鼠笼式单槽电解液过滤装置的制造方法

文档序号:10401573阅读:441来源:国知局
鼠笼式单槽电解液过滤装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及钢电解精炼的冶金技术领域,尤其是鼠笼式单槽电解液过滤装置。
【背景技术】
[0002]在永久不锈钢法铜电解精炼中,粗铜作为阳极在通电下进行电化学溶解,其主要成分铜以Cu2+形式进入电解液,其他杂质以离子形式进入电解液。粗铜表面一般在阳极板浇注冷却过程中容易生成一些毛刺。因阳极板浇注是1150°C的铜水冷却浇注,表面容易被空气氧化形成一定的氧化铜和氧化亚铜。电解生产在通电前,阳极板一般需要在电解液中浸泡半小时左右,在这段时间里,大量铜粉小颗粒漂浮到电解液中,随着电解液的流动,进入电解液的循环系统。在电解的生产过程中,阳极板中的杂质砷、锑和铋电化学溶解后,进入电解液中,在电解液中它们非常容易形成螯合物,并且以棉絮状漂浮在电解液中。这些铜粉和絮状漂浮是带电小颗粒,在电解生产磁场中,会粘附到阴铜表面,从而生长出粒子,严重影响阴极铜质量。一般一个电解循环液系统有2000-5000立方的电解液,只对系统四分之一的电解液进行精密过滤,过滤量也控制在150-200立方/小时。铜粉的生成一般都是在阳极板通电前的浸泡过程中产生。电解生产过程中絮状漂浮的产生也只有部分在电解槽,并且具有突发性和阶段性。将全部循环电解液进行精密过滤成本较高,需增加精密过滤设备和运行及维护成本,并且大部分电解液没有过滤的必要。基于目前精密过滤对铜粉和絮状漂浮过滤能力有限等问题的现状,制作一种简单、高效、可操作性强的单槽电解液过滤装置对提高生产效率和阴极铜质量是非常有意义的。

【发明内容】

[0003]本实用新型的目的就是为了解决永久不锈钢法铜电解生产中精密过滤存在过滤能力有限,成本较高等问题的现状,制作一种简单、可操作性强,提高电解液过滤量,减少铜粉和絮状漂浮,提高阴极铜质量的鼠笼式单槽电解液过滤装置。
[0004]本实用新型鼠笼式单槽电解液过滤装置,其特征在于:具有与电解槽出液漏斗相匹配的鼠笼式方形框体,鼠笼式方形框体是由上框和下框构成一体,上框和下框的左右两侧均设有若干个凸柱,且上框的凸柱和下框的凸柱相对布置,两侧凸柱之间用过滤布以之字形缠绕。
[0005]所述上框和下框的四角通过套管连接。
[0006]本实用新型结构简单,制作方便、可操作性强,通过在电解槽的出液漏斗内放置过滤装置,较好的解决了精密过滤器过滤能力有限,运行成本高的问题,保证了电解生产的连续稳定进行,提高了过滤能力,减少电解液中铜粉和絮状漂浮等有害杂质,确保电解液纯净,提高阴极铜质量。
【附图说明】
[0007]图1是本实用新型结构不意图;
[0008]图2是本实用新型框体示意图;
[0009]图3是本实用新型的使用不意图;
[0010]图4是本实用新型框体另一形式的结构示意图。
[0011 ]图中:1-鼠笼式方形框体,2-上框,3-下框,4-凸柱,5-过滤布,6-套管,7_电解槽,8-出液漏斗。
【具体实施方式】
[0012]参见图1-4,本实用新型鼠笼式单槽电解液过滤装置,具有与电解槽出液漏斗相匹配的鼠笼式方形框体I,鼠笼式方形框体是由上框2和下框3构成一体,上框和下框的左右两侧均设有若干个凸柱4,且上框的凸柱和下框的凸柱相对布置,两侧凸柱之间用过滤布5以之字形缠绕;所述上框和下框的四角通过套管6连接,使用时,将本实用新型安装在电解槽7两端出液漏斗8里,电解液经过本实用新型流回电解液循环系统,其过滤布过滤流经杂质,每次使用完将过滤布翻拆进行清理,下次继续使用。
【主权项】
1.鼠笼式单槽电解液过滤装置,其特征在于:具有与电解槽出液漏斗相匹配的鼠笼式方形框体,鼠笼式方形框体是由上框和下框构成一体,上框和下框的左右两侧均设有若干个凸柱,且上框的凸柱和下框的凸柱相对布置,两侧凸柱之间用过滤布以之字形缠绕。2.根据权利要求1所述的鼠笼式单槽电解液过滤装置,其特征在于:所述上框和下框的四角通过套管连接。
【专利摘要】本实用新型鼠笼式单槽电解液过滤装置,具有与电解槽出液漏斗相匹配的鼠笼式方形框体,鼠笼式方形框体是由上框和下框构成一体,上框和下框的左右两侧均设有若干个凸柱,且上框的凸柱和下框的凸柱相对布置,两侧凸柱之间用过滤布以之字形缠绕;所述上框和下框的四角通过套管连接;本实用新型结构简单,制作方便、可操作性强,通过在电解槽的出液漏斗内放置过滤装置,较好的解决了精密过滤器过滤能力有限,运行成本高的问题,保证了电解生产的连续稳定进行,提高了过滤能力,减少电解液中铜粉和絮状漂浮等有害杂质,确保电解液纯净,提高阴极铜质量。
【IPC分类】C25C7/00, C25C1/12
【公开号】CN205313684
【申请号】CN201620079070
【发明人】乐安胜, 陈学文, 许卫, 谢迎松, 曹昌盛
【申请人】大冶有色金属有限责任公司
【公开日】2016年6月15日
【申请日】2016年1月27日
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