石墨炉原子吸收光谱仪取样防护装置的制作方法

1.本技术涉及化学分析仪器的技术领域，尤其是涉及石墨炉原子吸收光谱仪取样防护装置。


背景技术：

2.石墨炉原子吸收光谱仪是一种用于微量元素分析的化学检测仪器，主要是利用aas将待测物原子化为气态原子，测定气态原子对光波吸收程度，进而检测出所含特定元素的含量。
3.相关技术中，石墨炉原子吸收光谱仪包括检测部分和取样部分，取样部分用于进行待测试剂的取样，取样部分一般包括取样探针和试剂壳，试剂盘内转动连接有盛放试剂管的试剂盘，取样探针再试剂盘内取样后向检测部分移动进行检测，此时试剂盘会进行转动，将待检测的试剂管移动到需要检测的位置。
4.针对上述中的相关技术，发明人认为取样探针从试剂管内移出的过程中，取样探针会将试剂从试剂管内带出，所带出的试剂会滴落到相邻试剂管内，进而造成检测精度降低的缺陷。


技术实现要素：

5.为了改善取样探针从试剂管内移出的过程中，取样探针会将试剂从试剂管内带出，所带出的试剂会滴落到相邻试剂管内，进而造成检测精度降低的缺陷，本技术提供石墨炉原子吸收光谱仪取样防护装置。
6.本技术提供的石墨炉原子吸收光谱仪取样防护装置采用如下技术方案：
7.石墨炉原子吸收光谱仪取样防护装置，包括光谱仪本体和取样机构，取样机构包括取样探针、盛放壳、取样盘，盛放壳固设在光谱仪本体一侧，取样盘转动连接在盛放壳内且通过电机驱动旋转，取样盘供多个试样管放置，取样探针转动连接在光谱仪本体上且能够伸入到试样管内进行取样，盛放壳扣合有顶盖板，顶盖板开设有一排正对试样管的取样孔，取样孔内壁抵接有拦截筒，拦截筒顶部固设有与顶盖板上表面抵接的限位环板，拦截筒向下延伸到试样管顶部。
8.通过采用上述技术方案，取样探针由取样孔伸入到对应的试样管内进行取样，取样完成后取样探针从试样管内伸出，在取样探针伸出的过程中，拦截筒对取样探针所甩出的试样液体进行拦截，有效的减少了甩出的试样液体进入到相邻试样管内的概率，提高了检测的精确度；顶盖板有效的对取样盘内的试样液体进行遮盖保护，与取样孔的位置设置一同提高了对取样盘内试样液体的保护效果，一同提高了检测的精确度。
9.可选的，拦截筒内壁开设有多个吸水槽，吸水槽用于使水存积在内。
10.通过采用上述技术方案，落到拦截筒内壁上的试样液体沿着拦截筒内壁下落，液体进入到吸水槽内后由于水的吸附力，部分试样液体停留在吸水槽内，有效的提高了拦截筒对试样液体的拦截效果。
11.可选的，吸水槽为水平设置。
12.通过采用上述技术方案，吸水槽的水平设置有效的减少了吸水槽内的液体自然下落的概率，提高了吸水槽对液体拦截的效果。
13.可选的，拦截筒内壁铺设有具有吸水能力的吸水层。
14.通过采用上述技术方案，吸水层有效的对落到拦截筒内壁上的液体进行吸收，进一步提高了拦截筒对试样液体拦截的效果。
15.可选的，拦截筒外壁开设有切割槽。
16.通过采用上述技术方案，为了使拦截筒与试管顶端的高度进行适配，能够沿着合适的切割槽对拦截筒进行切割，提高了拦截筒切割的效率。
17.可选的，切割槽与吸水槽的位置相对。
18.通过采用上述技术方案，由于切割槽与吸水槽位置相对，有效的减少了拦截筒所需切割的厚度，提高了拦截筒切割的效率。
19.可选的，限位环板上表面为圆弧凸起设置。
20.通过采用上述技术方案，限位环板上表面的圆弧凸起设置提高了落到限位环板上的试样液体向下流动的效率，减少了限位环板上存留的试样液体滴落到其他试样管内的概率，提高了检测的精确度。
21.可选的，限位环板下表面涂抹有粘接层，粘接层将限位环板粘接在顶盖板上表面。
22.通过采用上述技术方案，粘接层的设置有效的提高了限位环板的安装稳定性，进而提高了拦截筒安装的稳定性，同时提高了对由顶盖板向取样孔流动的液体拦截的效果。
23.综上所述，本技术包括以下至少一种有益技术效果：
24.1.取样探针从试样管内拔出的过程中，所带飞的液体被拦截筒拦截，所拦截的液体部分被吸水层进行吸收，部分液体在吸水层所对应的吸水槽凹陷处进行粘接停留，有效的提高了拦截筒对取样探针所带飞的液体拦截的效果，进而提高了检测的精确度；
25.2.切割槽的设置有效的方便了对拦截筒进行切割的效率，使拦截筒更好的与试样管进行高度适配。
附图说明
26.图1是本技术实施例的结构示意图；
27.图2是为显示取样机构的局部剖视图；
28.图3是图2中a部分为显示拦截装置的放大图。
29.图中，1、光谱仪本体；2、取样机构；21、取样探针；22、盛放壳；221、顶盖板；2211、取样孔；2212、限位槽；222、限位块；23、取样盘；231、样管孔；3、拦截装置；31、拦截筒；311、吸水槽；312、吸水层；313、切割槽；32、限位环板；321、粘接层。
具体实施方式
30.以下结合附图1-3对本技术作进一步详细说明。
31.本技术实施例公开石墨炉原子吸收光谱仪取样防护装置。
32.参考图1，石墨炉原子吸收光谱仪取样防护装置包括光谱仪本体1和取样机构2，取样机构2用于承接样品并进行取样，光谱仪本体1用于将取样机构2去除的试样进行检测。取
样机构2还设置有减少去除的试样液体滴落到其他试样管内的拦截装置3。
33.检测时，通过取样机构2进行样品的取样并将去除的试样液体向光谱仪本体1进行运送，在取样机构2进行取样和运送试样液体的过程中，通过拦截装置3对带飞的试样液体进行拦截，有效的减少了试样液体进入到其他试样管内的概率，在通过光谱仪本体1对所取出的试样液体进行检测，提高了检测的精确度。
34.参考图2，取样机构2包括取样探针21、盛放壳22、取样盘23，取样探针21转动连接在光谱仪本体1上，盛放壳22为顶部开口设置且为圆柱状，盛放壳22设置在光谱仪本体1靠近取样探针21的一侧，取样盘23转动连接在盛放壳22内，取样盘23通过盛放壳22底部的电机进行驱动，取样盘23的转动轴线经过自身的中心点且竖直设置，取样盘23上表面开设有多组规格不同的样管孔231，每组内的样管孔231均以取样盘23的转动轴线为中心进行圆周均匀分布，取样孔2211供对应的试样管放入在内。
35.参考图2，盛放壳22顶部扣合有将盛放壳22顶部封闭的顶盖板221，盛放壳22上表面固设有多个限位块222，顶盖板221开设有多个供限位块222抵接在内的限位槽2212，盛放板上表面开设有多个取样孔2211，多个取样孔2211朝向取样盘23的圆心并排分布，取样孔2211与下方各组的样管孔231一一对应。拦截装置3设置在取样孔2211内。
36.进行检测时，取样探针21由取样孔2211伸入到对应的试样管内进行取样，再从试样管内拔出，向光谱仪本体1移动，在光谱仪本体1内进行检测，此时取样盘23转动，进而使下一个待检测的试样管位于取样孔2211下方，如此反复进行检测。取样盘23的转动设置有效的提高了对多种试样液体进行检测的效率，顶盖板221对盛放壳22进行遮盖，进而对试样管内的液体进行保护，减少了试样液体的挥发，提高了试样液体检测的精确度。取样孔2211的位置设置和取样盘23相互配合，能够实现在顶盖板221不动的情况下对不同的试样管内的液体进行取样检测，减少了取样探针21位置调节的频率；同时，限位块222和限位槽2212相互配合，有效的提高了顶盖板221位置固定的稳定性，一同提高了检测效率。
37.参考图3，拦截组件包括拦截筒31和限位环板32，限位环板32固设在拦截筒31顶端，限位环板32下表面与顶盖板221上表面抵接，拦截筒31由取样孔2211伸入到盛放壳22内并与取样孔2211内壁抵接，拦截筒31底端高度接近对应试样管的顶端高度。拦截筒31内壁均与开设有多个吸水槽311，吸水槽311水平设置且间距相同，吸水槽311使拦截筒31内壁呈波浪状设置，相邻内壁的吸水槽311相互连通。拦截筒31内壁固定粘接有吸水层312，吸水层312为具有吸水能力的薄层，本实施例为吸水海绵薄层；吸水层312与拦截筒31周向外壁紧密粘贴。拦截筒31外侧壁正对吸水槽311的位置开设有多个切割槽313。限位环板32顶端为圆弧凸起设置，限位环板32下表面铺设有粘接层321，粘接层321将限位环板32与顶盖板221进行粘接固定。
38.将拦截筒31插入到取样孔2211内，限位环板32与顶盖板221的上表面抵接，进而将拦截筒31的位置进行定位，限位环板32通过粘接层321与顶盖板221进行粘接固定，有效的提高了限位环板32的与顶盖板221固定的牢固性，同时还有效的减少了顶盖板221上的水通过取样孔2211渗透的概率。在取样探针21从试样管内取出的过程中，会通过惯性带飞部分的试样液体，被带飞的试样液体被拦截筒31所拦接，被拦截的试样液体部分被吸水层312进行吸收，剩余未被吸收的液体自然流动到吸水层312因吸水槽311形成的凹槽内并在凹槽内停留，提高了对被带飞的试样液体拦截的效果。有效的减少了被带飞和被拦截的试样液体
落入到未检测的试样液体内的概率，提高了试样液体检测的精确度。
39.在需要对拦截筒31进行切割，以保证拦截筒31的长度与下方的试样管进行适配时，沿着对应的切割槽313对拦截筒31进行切割，由于切割槽313与吸水槽311的位置相对，沿着切割槽313能够更快的对拦截筒31进行切割，有效的提高了拦截筒31的切割效率。
40.本技术实施例石墨炉原子吸收光谱仪取样防护装置的实施原理为：将拦截筒31放入到对应的取样孔2211内，在取样探针21从试样管内拔出的过程中，所带出的部分试样液体被拦截筒31拦截，被拦截的液体被吸水层312进行吸收，未能进行有效吸收的液体在吸水槽311对应的位置进行存积，有效的减少了被带飞的试样液体进入到未检测的试样管内的概率，提高了石墨炉原子吸收光谱仪检测的精确度。
41.本具体实施方式的实施例均为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。