一种玻璃检验台的制作方法

本实用新型涉及一种玻璃检验台。

背景技术：

现有的一种覆膜钢化玻璃，其生产需要钢化、清洗、覆膜、印刷等步骤，在清洗步骤后需要检验其清洁程度才能进入后续的覆膜步骤，如果未将玻璃彻底清洗干净，覆膜时会产生无法去除的气泡，造成瑕疵。并且返工时候需要去除残留在玻璃表面的覆膜胶，较为麻烦。

因此，目前需要这一种方便检验清洗后玻璃洁净程度的玻璃检验台。

技术实现要素：

本实用新型的目的是提供一种方便检验清洗后玻璃洁净程度的玻璃检验台。

为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种玻璃检验台，其包括支架、竖直设置在所述支架上的背板、设置在所述背板上的多个光源灯、倾斜设置在所述背板前的用于放置玻璃的支撑架，所述背板与所述支撑架之间还设置有透光帘，所述透光帘包括转动设置在所述支架上的辊轴、卷绕在所述辊轴上的透光布、固定设置在所述透光布下边沿的配重杆和驱动所述辊轴转动的驱动装置。

优选地，所述光源灯为水平设置的长条状，所述光源灯设置有多个，均匀排布在所述背板上。

优选地，所述支撑架的表面包裹设置有柔性布料。

优选地，所述支撑架与水平面的倾斜角度为60°-80°。

优选地，所述支架包括连接所述支撑架的上部与所述背板的上部的上板、连接所述支撑架的下部与所述背板的下部的下板、支撑所述下板的支腿。

由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：

由于本实用新型通过设置透光帘，使得光线穿过透光帘后变得更为均匀，并且通过透光帘作为背景后，粘在玻璃上的杂质更加容易被发现。

附图说明

附图1为实施例的主视示意图；

附图2为实施例的侧视示意图。

以上附图中：1、支腿；2、背板；3、上板；4、下板；5、光源灯；6、辊轴；7、透光布；8、配重杆；9、支撑架；10、支撑块；11、玻璃。

具体实施方式

下面结合附图所示的实施例对本实用新型作进一步描述：

参见附图1-2所示，一种玻璃检验台，其包括支架、竖直设置在支架上的背板2、设置在背板2上的多个光源灯5、倾斜设置在背板2前的用于放置玻璃的支撑架9，背板2与支撑架9之间还设置有透光帘，透光帘包括转动设置在支架上的辊轴6、卷绕在辊轴6上的透光布7、固定设置在透光布7下边沿的配重杆8和驱动辊轴6转动的驱动装置，本实施例中驱动装置为驱动链条组件（图中未表示），其他实施例中，还可以采用机械驱动等方式。

光源灯5为水平设置的长条状，光源灯5设置有多个，均匀排布在背板2上。

支撑架9的表面包裹设置有柔性布料。以保证不会对被检测玻璃带来损伤或者使其受到新的污染。

支撑架9与水平面的倾斜角度为60°-80°，下部设置有支撑块10。

支架包括连接支撑架9的上部与背板2的上部的上板3、连接支撑架9的下部与背板2的下部的下板4、支撑下板4的支腿1。

通过驱动装置，透光帘可以被放下或者收起，在收起状态下，光源灯5直接照射玻璃表面，适合玻璃表面划痕的检测，当透光帘可以被放下时，透光帘使得光线穿过透光帘后变得更为均匀，并且通过透光帘作为背景后，粘在玻璃上的杂质更加容易被发现。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：

1.一种玻璃检验台，其包括支架、竖直设置在所述支架上的背板、设置在所述背板上的多个光源灯、倾斜设置在所述背板前的用于放置玻璃的支撑架，其特征在于：所述背板与所述支撑架之间还设置有透光帘，所述透光帘包括转动设置在所述支架上的辊轴、卷绕在所述辊轴上的透光布、固定设置在所述透光布下边沿的配重杆和驱动所述辊轴转动的驱动装置。

2.根据权利要求1所述的一种玻璃检验台，其特征在于：所述光源灯为水平设置的长条状，所述光源灯设置有多个，均匀排布在所述背板上。

3.根据权利要求1所述的一种玻璃检验台，其特征在于：所述支撑架的表面包裹设置有柔性布料。

4.根据权利要求1所述的一种玻璃检验台，其特征在于：所述支撑架与水平面的倾斜角度为60°-80°。

5.根据权利要求1所述的一种玻璃检验台，其特征在于：所述支架包括连接所述支撑架的上部与所述背板的上部的上板、连接所述支撑架的下部与所述背板的下部的下板、支撑所述下板的支腿。

技术总结
本实用新型公开一种玻璃检验台，其包括支架、竖直设置在所述支架上的背板、设置在所述背板上的多个光源灯、倾斜设置在所述背板前的用于放置玻璃的支撑架，所述背板与所述支撑架之间还设置有透光帘，所述透光帘包括转动设置在所述支架上的辊轴、卷绕在所述辊轴上的透光布、固定设置在所述透光布下边沿的配重杆和驱动所述辊轴转动的驱动装置，由于本实用新型通过设置透光帘，使得光线穿过透光帘后变得更为均匀，并且通过透光帘作为背景后，粘在玻璃上的杂质更加容易被发现。

技术研发人员：蒙世创;严寿友
受保护的技术使用者：江苏锡佛光电科技有限公司;锡佛光电(苏州)有限公司
技术研发日：2019.12.31
技术公布日：2020.09.11