一种磁控溅射设备中波纹管排气装置的制作方法

1.本实用新型涉及磁控溅射设备技术领域，特别是涉及一种磁控溅射设备中波纹管排气装置。


背景技术：

2.真空镀膜技术属于物理气相沉积成膜的方法，具有操作简单、溅射速率高、膜层致密等优点，在科研与生产中有广泛的应用。在薄膜溅射领域，对于颗粒的控制尤为严格，颗粒的存在对于集成电路会产生致命的缺陷。磁控溅射设备以应用材料的rndura 5500为代表，其在晶圆传送过程中对于颗粒的控制也非常严格，由于薄膜溅射中需要在真空环境中进行，所以在腔体的运动部件特别在升降机构中，大量运用了波纹管来隔绝内部的真空与外部的环境，波纹管上下用密封圈起到隔绝真空的作用，同时，它也可以随气缸的运动而运动。但是在现有设计中存在不足，结构上的缺陷使得波纹管在上下运动时，其内部的气体无法及时排出，而导致波纹管非常容易出现变形的问题，进而影响到机械传送，最后因为颗粒的产生而影响产品品质。


技术实现要素：

3.本实用新型为了解决波纹管无法及时排气而导致的机械传送问题，提供一种磁控溅射设备中波纹管排气装置。
4.本实用新型是通过下述技术方案来解决上述技术问题的：
5.本实用新型提供一种磁控溅射设备中波纹管排气装置，其包括气缸和固定在气缸顶部的底座，其特点在于，所述底座由底部的方形座体、中部的圆柱座体和顶部的圆盘座体一体连通构成，所述气缸的活动杆套设固定有导杆并穿设底座，所述导杆的顶部固定有圆台，所述圆盘座体的顶部设置有波纹管座，所述波纹管座的顶部固定波纹管的底端，所述波纹管套设在导杆的上部，所述波纹管的顶部与圆台的底部相固定，所述圆盘座体的顶部内侧且位于波纹管座正下方沿着导杆的圆周开设有圆环缺口，以使得圆盘座体的顶部构成台阶结构，所述圆柱座体的一侧内部且位于圆环缺口下方开设有竖向方向的导气槽，所述导气槽与圆环缺口相连通，所述圆柱座体的一侧由内向外方向开设有排气孔，所述排气孔与导气槽相连通。
6.较佳地，所述方形座体的形状和气缸的顶部的形状相匹配。
7.本实用新型的积极进步效果在于：
8.本实用新型改变了底座的设计，并在其上增加了排气孔，这样波纹管上下运动时，内部的气体可以及时排出，避免了其变形产生的影响。
附图说明
9.图1为本实用新型较佳实施例的磁控溅射设备中波纹管排气装置的立体图。
10.图2为本实用新型较佳实施例的底座的剖视图。
具体实施方式
11.为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
12.如图1和图2所示，本实施例提供一种磁控溅射设备中波纹管排气装置，其包括气缸1和固定在气缸1顶部的底座2，所述底座2由底部的方形座体21、中部的圆柱座体22和顶部的圆盘座体23一体连通构成，所述方形座体21的形状和气缸1的顶部的形状相匹配，所述气缸1的活动杆套设固定有导杆3并穿设底座2，所述导杆3的顶部固定有圆台4，所述圆盘座体23的顶部设置有波纹管座5，所述波纹管座5的顶部固定波纹管6的底端，所述波纹管6套设在导杆3的上部，所述波纹管6的顶部与圆台4的底部相固定，所述圆盘座体23的顶部内侧且位于波纹管座5正下方沿着导杆3的圆周开设有圆环缺口24，以使得圆盘座体23的顶部构成台阶结构，所述圆柱座体22的一侧内部且位于圆环缺口24下方开设有竖向方向的导气槽25，所述导气槽25与圆环缺口24相连通，所述圆柱座体22的一侧由内向外方向开设有排气孔26，所述排气孔26与导气槽25相连通。
13.工作时，气缸1的活动杆上下移动，带动导杆3和圆台4一起上下移动，从而带动波纹管沿导杆3长度方向伸长或缩短，产生的气体进入圆环缺口24形成的空间，由此空间进入导气槽25，再从排气孔26排出，避免了波纹管变形产生的影响。
14.该装置通过改进底座结构，并在底座上增加排气孔，使得气缸在上下运动过程中波纹管内部的气体可以顺利进入或排出，从而避免了因为波纹管内部无法及时卸压产生的压力过大、波纹管变形的情况的发生，进而避免了因为波纹管变形而导致的机械传送异常，提高了晶圆生产的品质。
15.虽然以上描述了本实用新型的具体实施方式，但是本领域的技术人员应当理解，这些仅是举例说明，本实用新型的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本实用新型的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本实用新型的保护范围。


技术特征：
1.一种磁控溅射设备中波纹管排气装置，其包括气缸和固定在气缸顶部的底座，其特征在于，所述底座由底部的方形座体、中部的圆柱座体和顶部的圆盘座体一体连通构成，所述气缸的活动杆套设固定有导杆并穿设底座，所述导杆的顶部固定有圆台，所述圆盘座体的顶部设置有波纹管座，所述波纹管座的顶部固定波纹管的底端，所述波纹管套设在导杆的上部，所述波纹管的顶部与圆台的底部相固定，所述圆盘座体的顶部内侧且位于波纹管座正下方沿着导杆的圆周开设有圆环缺口，以使得圆盘座体的顶部构成台阶结构，所述圆柱座体的一侧内部且位于圆环缺口下方开设有竖向方向的导气槽，所述导气槽与圆环缺口相连通，所述圆柱座体的一侧由内向外方向开设有排气孔，所述排气孔与导气槽相连通。2.如权利要求1所述的磁控溅射设备中波纹管排气装置，其特征在于，所述方形座体的形状和气缸的顶部的形状相匹配。

技术总结
本实用新型公开了一种磁控溅射设备中波纹管排气装置，其包括气缸和固定在气缸顶部的底座，底座由底部的方形座体、中部的圆柱座体和顶部的圆盘座体一体连通构成，气缸的活动杆套设固定有导杆并穿设底座，导杆的顶部固定有圆台，圆盘座体的顶部设置有波纹管座，波纹管座的顶部固定波纹管的底端，波纹管套设在导杆的上部，波纹管的顶部与圆台的底部相固定，圆盘座体的顶部内侧且位于波纹管座正下方沿着导杆的圆周开设有圆环缺口，以使得圆盘座体的顶部构成台阶结构，圆柱座体的一侧内部且位于圆环缺口下方开设有竖向方向的导气槽，导气槽与圆环缺口相连通，圆柱座体的一侧由内向外方向开设有排气孔，排气孔与导气槽相连通。排气孔与导气槽相连通。排气孔与导气槽相连通。


技术研发人员：张强 盛勇峰
受保护的技术使用者：上海悦匠实业有限公司
技术研发日：2022.02.09
技术公布日：2022/6/20