专利名称：一种在位式光电分析系统的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及光电分析系统，特别涉及一种在位式光电分析系统。
背景技术：
在位式光电分析系统，如应用吸收光谱技术(如半导体激光吸收光谱技术、差分光学吸收光谱技术、非分光红外吸收光谱技术等)的在位式气体分析系统，可实时在位分析各种过程参数，无需对被分析过程介质进行采样，在现代工业、科研、环保等领域有着广泛的应用。该类分析系统的工作原理是从测量探头中光发射部件中的光源(或光源安装在远处，光源发出的光通过光纤引到测量探头)发射一束光到被测过程环境中，与之相对应的(另一)测量探头中的光接收部件中的光电转换器(或光电转换器安装在远处，而测量探头接收到的光通过光纤传输到光电转换器)对上述光束的透射光、散射光或反射光进行检测，通过对检测到的光信号进行分析来获得需要测量的过程参数如工业过程气体的浓度。测量结果通常被用于进行过程控制、工艺过程优化以及安全保障等。
一种目前广泛使用的在位式光电分析系统，如图1所示，测量探头2，3分别通过法兰盘与根部阀4，5连接，而根部阀4，5分别通过法兰盘与配接体6，7连接，配接体6，7安装在过程气流管道1上。在系统安装时，先把配接体6，7安装在过程气流管道1上，再安装其它部件。由于不能保证两个配接体之间的同轴，因此还需要安装诸多法兰盘，通过调节法兰盘间的螺钉或O型圈来调节光路，调节过程繁琐，诸多法兰盘也提高了成本，系统也变得复杂。由于部件较多，工程安装麻烦，同时也不便维护。
实用新型内容本实用新型解决的技术问题是克服现有技术存在的缺陷，提供了一种系统简单、安装调节和维护方便且成本较低的在位式光电分析系统。
本实用新型的目的是通过下述技术方案得以实现的一种在位式光电分析系统，包括测量探头、第一和第二配接体，所述的第一和第二配接体安装在过程气流管道的两侧；其特征在于所述分析系统还包括安装在过程气流管道内的连接体，所述连接体的两端与第一和第二配接体相连接，使第一和第二配接体保持同轴。
所述连接体在沿过程气流方向的投影不覆盖过程气流管道内的测量光束。
所述连接体在沿过程气流方向的投影至少部分覆盖过程气流管道内的测量光束。
所述连接件的两侧开有缺口。
所述连接体的中间部分为“C”形或“ㄈ”形或“ㄧ”形。
所述第一和第二配接体、连接体是一体制成的。
所述分析系统还包括调节机构，安装在所述分析系统的一侧。
所述连接体通过法兰或丝扣或锁箍或焊接或卡式与配接体连接。
所述的分析系统是利用吸收光谱技术的在位式气体分析系统。
与现有技术相比，本实用新型通过使用用于保证配接体之间同轴的连接体，节省掉了诸多法兰盘，系统简单，从而降低了成本。另外，由于连接体与配接体是一体的，保证了光路的准直性，从而光路调节容易，进而方便了工程安装，也便于维护。
图1是一种现有的在位式光电分析系统的结构示意图；图2是本实用新型第一实施例所揭示的一种在位式光电分析系统的结构示意图；图3是图2中的在位式光电分析系统的俯视示意图；图4是图3的A-A局部剖视图；图5是本实用新型第二实施例所揭示的一种在位式光电分析系统的结构示意图；图6是本实用新型所揭示的另一种连接体的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和实施例，对本实用新型作进一步详尽描述。
第一实施例
请参阅图2、图3及图4所示，一种应用吸收光谱技术的在位式光电分析系统，包括测量探头2，3、根部阀4，5、配接体6，7、调节机构8(本实施例为法兰盘)和连接体10。其中，第一测量探头2(如光接收和信号分析装置)与第一根部阀4相连接，第一配接体6焊接在过程气流管道1上，该第一配接体6的一端与所述第一根部阀4连接。而第二测量探头3(如光发射装置)通过一法兰盘8与第二根部阀5连接，所述第二根部阀5与焊接在过程气流管道1上的第二配接体7连接。
所述连接体10安装在所述过程气流管道1内，两端分别与所述第一配接体6和第二配接体7连接。所述连接体10的中间部分为“C”形，“C”形部分的两侧开有缺口11、12、13、14；在沿过程气流方向上所述连接体10的投影至少部分覆盖过程气流管道内的测量光束。
所述分析系统的安装过程为将所述连接体10的两端分别插入到所述第一配接体6和所述第二配接体7中，从而使所述第一和第二配接体6、7保持同轴(因为在本领域内绝对的同轴是不存在的，因此所述同轴只是相对的，也就是说只要分析系统的光发射装置发出的光能够被光接收装置接收即可，第一和第二配接体之间存在一个小的角度是允许的)，之后把连接体10、第一配接体6和第二配接体7插入过程气流管道1内，把第一配接体6和第二配接体7安装(如焊接)在所述过程气流管道1上；之后再分别安装上所述第一、第二根部阀4、5、法兰盘8、第一、第二测量探头2、3。通过调节所述法兰盘8之间的螺钉和O型圈(未示出)就能保证第二测量探头3发出的光束被第一测量探头2中的光接收装置接收。整个工程安装和光路调节过程简单方便。所述连接体10与第一和第二配接体6、7也可以采用法兰或丝扣或锁箍连接。
分析系统工作时，第二测量探头3发出光如激光、紫外光，光束穿过分析系统内部的测量通道、被测过程气体后，再次穿过分析系统的测量通道后被第一测量探头2内的光接收装置接收并送分析装置处理得到被测气体的浓度。过程气流管道1内的粉尘含量高，因此需要吹扫装置吹扫分析系统的测量通道，避免粉尘等杂物的沉积造成堵塞等事故的发生，吹扫气体最后从缺口12，14处排入过程气流管道1内。而连接体10的“C”形设计阻挡了粉尘等杂物对测量光束的影响，提高了透光率，同时气体得以正常进入“C”形区域内，保证了测量的准确性。
上述连接体的中间部分采用“C”形，当然还可以采用其他形状，如“ㄈ”形、“ㄧ”形等。
第二实施例请参阅图5所示，一种应用吸收光谱技术的在位式光电分析系统，一连接体15安装在过程气流管道1内，在沿过程气流方向上所述连接体15的投影不覆盖过程气流管道内的测量光束。连接体15两端分别焊接在第一和第二配接体6、7上，从而使第一和第二配接体6、7保持同轴。所述连接体15可以是金属棒。不再安装法兰8。至于其他连接结构以及连接方式与第一实施例中相同，在此不再赘述。
所述分析系统的安装过程为将第一配接体6和第二配接体7通过连接体15连接，使第一和第二配接体6、7保持同轴(同轴的意义和第一实施例相同)；之后插入到过程气流管道1内，把第一和第二配接体6、7安装如焊接在被测气体管道1上；之后再分别安装上所述第一、第二根部阀4、5、第一、第二测量探头2、3。至于光路调节方式与第一实施例相同，在此也不再赘述。
需要指出的是，上述实施方式不应理解为对本实用新型保护范围的限制。比如说，上述的连接体还可以采用其他结构形式，如图6中所示的连接体16，所述连接体16是弧状结构。还有，上述第一和第二配接体、连接体不是一体的，所述三者当然还可以是一体制成的。本实用新型的关键是，通过在第一和第二配接体间安装连接体，使第一和第二配接体间保持同轴，从而使分析系统的光路调节变得简单方便，系统也变得简单。在不脱离本实用新型精神的情况下，对本实用新型作出的任何形式的改变(包括变劣技术)均应落入本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种在位式光电分析系统，包括测量探头、第一和第二配接体，所述的第一和第二配接体安装在过程气流管道的两侧；其特征在于所述分析系统还包括安装在过程气流管道内的连接体，所述连接体的两端与第一和第二配接体相连接，使第一和第二配接体保持同轴。
2.根据权利要求1所述的在位式光电分析系统，其特征在于所述连接体在沿过程气流方向的投影不覆盖过程气流管道内的测量光束。
3.根据权利要求1所述的在位式光电分析系统，其特征在于所述连接体在沿过程气流方向的投影至少部分覆盖过程气流管道内的测量光束。
4.根据权利要求3所述的在位式光电分析系统，其特征在于所述连接体的两侧开有缺口。
5.根据权利要求3所述的在位式光电分析系统，其特征在于所述连接体的中间部分为“C”形或“ㄈ”形或“丨”形。
6.根据权利要求1至5任一所述的在位式光电分析系统，其特征在于所述第一和第二配接体、连接体是一体制成的。
7.根据权利要求1至5任一所述的在位式光电分析系统，其特征在于所述分析系统还包括调节机构，安装在所述分析系统的一侧。
8.根据权利要求1至5任一所述的在位式光电分析系统，其特征在于所述连接体通过法兰或丝扣或锁箍或焊接或卡式与配接体连接。
9.根据权利要求1至5任一所述的在位式光电分析系统，其特征在于所述的分析系统是利用吸收光谱技术的在位式气体分析系统。
专利摘要本实用新型公开了一种在位式光电分析系统，包括测量探头、第一和第二配接体，所述的第一和第二配接体安装在被测气体管道的两侧；所述分析系统还包括安装在被测气体管道内的连接体，所述连接体的两端与第一和第二配接体相连接，使第一和第二配接体保持同轴。通过使用用于保证配接体之间同轴的连接体，节省掉了诸多法兰盘，系统简单，从而降低了成本。另外，由于连接体与配接体是一体的，保证了光路的准直性，从而光路调节容易，进而方便了工程安装和维护。
文档编号G01N21/01GK2929707SQ20062010510
公开日2007年8月1日 申请日期2006年6月25日 优先权日2006年6月25日
发明者熊志才, 钟安平, 王健 申请人:王健