一种用于测定分析物的干化学试纸及干化学试纸加工装置的制作方法

文档序号:30875390发布日期:2022-07-23 11:41阅读:182来源:国知局
一种用于测定分析物的干化学试纸及干化学试纸加工装置的制作方法

1.本实用新型属于临床检测技术领域,尤其是涉及一种用于测定分析物的干化学试纸及干化学试纸加工装置。


背景技术:

2.目前,用于检测体液中是否存在某种成分或该成分含量的方法包括液体试剂检测和干化学试纸检测。干化学试纸具有使用方便、操作简单、快速出结果的优点。
3.根据待检液体样本在干化学试纸上的流动路程,可以将干化学试纸分为横向检测试纸和纵向垂直检测试纸。纵向垂直检测试纸包括将带有反应试剂的载体相互叠加在一起,液体样本自上而下流经各个反应层,最终显示检测结果。例如美国专利us07/862733和中国专利cn200720073442.4采用纵向垂直检测试纸的方法。
4.现有的纵向垂直检测试纸一般具有上支持层、扩散层、反应层和下支持层,上支持层和下支持层均有缺口,以形成上支持层加样口和下支持层检测孔,上支持层的加样口需要和下支持层检测孔准确对齐,加样口和检测孔需要漏出部分扩散层和反应层,以保证用户加样的有效性和试纸对应仪器检测分析物的准确性,反应层为与分析物反应的试剂,可以浸渍有色原等试剂来显色,或反应层也可以通过与分析物反应后生成的物质显色,通过使用配套的检测仪器即可在下支持层检测孔测定出对应于分析物浓度的光信号,经相关算法计算后可以转换为分析物的浓度值。
5.目前现有的试纸结构中,干化学试纸的上支持层是与下支持层一致的带有圆形缺口的基片。现有的干化学试纸结构在横向上需要对齐上支持层与下支持层的边缘,在纵向上需要对齐上支持层加样孔和下支持层检测孔,因为上支持层加样孔在纵向上的偏移,会使得干化学试纸使用对应仪器检测时,对光路产生一定程度的影响,导致仪器测试值产生偏差,这种偏差很难消除或者始终保持一致,最终会导致试纸的测试值与真实值具有误差,使得用户不能正确得到反映分析物的测试值,给用户的诊断带来一定的不利影响;由于现有试纸的上支持层加样口为一圆形缺口,使得用户在使用试纸加样时,需要非常仔细地将分析物滴加至圆形缺口内,非常不利于某些手脚不便的老人和视力较弱的用户的使用。
6.传统的试纸在生产时,需要严格对准上支持层的加样口与下支持层的检测孔,特别是仪器开始或者中断后调试时,需要生产者多次调试才能严格将上支持层加样口对准下支持层检测孔,不仅浪费生产材料,还影响生产效率;由于开始或中断时是生产者去调试上支持层加样口与下支持层检测孔的对准,会有一定的误差,即使刚开始满足产品要求,但随着生产的持续,误差会越来越大,又需要生产者再次调试,并且非常影响试纸的重复性和批间差。


技术实现要素:

7.为了克服现有技术的不足,本实用新型提供一种用于测定分析物的干化学试纸及干化学试纸加工装置,使得试纸的加样有效性提高,试纸检测分析物的准确性提高。
8.本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种用于测定分析物的干化学试纸,包括,
9.下支持层,带有检测孔;
10.反应层,贴合于下支持层一侧,覆盖所述检测孔;
11.扩散层,贴合于反应层一侧,且对应检测孔所在区域;
12.上支持层,贴合于扩散层一侧;
13.所述上支持层包括左侧层体和右侧层体,所述左侧层体覆盖扩散层的边缘,以将其粘贴在下支持层,所述右侧层体覆盖扩散层的另一侧边缘,以将其粘贴在下支持层,左侧层体和右侧层体之间的间断区域形成加样通道,该加样通道的长度和宽度均大于或等于检测孔,以使得检测孔的投影完全落入加样通道。
14.本实用新型的干化学试纸中上支持层为不连续的间断设计,也就是上支持层一分为二包括左侧层体和右侧层体,左侧层体和右侧层体之间形成间断区域,使得该间断区域不会覆盖检测孔,解决了检测孔上方透光受阻的问题,提高了干化学试纸的测试准确性和重复性,还利于某些手脚不便的老人和视力较弱的用户的使用。
15.进一步的,所述扩散层的长度大于反应层的长度,且至少一端超出反应层,另一端与反应层齐平或超出反应层。
16.进一步的,所述下支持层的宽度为5-10mm,所述检测孔为圆形,其直径为4-10mm。
17.进一步的,所述反应层与扩散层相贴合的一侧为附着有试剂的作用层体,所述反应层与下支持层相贴合的一侧为光滑层体。
18.本实用新型还公开了一种干化学试纸加工装置,包括:
19.送料轨道;
20.下支持层料盘,用于卷绕带有检测孔的下支持层,下支持层自下支持层料盘引出后通过下支持层压辊在送料轨道上移动传输;
21.反应层料盘,设于下支持层料盘的下游,用于卷绕反应层,反应层自反应层料盘引出后通过反应层压辊在送料轨道上传输,并粘合在下支持层上;
22.扩散层料盘,设于反应层料盘的下游,用于卷绕扩散层,扩散层自扩散层料盘引出后通过扩散层压辊在送料轨道上传输,并覆盖在反应层上侧;
23.上支持层料盘,设于扩散层料盘的下游,其设有用于卷绕左侧层体的第一通道和用于卷绕右侧层体的第二通道,该第一通道和第二通道的间距与加样通道的长度大致相等,左侧层体和右侧层体自上支持层料盘引出后通过上支持层压辊在送料轨道上传输,并覆盖在扩散层上侧;
24.所述下支持层料盘、反应层料盘、扩散层料盘和上支持层料盘设于送料轨道的上方。
25.本实用新型的干化学试纸加工装置实现了干化学试纸的自动化加工,结构简单,加工后成品率高,无需人工对齐,加工效率高。
26.进一步的,所述反应层料盘、扩散层料盘和上支持层料盘的中心位置与所述下支持层的检测孔中心趋于同一竖直平面内。
27.进一步的,所述送料轨道形成用于卡设下支持层的凹槽,所述下支持层压辊外壁形成可卡入凹槽的第一凸部。
28.进一步的,所述下支持层压辊和第一定位环配合压制下支持层,所述第一定位环的外壁形成供第一凸部卡入的第一定位槽。
29.进一步的,所述反应层压辊和第二定位环配合压制反应层,所述反应层压辊外壁形成第二凸部,该第二凸部的宽度与反应层的长度大致相等,所述第二定位环的外壁形成供第二凸部卡入的第二定位槽。
30.进一步的,所述扩散层压辊和第三定位环配合压制扩散层,所述扩散层压辊外壁形成第三凸部,该第三凸部的宽度与扩散层的长度大致相等,所述第三定位环的外壁形成供第三凸部卡入的第三定位槽。
31.进一步的,所述上支持层压辊和第四定位环配合压制上支持层,所述上支持层压辊外壁形成第四凸部和第五凸部,该第四凸部的宽度与左侧层体的长度大致相等,该第五凸部的宽度与右侧层体的长度大致相等,所述第四定位环的外壁形成供第四凸部卡入的第四定位槽,及形成供第五凸部卡入的第五定位槽。
32.进一步的,所述下支持层的宽度为单个试纸条宽度或多个试纸条宽度的和。
33.进一步的,所述下支持层外覆有保护膜,在下支持层料盘和下支持层压辊之间设有第一辅助轮,其与第一废料盘配合用于剥离保护膜。
34.进一步的,所述左侧层体和右侧层体外覆有保护膜,在上支持层料盘和上支持层压辊之间设有第二辅助轮,该第二辅助轮上带有两个剥离通道,其与第二废料盘配合用于剥离保护膜。
35.本方案采用上支持层为不连续的间断设计,将上支持层一分为二,使得试纸在生产过程中只需要将上支持层沿着定位环进入压辊,即可生产出可完整漏出检测孔的试纸条,且开始和中断都不需要额外的调试,减少重复对准上支持层加样口和下支持层检测孔的操作,解决检测孔上方透光受阻的问题,同时提高了干化学试纸的测试准确性和重复性,还利于某些手脚不便的老人和视力较弱的用户的使用。
36.本技术方案通过将上支持层加样口的缺口改为上支持层不连续隔断设计形成的断口区,由于上支持层加样口的宽度和长度略大于下支持层的检测孔直径,使得在试纸生产过程中,只用横向上对齐上支持层与下支持层的边,不需再重复纵向上对齐上支持层加样口和下支持层检测孔。本技术方案节省了上支持层加样口和下支持层检测孔的对齐操作,避免了出现遮挡检测孔光路的情况,减少仪器和人为的上支持层加样口和下支持层检测孔的对齐操作,提高生产效率和试纸测试的重复性和准确性,同时,上支持层加样口的加样方式更多样和加样区域更大,不仅可以垂直滴加分析物,也可以侧向滴加分析物,方便各类人群的使用,提高试纸使用的正确率。
附图说明
37.图1为本实用新型的干化学试纸(单个试纸条)的分解结构示意图。
38.图2为本实用新型的下支持层(多个试纸条)的俯视图。
39.图3为本实用新型的下支持层、反应层和扩散层(多个试纸条)叠加后的俯视图。
40.图4为本实用新型的干化学试纸(多个试纸条)的俯视结构示意图。
41.图5为本实用新型的多个干化学试纸的俯视结构示意图。
42.图6为本实用新型的干化学试纸加工装置的主视图。
43.图7为本实用新型的上支持层料盘的侧视图。
44.图8为本实用新型的下支持层压辊和第一定位环的配合结构示意图。
45.图9为本实用新型的反应层压辊和第二定位环的配合结构示意图。
46.图10为本实用新型的扩散层压辊和第三定位环的配合结构示意图。
47.图11为本实用新型的上支持层压辊和第四定位环的配合结构示意图。
48.图12为本实用新型的干化学试纸送料轨道结构示意图。
49.其中,11-下支持层,111-检测孔,12-反应层,121-作用层体,122-光滑层体,13-扩散层,14-上支持层,141-左侧层体,142-右侧层体,15-加样通道,2-送料轨道,21-凹槽,22-轨道调节轴,3-下支持层料盘,31-下支持层压辊,311-第一凸部,32-第一辅助轮,33-第一废料盘,4-反应层料盘,41-反应层压辊,411-第二凸部,42-反应层辅助轮,5-扩散层料盘,51-扩散层压辊,511-第三凸部,52-扩散层辅助轮,6-上支持层料盘,61-第一通道,62-第二通道,63-上支持层压辊,631-第四凸部,632-第五凸部,64-第二辅助轮,65-第二废料盘,71-第一定位环,711-第一定位槽,72-第二定位环,721-第二定位槽,73-第三定位环,731-第三定位槽,74-第四定位环,741-第四定位槽,742-第五定位槽,8-切割器。
具体实施方式
50.为了使本技术领域的人员更好的理解本实用新型方案,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本实用新型保护的范围。
51.如图1所示,一种用于测定分析物的干化学试纸,其自下而上依次包括下支持层11、反应层12、扩散层13和上支持层14。
52.下支持层11带有检测孔111,检测仪器通过检测孔111发射检测光线完成浓度检测的工作;反应层12贴合在下支持层11的一侧,并覆盖检测孔111;扩散层13贴合在反应层12的一侧,且对应检测孔111所在的区域,扩散层13具有较好的亲水性;上支持层14贴合在扩散层13的一侧,其包括左侧层体141和右侧层体142,即上支持层14为不连续的隔断设计,也就是上支持层14一分为二,贴敷在下支持层11上,不连续的左侧层体141和右侧层体142之间形成了间断区域,间断区域形成了本技术方案的加样通道15。
53.左侧层体141覆盖扩散层13的边缘,从而将扩散层13粘贴在下支持层11,右侧层体142覆盖扩散层13的另一侧边缘,从而将扩散层13粘贴在下支持层11,左侧层体141和右侧层体142之间的间断区域形成加样通道15,该加样通道15的长度和宽度均大于或者等于检测孔111,从而使得检测孔111的投影完全落在加样通道15,即左侧层体141和右侧层体142均不会遮挡检测孔111。
54.扩散层13的长度大于反应层12的长度,且至少一端超出反应层12,另一端与反应层12齐平或超出反应层12,从而可以保证扩散层13在长度方向能完全覆盖反应层12,保证样品通过扩散层13扩散至反应层12,且反应层12和扩散层13都被粘附在下支持层11。
55.下支持层11的宽度为5-10mm。检测孔111为圆形,其直径为4-10mm。更具体的,反应层12的长度和宽度均可以是5-10mm,扩散层13的宽度可以与反应层12的宽度相当,扩散层
13长度可以为5-12mm。
56.在本实施例中,下支持层11的长度为5cm,即图2中l为5cm,宽度为6.5mm,反应层12的长度和宽度均为6.5mm,扩散层13的长度为15mm,宽度为6.5mm,检测孔111的直径为5mm,加样通道15的宽度为6.5mm,长度为5.5mm,即左侧层体141和右侧层体142之间的间距为5.5mm。
57.反应层12与扩散层13相贴合的一侧为附着有试剂的作用层体121,该作用层体121为毛面,反应层12与下支持层11相贴合的一侧为光滑层体122,即为光面。
58.血液滴加到干化学试纸的加样通道15时,首先通过覆盖在反应层12上的扩散层13进行均匀的扩散,使得加入的血样可以均匀地向下渗透至反应层12,与反应层12上的物质进行均匀的反应。血液中含有血细胞,通过反应层12的作用层体121上的表面活性剂成分进行裂解,释放出需要检测的血红蛋白,血红蛋白在反应层12上被氧化为高铁血红蛋白,高铁血红蛋白呈现褐色,颜色的深浅与反应的浓度相关,在反应层12的作用层体121可以得到均匀的显色。
59.配套的检测仪器发射与分析物监测相关的光照强度的光线,在反应层12的光滑层体122经过反射被检测仪器接收并转化为电信号,再经过检测仪器相关算法的计算,最终转换为浓度值显示在检测仪器。
60.血液中血红蛋白含量越高,转化的高铁血红蛋白就越多,在光滑层体122形成的颜色越深,仪器发射的光线被吸收的量越大,使得反射回检测仪器的光线强度越弱,转换后的电信号越小。在测试过程中,如果下支持层11的检测孔111受到上支持层14加样口的阻挡,会使得检测孔观察到的反应层显色出现变化,并且对检测仪器的光学检测也产生影响,使得最终光电转换得到的分析物浓度值产生偏差。本实用新型将加样口设计为加样通道15结构,有效避免遮挡检测孔111,而且方便制作加工。
61.如图6所示,一种干化学试纸加工装置,用于制作上述的干化学试纸,其包括送料轨道2、下支持层料盘3、反应层料盘4、扩散层料盘5和上支持层料盘6,上述的下支持层料盘3、反应层料盘4、扩散层料盘5和上支持层料盘6均设置在送料轨道2的上方。而且,反应层料盘4、扩散层料盘5和上支持层料盘6的中心位置与下支持层11的检测孔111的中心趋于同一个竖直平面内,此处反应层料盘4、扩散层料盘5和上支持层料盘6的中心位置指的是轴线方向的中心点。
62.下支持层料盘3,用于卷绕带有检测孔111的下支持层11,下支持层11从下支持层料盘3引出后通过下支持层压辊31在送料轨道2上移动传输;为了使得下支持层11不会发生移位,限制下支持层11的移动方向,如图12所示,在送料轨道2形成用于卡设下支持层11的凹槽21;在下支持层压辊31的外壁形成可以卡入凹槽21的第一凸部311,该第一凸部311的轴向长度与凹槽21的长度大致相等;
63.还可以增加第一定位环71,其与下支持层压辊31配合压制下支持层11,第一定位环71的外壁形成供第一凸部311卡入的第一定位槽711,如图8所示。第一定位环71可以直接放置在送料轨道2上。
64.下支持层11的上表面带有粘性,在卷绕状态下需要在下支持层11外覆有保护膜,当下支持层11的下表面充分光滑时,其下表面可以充当保护膜,在卷绕时保护其粘性,此时不需要废料盘去收集保护膜,为了撕除上述保护膜,在下支持层料盘3和下支持层压辊31之
间设置第一辅助轮32和第一废料盘33,第一废料盘33用于卷绕保护膜,第一辅助轮32和第一废料盘33配合剥离保护膜,剥离保护膜后的下支持层11通过第一定位环71和下支持层压辊31配合在送料轨道2上传输,第一定位环71可以设置在下支持层压辊31的上游位置或上方位置。
65.具体可以是将下支持层11一端的保护膜撕开,绕过第一辅助轮32放入第一废料盘33,第一废料盘33上有固定保护膜的限制器,限制器可以为设置在第一废料盘33上的一个具体结构,例如为凸出的一个弯钩,可以将保护膜卡挂在弯钩上,限制器也可以为胶黏附于第一废料盘33上,可以将保护膜稳固黏贴在第一废料盘33上,因此第一废料盘33旋转时可以顺利收纳保护膜,让其卷成一卷,便于取下;并将撕掉保护膜的下支持层11沿着第一辅助轮32放入进样口,第一辅助轮32的作用可以导向下支持层11的路线,减少下支持层11之间相互缠绕的概率;将下支持层11穿过进样口的第一定位环71并进入下支持层压辊31,进样口的第一定位环71会将下支持层11紧密定位在送料轨道2的凹槽21内,凹槽21的宽度是可以通过顺时针或逆时针旋转轨道调节轴22进行调节,轨道调节轴22可以通过其内部的螺杆驱动以调整距离,使得试纸轨道适用于不同尺寸的下支持层11。
66.为了适应不同宽度的各种膜层,上述的下支持层料盘3、反应层料盘4、扩散层料盘5和上支持层料盘6可以设计为可调结构,具体包括内料盘、外料盘和料盘调节器,人为顺时针或逆时针旋转料盘调节器进而调整内料盘和外料盘之间的距离,可以调整为适合于各种膜层辊料宽度的间距,能够更好地稳定各膜层辊料。
67.反应层料盘4,设置在下支持层料盘3的下游,用于卷绕反应层12,反应层12从反应层料盘4引出后通过反应层压辊41在送料轨道2上传输,并粘合在下支持层11上;
68.还可以增加第二定位环72,其与反应层压辊41配合压制反应层12,该第二定位环72可以是设置在反应层压辊41的上方位置或上游位置;反应层压辊41的外壁形成第二凸部411,该第二凸部411的宽度与反应层12的长度大致相等,第二定位环72的外壁形成供第二凸部411卡入的第二定位槽721,第二凸部411和第二定位槽721配合保证反应层12的制作位置,确保反应层12粘附在下支持层11的固定位置,具体是检测孔111所在的位置。
69.扩散层料盘5,设置在反应层料盘4的下游,用于卷绕扩散层13,扩散层13从扩散层料盘5引出后通过扩散层压辊51在送料轨道2上传输,并覆盖在反应层12上侧;
70.还可以增加第三定位环73,其与扩散层压辊51配合压制扩散层13,该第三定位环73可以是设置在扩散层压辊51的上方位置或上游位置;扩散层压辊51的外壁形成第三凸部511,该第三凸部511的宽度与扩散层13的长度大致相等,第三定位环73的外壁形成供第三凸部511卡入的第三定位槽731,第三凸部511和第三定位槽731配合保证扩散层13的制作位置,确保扩散层13粘附在固定位置。
71.上支持层料盘6,设置在扩散层料盘5的下游,其设有用于卷绕左侧层体141的第一通道61和用于卷绕右侧层体142的第二通道62,该第一通道61和第二通道62的间距与加样通道15的长度大致相等,即图7中的s2与图5中的s1大致相等。左侧层体141和右侧层体142从上支持层料盘6的第一通道61和第二通道62分别引出后通过上支持层压辊63在送料轨道2上传输,并分别覆盖在扩散层13的两边缘上侧;
72.还可以增加第四定位环74,其与上支持层压辊63配合压制上支持层14,该第四定位环74可以是设置在送料轨道2,且位于上支持层压辊63的上方位置或上游位置;上支持层
压辊63的外壁形成第四凸部631和第五凸部632,该第四凸部631的宽度与左侧层体141的长度大致相等,该第五凸部632的宽度与右侧层体142的长度大致相等,第四定位环74的外壁形成供第四凸部631卡入的第四定位槽741,及形成供第五凸部632卡入的第五定位槽742,第四凸部631和第四定位槽741配合保证左侧层体141的制作位置,第五凸部632和第五定位槽742配合保证右侧层体142的制作位置。
73.在左侧层体141和右侧层体142的下表面带有粘性,在卷绕状态下需要覆有保护膜,当上支持层14的下表面充分光滑时,其下表面可以充当保护膜,在卷绕时保护其粘性,此时不需要废料盘去收集保护膜,为了撕除上述保护膜,在上支持层料盘6和上支持层压辊63之间设置第二辅助轮64和第二废料盘65,第二辅助轮64上带有两个剥离通道,分别与第二废料盘65配合用于剥离左侧层体141上的保护膜和右侧层体142上的保护膜。剥离保护膜后的左侧层体141和右侧层体142通过第四定位环74和上支持层压辊63配合在送料轨道2上传输。
74.上述下支持层11的宽度可以是单个试纸条的宽度,也可以是多个试纸条的宽度之和,也就是说,干化学试纸加工装置可以同时制作多个干化学试纸,最后利用设置在上支持层压辊63下游的切割器8,通过控制界面设置旋转切割的速度,每次切割等于一个试纸的宽度;或者通过更换刀片之间间距不同的环切刀,也可实现各种尺寸试纸的切割;也可使用闸刀通过控制界面设置闸刀落下速度,调整每次切割的尺寸;或者先利用闸刀切割成25-50条试纸的大卡,再利用与之配合的分切机完成试纸的切割。
75.上述制作过程如图2-图6所示,以下支持层11片材为基本单位,作为整个试纸的载体,制作一张含有一定数量下支持层11的大卡,将下支持层11一端放入下支持层压辊31,装置启动后,下支持层压辊31配合第一定位环71旋转运动碾压下支持层11,使得下支持层11整体更平整,使后续的黏贴更有效,并且下支持层压辊31与下支持层11之间巨大的摩擦力和压力会驱使下支持层11往前运动,继续下一步的粘贴;
76.将反应层12辊料放入反应层料盘4,并将反应层12穿过反应层辅助轮32,并将反应层12穿过第二定位环72并进入反应层压辊41;
77.将扩散层13辊料放入扩散层料盘5,并将扩散层13穿过扩散膜辅助轮42,并将扩散层13穿过第三定位环73并进入扩散层压辊51;
78.将上支持层14辊料放入上支持层料盘6,并将上支持层14的保护膜撕开,通过第二辅助轮64放入第二废料盘65,第二废料盘65上有固定保护膜的限制器,因此第二废料盘65盘旋转时可以顺利收纳保护膜,让其卷成一卷,便于取下;将上支持层14的左侧层体141和右侧层体142沿着第二辅助轮64穿过第四定位环74并进入上支持层压辊63,第四定位环74会将左侧层体141和右侧层体142紧密定位在试纸运行轨道内。
79.依次将反应层12、扩散层13粘贴在下支持层11,最后将上支持层14和下支持层11粘合时,只需要将上支持层14的左侧层体141和右侧层体142对准下支持层1两边,以形成加样通道15,不需要纵向重复对准加样口和检测孔111,使得干化学试纸纵向不会出现检测孔111上方受到阻挡的情况,最大程度上解决了由于检测孔111上方透光受阻导致的检测结果有误差的问题。
80.仪器启动后,下支持层压辊31会先旋转运动、对下支持层11碾压并向前输送到达反应层压辊41处,反应层压辊41起始的旋转运动会晚于下支持层压辊31的起始运动,晚于
的时间是由下支持层压辊31和反应层压辊41之间的距离,以及压辊旋转的速度决定的,优选为1s,反应层压辊41旋转运动,反应层压辊41与下支持层11之间的摩擦力和压力会将反应层12牢固黏贴于下支持层11上的粘胶区域,牢固粘贴的反应层12与下支持层11继续往前运动至扩散层压辊51,扩散层压辊51起始的旋转运动会晚于反应层压辊41的起始运动,晚于的时间是由反应层压辊41和扩散层压辊51之间的距离,以及压辊旋转的速度决定的,优选为1s,扩散层压辊51会将扩散层13牢固黏贴于下支持层11上的粘胶区域,经过碾压后,牢固粘贴的扩散层13、反应层12与下支持层11继续往前运动至上支持层压辊63,上支持层压辊63起始的旋转运动会晚于扩散层压辊51的起始运动,晚于的时间是由扩散层压辊51和上支持层压辊63之间的距离,以及压辊旋转的速度决定的,优选为1s,上支持层压辊63会将隔断设计的左侧层体141和右侧层体142黏贴于下支持层11上扩散层13与反应层12的两侧,并覆盖住扩散层13与反应层12的部分,漏出下支持层11下方的检测孔111。上支持层压辊63碾压后继续向前输送制作好的试纸辊料,输送到切割器8时,通过光电转换器识别试纸进入的位置,切割器8实现对试纸的切割。
81.仪器关闭后,最先停止下支持层压辊31、紧接着是反应层压辊41、扩散层压辊51和上支持层压辊63,最后是切割器8,这些设置可以集合到仪器的程序里。定位环及压辊都可以人为调整和更换,以使得定位环或压辊达到最适应各种膜的尺寸,定位环或压辊位置的调节也可以通过集成在其上的的调节轴,调节轴可以顺时针或逆时针旋转,通过其内部的螺杆驱动以调整距离进行调节定位环或压辊在送料轨道2上的位置。
82.上述具体实施方式用来解释说明本实用新型,而不是对本实用新型进行限制,在本实用新型的精神和权利要求的保护范围内,对本实用新型作出的任何修改和改变,都落入本实用新型的保护范围。
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