一种支架抛光工装及抛光装置的制作方法

文档序号:31629943发布日期:2022-09-24 01:40阅读:129来源:国知局
一种支架抛光工装及抛光装置的制作方法

1.本技术涉及医疗器械技术领域,具体而言,涉及一种支架抛光工装及抛光装置。


背景技术:

2.电化学抛光也称电解抛光,电解抛光是以被抛工件为阳极,不溶性金属为阴极,两极同时浸入到电解槽中,通以直流电而产生有选择性的阳极溶解,从而达到支架工件表面光亮度增大的效果。
3.而在抛光过程中,需要对抛光液安装搅拌转动扇叶进行搅拌,使电解过程中产生的金属离子均匀的分布在抛光溶液内,避免电解后的金属离子对支架的抛光效果造成影响。
4.现有的搅拌方式是在抛光液的边缘进行搅拌,并不能及时有效的清除支架工件表面电解后的金属离子,可能造成抛光工件表面外观不良。
5.同时由于抛光时支架本身不做旋转运行,导致阳极连接支架部位和阴极板始终处于同一抛光方向,造成支架在阳极与阴极同一方向抛光速度较快,不在同一方向的抛光速度较慢,造成支架抛光后不均匀。
6.有鉴于此,特提出本实用新型。


技术实现要素:

7.本技术的目的是提供一种支架抛光工装及抛光装置,能够使电解后的金属离子从支架表面及时脱除,增强支架的抛光效果。
8.为了实现上述目的,第一方面,本实用新型提供了一种支架抛光工装,包括:阳极杆以及喷涌管,所述支架套接在所述阳极杆上,所述喷涌管及所述阳极杆水平延伸且上下相对,所述喷涌管上设置有喷涌孔,所述喷涌孔竖直朝下,且开设在所述喷涌管的管壁上第三象限或第四象限的区域。
9.在可选的实施方式中,所述喷涌管设置在所述阳极杆的上方,所述阳极杆与所述喷涌管之间设置有间隙。
10.在可选的实施方式中,所述喷涌管的直径大于所述阳极杆的直径,所述阳极杆的轴心与所述喷涌管的轴心上下正对。
11.在可选的实施方式中,所述喷涌孔间隔均布在所述喷涌管上,且设置在平行于所述喷涌管轴心的同一直线方向上。
12.在可选的实施方式中,所述喷涌孔包括开设在所述喷涌管的管壁上的椭圆孔,所述椭圆孔的长轴方向与所述喷涌管的轴心方向垂直。
13.在可选的实施方式中,还包括固定杆,所述固定杆竖直设置,所述喷涌管穿过所述固定杆并由所述固定杆的底部穿出,所述阳极杆连接在所述固定杆的底端。
14.在可选的实施方式中,所述阳极杆的端部设置有限位环,所述限位环可拆卸地套接在所述阳极杆上,用以防止所述支架从所述阳极杆上脱离。
15.在可选的实施方式中,所述限位环为柔性套环,且所述支架的内径小于所述限位环的外径。
16.第二方面,本实用新型提供一种支架抛光装置,包括抛光容器以及前述实施方式中任一项所述的支架抛光工装,所述抛光容器中承装有抛光液。
17.在可选的实施方式中,所述支架抛光工装的底部伸入所述抛光容器,且所述阳极杆以及所述喷涌管完全浸没于抛光液。
18.通过设置的阳极杆,能够将支架套接在阳极杆上,结合与阳极杆上下相对的喷涌管,能够使支架在喷涌管的喷涌作用下在阳极杆上自由旋转,从而使金属离子能够从支架表面及时脱除,利于改善支架的抛光效果。
19.喷涌管上的喷涌孔竖直朝下,能够使通入喷涌管中的介质直接作用在位于喷涌管下部的支架上,结合喷涌介质的喷出压力可使支架在阳极杆上自由转动,从而实现支架的动态抛光,提高直接各部位抛光效果的均匀性。
20.通过将喷涌孔设置在喷涌管的管壁上的第三象限或者第四象限的区域,能够调整支架的旋转方向,利于满足不同类型支架的抛光要求。
21.本技术的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
22.为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本技术的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
23.图1为本技术中支架抛光工装的主视结构示意图;
24.图2为本技术中支架抛光工装的侧视结构示意图;
25.图3为本技术中支架抛光工装的俯视结构示意图;
26.图4为本技术中喷涌孔在抛光管底部的分布示意图;
27.图5为本技术中支架抛光工装与抛光容器的配合关系图。
28.图标:
29.1-固定杆;
30.2-喷涌管;21-喷涌孔;
31.3-阳极杆;
32.4-支架;
33.5-限位环;
34.6-抛光容器。
具体实施方式
35.为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
36.在本技术的描述中,需要说明的是,术语“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
37.在本技术的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
38.参见图1-图3,本技术中的支架抛光工装,主要用于对支架4表面通过电解抛光的形式进行处理,以满足支架4在具体加工中的抛光要求。
39.在现有的支架4抛光过程中,由于支架4本身不进行转动,抛光液在搅拌过程中各个部位抛光液的流动程度不一致,非常容易导致支架4不同位置的抛光效果存在差异。
40.本实用新型中的支架抛光工装,通过设置阳极杆3以及喷涌管2的形式,将支架4套接在阳极杆3上,并结合喷涌管2的喷涌作用,能够使支架4在阳极杆3上饶阳极杆3转动,从而实现支架4的动态抛光。
41.支架4在转动过程中,能够通过抛光液的阻力,使电解后的金属离子从支架4的表面相对脱离,结合喷涌管2上的喷涌孔21,在喷涌气体或者液体的喷涌压力作用下进一步地使金属离子从支架4表面及时脱除,或者将支架4表面附近的金属离子驱赶至抛光液的其他部位,以增强支架4整体的抛光效果。
42.喷涌管2及阳极杆3水平延伸且上下相对的设置形式,结合喷涌孔21竖直朝下的朝向位置,能够使喷涌介质直接向下作用在套接于阳极杆3的支架4上,以达到使支架4表面实时脱除金属离子的技术目的。
43.从保证支架4在阳极杆3上正常转动的角度考虑,避免喷涌介质作用在支架4正中位置而影响支架4的转动,在喷涌管2的竖断面上,以喷涌管2的轴心为原点,本实用新型中的喷涌孔21开设在喷涌管2的管壁上的第三象限或者第四象限的区域,能够使喷涌介质直接向下作用在支架4的侧部,且至少一部分能够打到支架4的侧壁上,从而产生相应的迫使支架4转动的驱动力,保证支架4能够在阳极杆3上自由转动。
44.从利用喷涌介质的喷涌压力推动支架4转动的角度考虑,喷涌孔21无论开设在第三象限或者第四象限上的区域,均能由喷涌压力产生向下的推动力,从而实现支架4的转动。
45.本实用新型中的喷涌介质可以为气体,也可以为抛光液本身的液体,喷涌气体可以为压缩空气,也可以为氮气等惰性气体,通过喷涌介质从喷涌孔21中喷出,能够直接作用于抛光中的支架4,在使支架4转动的同时,使支架4表面的金属离子从支架4脱离,保证抛光效果。
46.通过气体或液体的输出,使支架4能匀速旋转,增强抛光效果的一致性,支架4抛光后整体尺寸更加均匀。通过对气体或液体的输出压力进行调整,能够调节支架4在阳极杆3上旋转的快慢速度,提高一定的灵活性。
47.另外,通过将喷涌孔21在喷涌管2上不同象限的设置形式,能够控制支架4的转动
方向,进一步实现对不同类型的支架4进行抛光。
48.参见图2,在其中一个具体的实施例中,喷涌管2设置在阳极杆3的上方,喷涌孔21竖直朝下开设在喷涌管2的管壁上。为了防止喷涌管2对支架4的转动造成干涉影响,阳极杆3与喷涌管2之间设置有间隙。
49.通过设置的间隙一方面能够形成喷涌流体的喷出空间,缓冲喷涌压力,另一方面还能够保证支架4在阳极杆3上转动的自由度,更加重要的是避免出现支架4与喷涌管2之间的触碰,从而有效保护支架4本体不受磕碰损伤。
50.本实施例中的喷涌管2的直径大于阳极杆3的直径,能够保证喷涌介质的输出量,并利于通过对开孔面积的调整扩大或者缩小喷涌介质的喷涌区域,满足不同支架4的抛光要求。
51.结合图4,从提高抛光一致性的角度考虑,本实施例中的喷涌孔21间隔均布在喷涌管2上,且沿平行于喷涌管2轴心的同一直线方向延伸布置。基于喷涌介质在同一喷涌管2内的输出,结合在平行于喷涌管2轴心的同一直线方向上间隔均布的喷涌孔21,能够使支架4在其轴向上的不同部位受到相同的喷涌压力,从而保证自身的可靠转动。
52.同时,不同点位输出的相同状态或者参数的喷涌介质,能够使金属离子均匀地从支架4的表面脱离,结合支架4的动态转动抛光,从根本上保证了支架4整体抛光的均匀性。在实时清理抛光表面金属离子的同时,提高支架4抛光后的均匀度。
53.基于上文已述的喷涌介质的输出压力所构成的支架4转动的推动力,本实施例中的喷涌孔21包括开设在喷涌管2的管壁上的椭圆孔,椭圆孔的设置能够更好地保证喷涌孔21竖直向下的朝向,保证输出向下的喷涌压力。
54.同时为了提高喷涌介质作用在支架4表面的推动力,椭圆孔的长轴方向与喷涌管2的轴心方向垂直,能够使喷涌介质更多地作用在支架4的侧方,保证推动力输出的稳定性。
55.参见图5,在其中另一个具体的实施例中,支架抛光工装还包括竖直设置的固定杆1,喷涌管2穿过固定杆1并从固定杆1的顶部穿出,为了保证喷涌管2的水平延伸,喷涌管2在由固定杆1底部穿出后连接90
°
弯头,并在90
°
弯头上水平连接开设喷涌孔21的喷涌管2,保证喷涌介质可靠地向下喷涌输出。
56.阳极杆3连接在固定杆1的底端,在抛光过程中,支架4从阳极杆3的延伸末端套接安装,使支架4与阳极杆3之间具有一定的活动量,满足支架4动态转动抛光的实际需要。
57.为了防止支架4在转动过程中从阳极杆3上脱离,在阳极杆3的端部设置有限位环5,具体地,限位环5可拆卸地套接在阳极杆3上,通过限位环5的设置,能够限定支架4在阳极杆3轴向上的一定范围内进行转动,有效防止支架4的脱离,进而避免对抛光效果造成影响。
58.本实施例中的限位环5为具有一定宽度的柔性套环,限位环5优选橡胶套环或者硅胶套环的形式,防止支架4端部受到刚性碰撞,保证支架4的产品质量。进一步地,橡胶套环或者硅胶套环的限位环5,具有一定的理化稳定性,能够减少对抛光液的有效电解成分造成影响。同时,为了防止支架4逾越通过限位环5,支架4的内径小于限位环5的外径,能够使支架4在限位区域进行转动,增强动态抛光的可靠性。
59.结合图1及图5,本实用新型还提供了一种支架4抛光装置,包括抛光容器6以及上文所述的支架抛光工装,抛光容器6中承装有抛光液,对支架4进行电解抛光。
60.支架抛光工装的底部伸入抛光容器6,并使阳极杆3以及喷涌管2完全浸没于抛光
液,实时清理抛光支架4表面的金属离子,结合支架4的匀速转动,增强支架4抛光后的均匀度。
61.需要说明的是,在不冲突的情况下,本技术中的实施例中的特征可以相互结合。
62.以上所述仅为本技术的优选实施例而已,并不用于限制本技术,对于本领域的技术人员来说,本技术可以有各种更改和变化。凡在本技术的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。
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