本实用新型属于电镀设备技术领域，具体涉及一种电镀液循环过滤系统。
背景技术：
电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺，从而起到防止金属氧化(如锈蚀)，提高耐磨性、导电性、反光性及增进美观等作用。
为了保证镀层的质量，除了严格控制温度、电流密度、PH等工艺参数外，还必须重视搅拌及电镀液中的杂质等因素对镀件质量的影响，为了防止气泡在镀层表面滞留及电镀时的浓差极化，通常采用机械搅拌或空气搅拌的方式，或采用循环流量方式以增进电镀液的循环。电镀液过滤是保证电镀产品质量的重要措施之一。又因为在电镀工艺中，由于功能电镀层的化学和物理性能的改进，使得过滤操作和滤液的药水浓度的要求发生明显的变化。现有的电镀工艺的电镀液过滤，通常是设置一个过滤机，过滤机的进管固定在电镀槽的底部，出管固定在电镀槽的上部，这就使得过滤机工作负荷大，无法将沉积在槽底和漂浮在液面上的杂质过滤干净，易造成工件污染，对于电镀液循环过程中造成的电镀液损失很难做到定量补充，使电镀的效果很不均匀，降低电镀工艺可靠性。
技术实现要素：
针对上述现有技术的不足之处，本实用新型提供了一种电镀液循环过滤系统，可以对电镀液进行全面清洁的同时，还能够保持对电镀液的循环。
本实用新型的技术方案是这样实现的：
一种电镀液循环过滤系统，包括：
电镀槽，其包括槽体、设置在所述槽体上方的进液口、以及与所述槽体底部相连接的排液口；
补液箱，其供液口和回液口分别通过管路与所述电镀槽的进液口和排液口相连接，且在所述供液口和所述进液口之间的管路上设置第一循环泵，在所述回液口和所述排液口之间的管路上设置第一电磁阀；
过滤装置，其包括过滤机和第二循环泵，所述过滤机的入液口与所述电镀槽的排液口通过管路相连接，所述过滤机的出液口与所述补液箱的回液口相连接，且在所述入液口与所述排液口之间的管路上设置第二电磁阀，在所述出液口和所述回液口之间的管路上设置第二循环泵；
控制系统，其包括与所述第一循环泵、第二循环泵、第一电磁阀和第二电磁阀电连接的控制器。
进一步的，所述槽体的底面为向所述排液口一侧倾斜的斜面。
进一步的，所述槽体的下部设置有可拆卸连接的第一滤网，所述第一滤网与所述槽体底部之间设置有内部设置有活性炭的吸附球。
进一步的，所述第一滤网与振动装置相连接。
进一步的，所述槽体的底部设置有带有排污阀的排污管，所述排污阀与所述控制器相连接。
进一步的，所述槽体内设置有总液位控制器，总液位控制器包括上液位传感器和下液位传感器，所述上液位传感器和下液位传感器均与所述控制器和报警装置相连接。
进一步的，所述补液箱内设置有补液腔和过滤腔，所述补液腔和过滤腔的底部各设置有一均与所述过滤机和所述第一电磁阀相连接的回液口，所述补液腔的上方设置有供液口，所述供液口通过伸入所述补液腔下部的供液管与管路相连接，所述补液腔和所述过滤腔之间设置有挡板，所述挡板的上部设置有一个通孔，在低于所述通孔的水平高度的所述过滤腔内设置有第二滤网。
进一步的，所述补液腔上的回液口与所述过滤机之间的管路、以及所述过滤腔上的回液口与所述第一电磁阀之间的管路上分别设置有与所述控制器相连接的第三电磁阀和第四电磁阀。
进一步的，所述过滤腔的底部和所述第二滤网之间设置有滤芯。
进一步的，所述控制器为PLC控制器。
本实用新型提供了一种电镀液循环过滤系统，通过电镀槽和补液箱之间通过管路连接过滤机，在第二循环泵定期打开下，可将电镀槽内的电镀液从排液口打到过滤机内，经过滤后回到补液箱内，保持电镀液的清洁；在不需要对电镀液进行清洁时，可将第二循环泵和第二电磁阀关闭，使电镀液在补液箱和电镀槽中进行循环，保证了电镀液的添加和循环；并且在电镀液需要进行过滤和循环同时进行时，则可以打开第二循环泵、第二电磁阀和第一循环泵，达到对电镀液的过滤和循环的操作。总之，本实用新型提供的循环过滤系统可将电镀槽内的杂质进行过滤，也能够对电镀液循环过程中造成的电镀液损失进行补充，使电镀的效果均匀，提高电镀工艺可靠性。
附图说明
图1为本实用新型示例性实施例的一种电镀液循环过滤系统的结构示意图；
图2为本实用新型示例性实施例的补液箱的结构示意图。
图中：1-电镀槽，101-槽体，102-进液口，103-排液口，104-斜面，105-第一滤网，106-吸附球，107-排污阀，108-排污管，109-上液位传感器，1010-下液位传感器；
2-补液箱，201-供液口，202-回液口，203-第一循环泵，204-第一电磁阀，205-补液腔，206-过滤腔，207-供液管，208-挡板，209-通孔，2010-第二滤网，2011-第三电磁阀，2012-第四电磁阀，2013-滤芯；
3-过滤装置，301-过滤机，302-第二循环泵，303-第二电磁阀；
4-控制器。
具体实施方式
为克服现有技术中的缺陷，本实用新型提供一种电镀液循环过滤系统。为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型的优选实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行更加详细的描述。
如图1所示，一种电镀液循环过滤系统，包括电镀槽1、补液箱2、过滤装置3和控制系统，电镀槽1包括槽体101、设置在槽体101上方的进液口102、以及与槽体101底部相连接的排液口103；补液箱2的供液口201和回液口202分别通过管路与电镀槽1的进液口102和排液口103相连接，且在供液口201和进液口102之间的管路上设置第一循环泵203，在回液口202和排液口103之间的管路上设置第一电磁阀204；过滤装置3包括过滤机301和第二循环泵302，过滤机301的入液口与电镀槽1的排液口103通过管路相连接，过滤机301的出液口与补液箱2的回液口202相连接，且在入液口与排液口103之间的管路上设置第二电磁阀303，在出液口和回液口202之间的管路上设置第二循环泵302；控制系统包括与第一循环泵203、第二循环泵302、第一电磁阀204和第二电磁阀303电连接的控制器4；其中，过滤机301、第二循环泵302和第二电磁阀303通过管路与第一电磁阀204并联。
作为一优选实施方式，槽体101的底面为向排液口103一侧倾斜的斜面104。
作为一优选实施方式，槽体101的下部设置有可拆卸连接的第一滤网105，第一滤网105与槽体101底部之间设置有内部设置有活性炭的吸附球106。
进一步的，第一滤网105与振动装置相连接。
作为一优选实施方式，槽体101的底部设置有带有排污阀107的排污管108，排污阀107与控制器4相连接。
作为一优选实施方式，槽体101内设置有总液位控制器，总液位控制器包括上液位传感器109和下液位传感器1010，上液位传感器109和下液位传感器1010均与控制器4和报警装置相连接。
作为一优选实施方式，如图2所示，补液箱2内设置有补液腔205和过滤腔206，补液腔205和过滤腔206的底部各设置有一均与过滤机301和第一电磁阀204相连接的回液口202，补液腔205的上方设置有供液口201，供液口201通过伸入补液腔205下部的供液管207与管路相连接，补液腔205和过滤腔206之间设置有挡板208，挡板208的上部设置有一个通孔209，在低于通孔209的水平高度的过滤腔206内设置有第二滤网2010。
进一步的，补液腔205上的回液口202与过滤机301之间的管路、以及过滤腔206上的回液口202与第一电磁阀204之间的管路上分别设置有与控制器4相连接的第三电磁阀2011和第四电磁阀2012。补液箱2的设计可以对电镀液进行二次过滤，确保电镀液的清洁。
其中，过滤腔206的底部和第二滤网2010之间设置有滤芯2013。
作为一优选实施方式，控制器4为PLC控制器。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。