小气泡并不断破裂，这种现象称之为“空化效应”。气泡破裂时可形成1000个大气压以上瞬间高压，产生一连串的爆炸释放出巨大的能量，对周围形成巨大冲击，从而对物料桶内抛光液不断进行冲击，避免抛光粉微粒的局部团聚，同时加上搅拌装置从而保证氧化铝抛光液分散性和均一性。分散结束后先通过过滤装置再通过出料口。
[0016]本实用新型的使用方法如下:打开粒径分级装置9对抛光粉进行分级，利用离心栗12将粒径均一的抛光粉输送到物料桶10中，通过辅料添加口 7加入溶剂和辅料，同时打开搅拌器11和超声池，使抛光粉与溶剂充分融合、分散。结束后，氧化铝抛光液先通过过滤装置2，在通过出料口 3排出并进行收集。
[0017]以上对本发明的具体实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本发明的较佳实施例，不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本发明的专利涵盖范围之内。
【主权项】
1.氧化铝抛光液配置装置，其特征在于，该装置包括物料桶、搅拌装置、粒径分级装置、过滤装置、超声池、PH测试口和辅料添加口 ；所述的物料桶置于超声池内部，底部连接有过滤装置，内部包括搅拌装置，上部连接粒径分级装置、PH测试口和辅料添加口。2.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液配置装置，其特征在于:还包括位于物料桶上方的电机和插座。3.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液配置装置，其特征在于:所述过滤装置包括滤芯和栗，滤芯微孔直径可以根据磨料粒径更换。4.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液配置装置，其特征在于:所述搅拌装置包括搅拌轴、叶轮、电机和插座。5.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液配置装置，其特征在于:所述粒径分级装置包括抛光粉输入口和连接栗的抛光粉输出口。6.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液配置装置，其特征在于:所述超声池中的超声波频率为20?200kHz。7.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液配置装置，其特征在于:还可以应用于其它磨料的配置，包括单、多晶金刚石抛光液，氧化铈抛光液，碳化硼研磨液，碳化硅研磨液，氧化锆研磨液。
【文档编号】B07B13/00GK205613356SQ201620061718
【公开日】2016年10月5日
【申请日】2016年1月15日
【发明人】董云娜
【申请人】天津西美半导体材料有限公司