专利名称：Djh成像分析仪的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及涂料领域的成像分析技术，尤其是DJH成像分析仪。
背景技术：
在涂料行业，对于涂膜表面状况的分析是至关重要的。有效的分析手段将帮助涂料技术人员对涂膜表面状况如纹理、缺陷等产生的机理或原因进行正确的分析。但这种纹理或缺陷仅仅通过肉眼分辨是远远不够的，所以我们常常借助于微观成像设备对其进行放大处理，真正的观察到它们的微观形状。DJH膜厚测试仪是通过对钻孔破坏的涂膜成像后分析而测定其厚度的，通过电脑可以进一步分析和显示，其微观成像设备就为我们观察涂膜表面的纹理或缺陷提供了方便。DJH膜厚测试仪采用环型光源，其目的就是利用各个角度辐射来的光线能充分照亮钻孔部位涂层的结构。但是，对于常常遇到的象缩孔和气泡这样的不同机理产生的缺陷， 由于环型光源各角度射入的光线能透过薄薄的气泡漆膜，成像后都是一个凹坑，成像失真而无法将其分辨开来，对缺陷状况的分析陷入了困境。
发明内容本实用新型的目的是要提供一种可分辨不同机理产生的缺陷的DJH成像分析仪。本实用新型是这样实现的DJH成像分析仪，包括电脑，成像仪和光源，其特征在于所述光源为柱状的直线光源。本实用新型采用柱状的直线光源，变换光源的角度和明亮度，通过其不同角度成像后产生的阴影来判定涂膜表面是否有突起，从而将凹坑和气泡等缺陷区分开来。柱状直线光源的亮度可以通过调节电压来调整，以达到电脑中成像所需要的合适的明亮度；制作一个可移动的光源支架，光源支架的角度和高度可调节，以便调整其成像角度。综上所述，本实用新型为观察涂膜表面的纹理或缺陷提供了方便，可分辨不同机理产生的缺陷。
图1是现有技术的环型光源测试仪示意图；图2是本实用新型的柱状直线光源示意图；图中1.电脑2.成像仪3.环形光源4.柱状直线光源5，光源支架6，涂层涂膜具体实施方式
以下结合附图和典型实施例对本实用新型作进一步说明。在图1中，现有技术采用环型光源3，其目的就是利用各个角度辐射来的光线能充分照亮钻孔部位涂层涂膜6的结构。[0014]在图2中，本实用新型包括电脑1，成像仪2和光源，所述光源为柱状的直线光源4。本实用新型采用柱状的直线光源4，变换光源的角度和明亮度，通过其不同角度成像后产生的阴影来判定涂层涂膜6表面是否有突起，从而将凹坑和气泡等缺陷区分开来。 柱状直线光源4的亮度可以通过调节电压来调整，以达到电脑中成像所需要的合适的明亮度；制作一个可移动的光源支架5，光源支架5的角度和高度可调节，以便调整其成像角度。
权利要求1.DJH成像分析仪，包括电脑，成像仪和光源，其特征在于所述光源为柱状的直线光源。
2.如权利要求1所述的DJH成像分析仪，其特征在于所述光源还包括一个光源支架。
专利摘要本实用新型的目的是要提供一种可分辨不同机理产生的缺陷的DJH成像分析仪，包括电脑，成像仪和光源，所述光源为柱状的直线光源。变换光源的角度和明亮度，通过其不同角度成像后产生的阴影来判定涂膜表面是否有突起，从而将凹坑和气泡等缺陷区分开来。柱状直线光源的亮度可以通过调节电压来调整，以达到电脑中成像所需要的合适的明亮度；本实用新型为观察涂膜表面的纹理或缺陷提供了方便，可分辨不同机理产生的缺陷。
文档编号G01N21/88GK202177585SQ201120324500
公开日2012年3月28日 申请日期2011年8月31日 优先权日2011年8月31日
发明者李永贵 申请人:贝科工业涂料(上海)有限公司