带有电解液控制结构的电解磨削装置的制作方法

文档序号:19600497发布日期:2020-01-03 12:58阅读:369来源:国知局
带有电解液控制结构的电解磨削装置的制作方法

本发明属于电解磨削技术领域,特别涉及带有电解液控制结构的电解磨削装置。



背景技术:

电解磨削是电解作用与机械磨削相结合的一种特种加工,又称电化学磨削;工件作为阳极与直流电源的正极相连;导电磨轮作为阴极与直流电源的负极连接;

电解磨削在加工中需要不断的喷电解液至工件上,以保证电解的正常进行并对工件进行润滑、降温,目前的喷液管主要为固定式,喷管置于磨砂轮的一侧,喷管将电解液喷射至工件,工作过程中喷液动作持续进行;

喷管设置于一侧覆盖面有限,并且当工件向背离喷管的一侧运动至极限,即工件的边缘与磨砂轮接触时,此时工件整体均背离喷管,喷管喷出的液体无法完全到达工件上,而电解液却在正常喷射,造成电解液的浪费,工件未被充分覆盖电解液,影响电解效果。



技术实现要素:

本发明针对现有技术存在的不足,提供了带有电解液控制结构的电解磨削装置,具体技术方案如下:

带有电解液控制结构的电解磨削装置,包括移动机构;所述移动机构的顶部安装有磨砂轮,所述磨砂轮的一侧设有第一喷管、另一侧设置第二喷管;所述第一喷管、所述第二喷管的顶端均连通至分流盒;

所述分流盒的内部滑动连接有分流机构,所述分流机构的入口端连接有供液软管;所述分流机构用以控制输入到所述第一喷管、第二喷管的液体量;所述分流机构固定连接牵引机构,所述牵引机构固定连接所述移动机构,所述牵引机构用以带动所述分流机构移动切换排液孔。

进一步地,所述分流盒的底面开设有第一排液孔和第二排液孔,所述第一排液孔与所述第一喷管连通,所述第二排液孔与所述第二喷管连通,所述第一排液孔与所述第二排液孔间隔设置。

进一步地,所述分流机构包括进液主管、分液管、第一管体、第二管体,所述进液主管与所述供液软管连通,所述进液主管的连通至所述分液管,所述分液管的底面两端分别垂直连通至所述第一管体和第二管体,所述第一管体相对位于所述第一排液孔上,所述第二管体相对位于所述第二排液孔上,所述第一管体、所述第二管体均与所述分流盒的内壁滑动贴合。

进一步地,所述分流机构还包括限位块,所述进液主管、所述第一管体以及所述第二管体的外壁均设有限位块,所述分流盒的内壁开设有供所述限位块滑动嵌入的限位槽。

进一步地,所述牵引机构包括第一支杆、第二支杆以及第三支杆,所述第一支杆垂直连接所述移动机构,所述第一支杆的顶端垂直连接所述第二支杆,所述第二支杆与所述磨砂轮垂直分布,所述第二支杆的端部垂直连接第三支杆,所述第三支杆与所述移动机构平行,所述第二支杆贯穿于所述分流盒且端部固定连接所述分流机构。

进一步地,所述第一排液孔、所述第二排液孔之间的区域设有密封机构,所述密封机构的面积大于所述第一管体、第二管体的面积;所述密封机构用以封堵管体。

进一步地,所述移动机构包括滑轨和滑座,所述滑轨的表面滑动连接有所述滑座,所述滑座的一端侧面固定连接所述第一支杆。

本发明的有益效果是:通过设置左右两组喷管能够提高电解液的覆盖面,并且通过牵引机构能够带动分流机构运动,从而实现当工件向左运动至极限时,只有左侧的喷管工作、右侧喷管关闭,当工作向右运动至极限时,只有右侧的喷管工作、左侧喷管关白;从而极大的减少电解液的浪费,同时保证工件始终被大面积的电解液覆盖。

附图说明

图1示出了本发明的带有电解液控制结构的电解磨削装置结构示意图;

图2示出了本发明的牵引机构结构示意图;

图3示出了本发明的供液盒内部第一状态结构示意图;

图4示出了本发明的供液盒侧面结构示意图;

图5示出了图3的a处放大结构示意图;

图6示出了本发明的供液盒内部第二状态结构示意图;

图7示出了本发明的供液盒内部第三状态结构示意图;

图中所示:1、移动机构,11、滑轨,12、滑座,2、供液软管,3、牵引机构,31、第一支杆,32、第二支杆,33、第三支杆,4、分流盒,41、第一排液孔,42、第二排液孔,43、限位槽,5、磨砂轮,6、第一喷管,7、第二喷管,8、分流机构,81、进液主管,82、分液管,83、第一管体,84、第二管体,85、限位块,9、密封机构。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

带有电解液控制结构的电解磨削装置,包括移动机构1;所述移动机构1的顶部安装有磨砂轮5,所述磨砂轮5的一侧设有第一喷管6、另一侧设置第二喷管7;所述第一喷管6、所述第二喷管7的顶端均连通至分流盒4;第一喷管6、第二喷管7用以喷出电解液对加工工件和磨砂轮进行冷却、润滑,两个喷管能够实现从两侧喷水,提高冷却效果,便于控制;

所述分流盒4的内部滑动连接有分流机构8,所述分流机构8的入口端连接有供液软管2;所述分流机构8用以控制输入到所述第一喷管6、第二喷管7的液体量;所述分流机构8固定连接牵引机构3,所述牵引机构3固定连接所述移动机构1,所述牵引机构3用以带动所述分流机构8移动切换排液孔;牵引机构3能够带动分流机构8左右移动,使得分流机构8与移动机构1同步运动,当分流机构8向左移动时,整个工件向左移动,则位于右侧的喷管其喷液量可逐渐减少甚至停止,从而减少浪费,提高冷却效果。

作为上述技术方案的改进,所述分流盒4的底面开设有第一排液孔41和第二排液孔42,所述第一排液孔41与所述第一喷管6连通,所述第二排液孔42与所述第二喷管7连通,所述第一排液孔41与所述第二排液孔42间隔设置;每个排液孔对应一个喷管,分流机构8控制排液孔即可控制工作的管体;间隔设置的第一排液孔41和第二排液孔42,能够实现当分流机构向第一排液孔41方向位移时,第二排液孔42内便逐渐没有液体进入,最终整个排液过程均通过第一排液孔完成。

作为上述技术方案的改进,所述分流机构8包括进液主管81、分液管82、第一管体83、第二管体84,所述进液主管81与所述供液软管2连通,所述进液主管81的连通至所述分液管82,所述分液管82的底面两端分别垂直连通至所述第一管体83和第二管体84;分液管82用以将电解液分流至第一管体83和第二管体84,进液主管81用以与外部的电解液箱连通,采用供液软管2用以保证当分流软管8左右移动时,液体能够正常流通;

所述第一管体83相对位于所述第一排液孔41上,所述第二管体84相对位于所述第二排液孔42上,所述第一管体83、所述第二管体84均与所述分流盒4的内壁滑动贴合;贴合滑动用以保证液体不会泄露。

作为上述技术方案的改进,所述分流机构8还包括限位块85,所述进液主管81、所述第一管体83以及所述第二管体84的外壁均设有限位块85,所述分流盒4的内壁开设有供所述限位块85滑动嵌入的限位槽43;限位块85和限位槽43的设置能够保证分流机构8在移动中的稳定性,避免分流机构8左右偏移。

作为上述技术方案的改进,所述牵引机构3包括第一支杆31、第二支杆32以及第三支杆33,所述第一支杆31垂直连接所述移动机构1,所述第一支杆31的顶端垂直连接所述第二支杆32,所述第二支杆32与所述磨砂轮5垂直分布,所述第二支杆32的端部垂直连接第三支杆33,所述第三支杆33与所述移动机构1平行,所述第二支杆32贯穿于所述分流盒4且端部固定连接所述分流机构8;通过三个支杆能够实现分流机构与移动机构的同步运动,并且从侧部进行控制,不会影响到磨砂轮的正常工作。

作为上述技术方案的改进,所述第一排液孔41、所述第二排液孔42之间的区域设有密封机构9,所述密封机构9的面积大于所述第一管体83、第二管体84的面积;所述密封机构9用以封堵管体;密封机构9用以提高对于管体的密封效果,避免第一管体83或第二管体84漏液;密封机构9示例性的采用橡胶垫。

作为上述技术方案的改进,所述移动机构1包括滑轨11和滑座12,所述滑轨11的表面滑动连接有所述滑座12,所述滑座12的一端侧面固定连接所述第一支杆31;工件置于滑座12上,滑座12沿着滑块11往复滑动,滑座12带动分流机构8往复运动。

本发明在实施时,

初始状态时,如图3所示,工件安装在滑座12的中部,滑座12处于滑轨11的中部,分流机构8置于分流盒4的中部,第一管体83置于第一排液孔41上、第二管体84置于第二排液孔42上;第一管体83位于第一排液孔41靠左的三分之一处,第二管体84位于第二排液孔42靠右的三分之一处,

启动磨砂轮5和移动机构1,磨砂轮5对工件一边机械打磨、一边电解,示例性的,滑座12先向右运动,滑座12运动通过牵引机构3带动分流机构8向右滑动,第一管体83继续向第一排液孔41的右侧运动,第二管体84向第二排液孔42右侧;当运动一段距离后,如图6所示,第一管体83仍然在第一排液孔41上保持正常排液,第二管体84则离开第二排液孔42、运动至密封机构9上,第二管体84被封堵、第二排液孔42、第二喷管7不喷液,而此时,工件也被整体带动至移动到最右侧,工件整体置于磨砂轮5的右侧,工件的左侧边界与磨砂轮5接触,此时位于左侧的第二喷管7不排液,而位于右侧的第一喷管6则继续排液降温;

随后滑座12向左运动,第一管体83、第二管体84跟随向左运动;第一管体83继续在第一排液孔41上,第二管体84则向左返回至第二排液孔42上,从而回到初始状态;随后随着滑座的继续向左运动,工件整体置于磨砂轮的左侧,第一管体83离开第一排液孔41并与密封机构9接触,第二管体84则继续在第二排液孔42上运动,如图7所示;从而第一喷管6不喷液、第二喷管7喷液。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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