1.一种适用于高纯度流体输送系统的具延展性垫圈，所述垫圈包含一第一侧、一相对的第二侧以及一外周围部分，所述垫圈还包含一位于所述第一侧的内凸唇与一位于所述第二侧的外凸唇，其中所述内凸唇与所述外凸唇的周围彼此相距隔开；
所述垫圈的第一侧包含所述内凸唇的一设置向外的平坦第一密封区域，所述垫圈的第一侧还包含一形成所述内凸唇的一部分的环形部分、一自所述环形部分延伸的向外锥面部分以及自所述锥面部分向外延伸与连接所述平坦第一密封区域的一平滑曲线；
所述垫圈的第二侧包含所述外凸唇的一设置向内的平坦第二密封区域，所述垫圈的第二侧还包含一形成所述外凸唇的一部分的环形部分、一自所述环形部分延伸的向内锥面部分以及自所述锥面部分向内延伸与连接所述平坦第二密封区域的一平滑曲线；
其中所述垫圈设置于一由具有一接头的元件组合而成的流体通道中的密封配置，所述接头包含一接头沉孔部分、一接头沟槽部分、一自所述接头沉孔部分延伸的沉孔角以及一自所述接头沟槽部分延伸的沟槽部分角，此外其中所述内凸唇使所述垫圈与所述接头沉孔部分对齐，所述外凸唇使所述垫圈与所述接头沟槽部分对齐，使得当所述接头完全结合时，所述沉孔角剪切进入所述垫圈第一密封区域，所述沟槽部分角剪切进入所述垫圈第二密封区域。
2.如权利要求1所述的垫圈，其特征在于其中所述垫圈为圆形。
3.如权利要求1所述的垫圈，其特征在于其中所述垫圈为金属。
4.如权利要求3所述的垫圈，其特征在于其中所述垫圈为以圆棒原料加工制成。
5.如权利要求4所述的垫圈，其特征在于其中所述圆棒原料包含不锈钢或赫斯特耐酸合金。
6.如权利要求1所述的垫圈，其特征在于其中所述垫圈为高分子材料制成。
7.如权利要求1所述的垫圈，其特征在于其中所述垫圈包含一具有定义中央轴向孔的内周围的凸环。
8.如权利要求1所述的垫圈，其特征在于其中所述垫圈的第一侧为所述垫圈的第二侧的一镜像。
9.如权利要求1所述的垫圈，其特征在于其中所述垫圈包含一具有定义中央轴向孔的内周围的凸环，且每一所述平坦第一密封区域与所述平坦第一密封区域平坦第二密封区域与所述中央轴向孔大致垂直。
10.如权利要求1所述的垫圈，其特征在于其中所述沟槽部分角与沉孔角通过搭叠在接头元件的平面上使其变得尖锐。
11.如权利要求1所述的垫圈，其特征在于包含一厚垫片，置入所述接头相对的介面表面之间。
12.如权利要求1所述的垫圈，其特征在于其中所述接头是在相对的介面表面之间未置入任何垫片的情况下结合，且相对的介面表面与所述平坦第二密封区域位于相同高度。
13.如权利要求1所述的垫圈，其特征在于其中所述接头沟槽部分与沟槽部分角通过搭叠在平面上使其变得尖锐。
14.如权利要求1所述的垫圈，其特征在于其中所述接头的上元件及下元件分别包含额外沉孔，接头结合后成为一个沉孔且面向垫圈的外周围部分。
15.如权利要求1所述的垫圈，其特征在于其中所述接头是在相对的介面表面之间未置入任何垫片的情况下结合，且相对的介面表面的高度位于所述平坦第一密封区域以及平坦第二密封区域之间。