缺陷检查方法

文档序号:6233238阅读:209来源:国知局
缺陷检查方法
【专利摘要】一种薄膜的缺陷检查方法,在薄膜的第一主面侧配置具有700000cd/m2以上的亮度的高亮度光源,在薄膜的第二主面侧从偏离了高亮度光源的光轴的位置,通过目视观察被高亮度光源照明的薄膜的图像。
【专利说明】缺陷检查方法

【技术领域】
[0001] 本发明涉及缺陷检查方法。

【背景技术】
[0002] 作为偏振膜等薄膜的缺陷检查方法,已知有利用自动检查的缺陷检查方法以及利 用目视的缺陷检查方法。
[0003] 例如,在日本特开2008-175609号中,作为利用自动检查的缺陷检查方法,揭示有 以下方法:将在规定的方向上线性偏振的激光束照射于薄膜,在使透过了薄膜的激光束透 过偏振片后对其进行受光,检测出缺陷,所述偏振片在与照射时的激光束的偏振方向平行 的方向上具有吸收轴。
[0004] 另一方面,作为利用目视的缺陷检查方法,已知有将非偏振的光照射于薄膜,并直 视观察被照明的薄膜的图像的方法(明视野观察)。


【发明内容】

[0005] 近年,随着智能手机和触屏终端的普及,对于这些设备所使用的薄膜的缺陷的要 求基准变得严格。在缺陷检查工序中,要求能够检测30 μ m以下的尺寸的微小缺陷的技术。 在日本特开2008-175609号中记载有能够对尺寸分别为70 μ m、90 μ m、120 μ m的缺陷进行 检测的情况。但是,关于能够检测30 μ m以下的尺寸的微小缺陷的情况没有记载。
[0006] 另一方面,在利用目视的明视野观察中,由于无法将微小缺陷作为辉点检测出来, 因此难以高精度地检测出30 μ m以下的尺寸的微小缺陷。
[0007] 本发明所涉及的形态是鉴于这种情况而做出的,其目的在于提供一种能够高精度 地对30 μ m以下的尺寸的微小缺陷进行检测的缺陷检查方法。
[0008] 为了达到上述目的,本发明采用了以下的手段。
[0009] (1)本发明的一个形态所涉及的缺陷检查方法是薄膜的缺陷检查方法,在所述薄 膜的第一主面侧配置具有700000cd/m 2以上的亮度的高亮度光源,在所述薄膜的第二主面 侧从偏离了所述高亮度光源的光轴的位置,通过目视观察被所述高亮度光源照明的所述薄 膜的图像。
[0010] ⑵在上述⑴的形态中,所述高亮度光源的亮度也可以是1000000cd/m2以上。
[0011] (3)在上述(1)或(2)的形态中,所述目视观察方向也可以是相对于从所述高亮度 光源射出的光的光轴构成50°以上80°以下的角度的方向。
[0012] (4)在上述(1)至(3)的任意一项的形态中,也可以将从所述高亮度光源射出的光 的光轴配置在相对于所述薄膜的所述第一主面正交的方向,从相对于所述薄膜的所述第二 主面倾斜的方向通过目视观察被所述高亮度光源照明的所述薄膜的图像。
[0013] (5)在上述(1)至(3)的任意一项的形态中,也可以将从所述高亮度光源射出的光 的光轴配置在相对于所述薄膜的所述第一主面倾斜的方向,从相对于所述薄膜的所述第二 主面正交的方向通过目视观察被所述高亮度光源照明的所述薄膜的图像。
[0014] 根据本发明所涉及的形态,能够提供一种能高精度地检测出30 μ m以下的尺寸的 微小缺陷的缺陷检查方法。

【专利附图】

【附图说明】
[0015] 图1是第一实施形态所涉及的缺陷检查方法的说明图。
[0016] 图2是比较例所涉及的缺陷检查方法的说明图。
[0017] 图3是比较例所涉及的缺陷检查方法的说明图。
[0018] 图4是第一实施形态所涉及的缺陷检查方法的说明图。
[0019] 图5是第一实施形态所涉及的缺陷检查方法的说明图。
[0020] 图6是示出在第一实施形态所涉及的缺陷检查方法中,使用了富士仓公司制造的 LED灯作为实施例1所涉及的高亮度光源时的检测缺陷的图。
[0021] 图7是示出在第一实施形态所涉及的缺陷检查方法中,使用了 CSC( >-文' >一) 公司制造的普拉瑞(polarion)灯作为实施例2所涉及的高亮度光源时的检测缺陷的图。
[0022] 图8是第二实施形态所涉及的缺陷检查方法的说明图。

【具体实施方式】
[0023] 以下,一边参照附图一边对本发明的实施形态进行说明,但本发明并不限于以下 的实施形态。
[0024] 另外,在以下全部的附图中,为使看图变得容易,使各个构件要素的尺寸和比例等 变得适当。又,在以下的说明以及附图中,相同或者相当的要素使用同一符号,省略重复的 说明。
[0025] (第一实施形态)
[0026] 图1是本发明的第一实施形态所涉及的缺陷检查方法的说明图。在图1中,符号 SH是薄膜F的下表面(第一主面)。符号Sf2是薄膜F的上表面(第二主面)。
[0027] 如图1所示,本实施形态所涉及的缺陷检查方法是薄膜F的缺陷检查方法,将高亮 度光源1配置于薄膜F的第一主面SH侧,在薄膜F的第二主面Sf2侧从偏离了高亮度光 源1的光轴CL的位置通过目视对被高亮度光源1照明的薄膜F的图像进行观察。
[0028] 薄膜F是片状的薄膜。在本实施形态中成为检查对象的薄膜F例如是用于液晶面 板的偏振膜。
[0029] 另外,薄膜F可以是由一层光学层构成的单层结构,也可以是多个光学层互相层 叠的层状结构。所述光学层除了偏振元件以外,也可以是相位差膜或增亮膜等。又,薄膜F 也可以包含保护偏振元件的保护膜。也可以对保护膜进行得到防眩等效果的表面处理,该 表面处理包括保护液晶显示元件的最外表面的硬涂层处理或防眩光处理。
[0030] 又,薄膜F不限于偏振膜等光学薄膜,可以使用多种薄膜。
[0031] 高亮度光源1具有700000cd/m2以上的亮度。例如,作为具有700000cd/m 2以上的 亮度的高亮度光源,列举有富士仓公司制造的LED灯(产品名称:"LED -10W发光器",型号: "HG DN-102")。
[0032] 作为高亮度光源1,尤其优选为使用具有1000000cd/m2以上的亮度的光源。由此, 与使用具有不足l〇〇〇〇〇〇cd/m 2的亮度的光源作为高亮度光源的情况相比,能够谋求缺陷 的检测精度的提高。例如,作为具有l〇〇〇〇〇〇cd/m2以上的亮度的高亮度光源,列举有CSC 公司制造的普拉瑞灯(产品名称:"普拉瑞?净化灯NP-1 ( *° 7 U才> ·夕U - > 7 4卜 NP-1) ")。在本实施形态中,使用CSC公司制造的普拉瑞灯作为高亮度光源1。
[0033] 表1是示出富士仓公司制造的LED灯以及CSC公司制造的普拉瑞灯各自的亮度测 量结果的表。在表1中,用"A"表示CSC公司制造的普拉瑞灯,用"B"表示富士仓公司制造 的LED灯。在下面的说明中,有时也将CSC公司制造的普拉瑞灯称为"A",将富士仓公司制 造的LED灯称为"B"。
[0034] [表 1]
[0035]

【权利要求】
1. 一种缺陷检查方法,其是薄膜的缺陷检查方法,其特征在于, 在所述薄膜的第一主面侧配置具有700000cd/m2以上的亮度的高亮度光源,在所述薄 膜的第二主面侧从偏离了所述高亮度光源的光轴的位置,通过目视观察被所述高亮度光源 照明的所述薄膜的图像。
2. 如权利要求1所记载的缺陷检查方法,其特征在于, 所述高亮度光源的亮度在l〇〇〇〇〇〇cd/m2以上。
3. 如权利要求1或2所记载的缺陷检查方法,其特征在于, 所述目视的观察方向是相对于从所述高亮度光源射出的光的光轴构成50°以上80° 以下的角度的方向。
4. 如权利要求1或2所记载的缺陷检查方法,其特征在于, 将从所述高亮度光源射出的光的光轴配置在相对于所述薄膜的所述第一主面正交的 方向,从相对于所述薄膜的所述第二主面倾斜的方向通过目视观察被所述高亮度光源照明 的所述薄膜的图像。
5. 如权利要求1或2所记载的缺陷检查方法,其特征在于, 将从所述高亮度光源射出的光的光轴配置在相对于所述薄膜的所述第一主面倾斜的 方向,从相对于所述薄膜的所述第二主面正交的方向通过目视观察被所述高亮度光源照明 的所述薄膜的图像。
6. 如权利要求3所记载的缺陷检查方法,其特征在于, 将从所述高亮度光源射出的光的光轴配置在相对于所述薄膜的所述第一主面正交的 方向,从相对于所述薄膜的所述第二主面倾斜的方向通过目视观察被所述高亮度光源照明 的所述薄膜的图像。
7. 如权利要求3所记载的缺陷检查方法,其特征在于, 将从所述高亮度光源射出的光的光轴配置在相对于所述薄膜的所述第一主面倾斜的 方向,从相对于所述薄膜的所述第二主面正交的方向通过目视观察被所述高亮度光源照明 的所述薄膜的图像。
【文档编号】G01N21/95GK104280405SQ201410318251
【公开日】2015年1月14日 申请日期:2014年7月4日 优先权日:2013年7月8日
【发明者】小林信次, 波冈诚, 森定郁夫, 及川伸 申请人:住友化学株式会社
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