一种废酸液中铝离子提取及酸液回收利用装置的制作方法

文档序号:12631582阅读:823来源:国知局

本实用新型涉及废酸液回收利用技术领域,尤其涉及一种废酸液中铝离子提取及酸液回收利用装置。



背景技术:

在预涂感光版(PS版)的制造过程,为了进一步提高印刷PS版的耐印力和印刷适性,就必须对铝版进行阳极氧化处理,使铝版的表面形成一层多孔的氧化膜。这种氧化膜不仅吸附能力强,而且耐腐蚀性强。铝版阳极氧化生成的氧化膜,实质上是两种不同的化学反应同时进行的结果。其中一种是电化学反应,铝与阳极析出的氧发生作用生成以氧化铝为主的膜层。只有当氧化膜的生成速度大于溶解速度时,氧化膜才能顺利形成并保持一定的厚度。铝版的阳极氧化工艺常有硫酸阳极氧化、草酸阳极氧化、铬酸阳极氧化以及硬质阳极氧化和瓷质阳极氧化等。硫酸阳极氧化成本低,具有较大的吸附力、耐磨性、耐蚀性,因此应用非常广泛,成为目前印刷PS版的铝表面处理中主流的阳极氧化方式。

阳极氧化中硫酸溶液的浓度一般控制在12%~20%,适宜在16%~18%;铝离子的浓度控制在0.1~10g/L,适宜在3~8g/L范围。若氧化液中铝离子的浓度小于0.1g/L,阳极氧化时氧化膜溶解能力强,难以获得正常的膜层厚度,膜层的耐蚀性和耐磨性也差,氧化膜的性能急剧下降。因此,在新配制的硫酸氧化液过程中,必须添加0.1g/L铝离子,以硫酸铝〔Al2(SO4)3·18H2O〕或部分氧化老槽液抽取加入,确保氧化液中保持一定的铝离子浓度。但是,当铝离子的浓度为10~18g/L时,阳极氧化溶液中会积累过多的铝离子,导致游离硫酸浓度逐渐下降,导电性能降低。由于PS版阳极氧化采取恒定电压的工艺方法,势必造成电流密度明显降低,使铝版表面出现白点或块状白斑或条纹等问题,严重影响氧化膜的吸附性能、耐磨性能。

为了确保PS版阳极氧化正常运转,当铝含量超过规定的上限时,应排放1/4~1/3老槽液来降低铝的含量,然后再计量添加硫酸和去离子水。不仅造成酸液的浪费,增加生产成本,而且污染环境。目前,一些PS版制造厂采用阳离子交换柱设备、加热蒸馏法、萃取法等传统方法回收废酸液循环使用,但是存在回收液浓度稳定性差、铝离子及酸液回收率低等问题。



技术实现要素:

本实用新型旨在解决现有技术的不足,而提供一种废酸液中铝离子提取及酸液回收利用装置。

本实用新型为实现上述目的,采用以下技术方案:一种废酸液中铝离子提取及酸液回收利用装置,包括过滤器、输送泵A、加热釜、冷凝器、高位水槽、扩散渗析器、回收酸储罐、残液储罐和输送泵B,所述过滤器与生产用酸槽的废酸排出口连接,所述输送泵A与过滤器连接,所述加热釜与输送泵A连接,所述冷凝器与加热釜的上出口连接,所述加热釜的下出口和高位水槽分别与扩散渗析器进口连接,所述加热釜和高位水槽均位于扩散渗析器上方,所述残液储罐与扩散渗析器的残液出口连接,所述回收酸储罐进口分别与扩散渗析器的回收酸出口和冷凝器出口连接,所述回收酸储罐的出口与输送泵B连接,所述输送泵B与生产用酸槽的进口连接。

所述扩散渗析器中的离子交换膜为芳香族聚醚类复合膜。

进一步地,所述输送泵A和输送泵B为磁力泵。

本实用新型的有益效果是:本实用新型通过加热釜初步将废酸液中的铝离子与酸液分离,之后采用扩散渗析法进一步分离,含有铝离子的残液进入残液储罐,分离后的酸液经回收酸储罐重新进入生产用酸槽,实现酸液的回收利用,回收液浓度稳定性高,铝离子及酸液回收率高,降低了生产成本,减少了废酸液排放,减轻了对环境的污染。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图中:1-生产用酸槽;2-过滤器;3-输送泵A;4-加热釜;5-冷凝器;6-高位水槽;7-扩散渗析器;8-回收酸储罐;9-残液储罐;10-输送泵B;

以下将结合本实用新型的实施例参照附图进行详细叙述。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明:

如图1所示,一种废酸液中铝离子提取及酸液回收利用装置,包括过滤器2、输送泵A3、加热釜4、冷凝器5、高位水槽6、扩散渗析器7、回收酸储罐8、残液储罐9和输送泵B10,所述过滤器2与生产用酸槽1的废酸排出口连接,所述输送泵A3与过滤器2连接,所述加热釜4与输送泵A3连接,所述冷凝器5与加热釜4的上出口连接,所述加热釜4的下出口和高位水槽6分别与扩散渗析器7进口连接,所述加热釜4和高位水槽6均位于扩散渗析器7上方,所述残液储罐9与扩散渗析器7的残液出口连接,所述回收酸储罐8进口分别与扩散渗析器7的回收酸出口和冷凝器5出口连接,所述回收酸储罐8的出口与输送泵B10连接,所述输送泵B10与生产用酸槽1的进口连接。

所述扩散渗析器7中的离子交换膜为芳香族聚醚类复合膜。

进一步地,所述输送泵A3和输送泵B10为磁力泵。

上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种改进,或未经改进直接应用于其它场合的,均在本实用新型的保护范围之内。

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