同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置的制造方法

文档序号:9578543阅读:351来源:国知局
同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及同位素仪表放射源辐射防护设备的技术领域,具体为同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置。
【背景技术】
[0002]工业同位素仪表依据射线穿过物质时的衰减原理,对密闭容器内或开放场所里的物料参数变化进行测量是非接触式的,特别是适用于常规仪表不能使用的场所。对于在高温、高压、易燃、易爆、剧毒、强腐蚀、高粘度、多粉尘等恶劣环境下的测量,具有无可替代的优势。
[0003]传统的测量方式有两种:即外置放射源方式和内置放射源方式。外置放射源方式是将放射源置于铅容器中,源容器和探测器分别放置在被测设备的两侧,一般用于直径不太大、壁厚不太厚的设备测量。对直径较大、壁较厚的设备,则适用于内置放射源测量方式。即把裸露的放射源通过延伸棒伸进设备内预先设置的盲管内,探测器放置在设备一侧进行测量。这样射线穿过物料的路径大为减少,且只需穿过一层壁厚,因而对放射源的活度要求大大降低。
[0004]外置放射源测量方式里放射源置于铅容器中,内置放射源测量设备,由于受内置空间、制作难度等因素制约,放射源往往是裸露放入。这样放射源裸露照射和射源位置距设备壁较近,附近的辐射剂量水平也较高。尤其对一些壁厚较大的设备,即使采用内置放射源,所需放射源活度仍然很大,可达到数百毫居量级;设备近壁处的辐射水平由此也很高,有时会超出国家标准十余倍之多。要使内置放射源附近的辐射剂量水平降低,使辐射防护效果达标,难度很大。因此针对上述问题我们研制了一种同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置,其能降低内置放射源附近的辐射剂量,有效解决内置放射源辐射防护效果差的问题。

【发明内容】

[0005]本发明的目的是针对以上所述的现有技术中存在的问题,提供一种同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置,其能降低内置放射源附近的辐射剂量,有效解决内置放射源辐射防护效果差的问题。
[0006]为了实现所述目的,本发明具体采用如下技术方案:
[0007]同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置,其包括连接杆3,连接杆3—端设有的定向块1,内侧设有的延伸杆4,且延伸杆4一端、定向块1内部设有放射源2 ;其特征在于:所述的延伸杆4的自由端穿过源容器6,且通过延伸杆固定轮9与尾部铅盖10连接,其源容器6通过对接法兰5与设备上已有法兰连接,且源容器6内部设有旋转堵头8,外侧设有源容器开关7。
[0008]所述的定向块1与对接法兰5之间、连接杆3外侧设有设备预留内置源管11。
[0009]所述的设备预留内置源管11为设备的内置盲管,其一端通过法兰,用以和本装置的对接法兰5连接,另一端伸进设备内放置定向块1 ;且其内径尺寸比定向块1外径大2mm,可供定向块1及其连接杆3进出。
[0010]所述的定向块1为中心设有Φ 12 X 17mm的腔体的不锈钢实心体结构,且沿其内部腔体向外缘,定向设有扇体福射孔。
[0011 ] 所述的辐射孔将放射源2发出的射线束定向辐射至设备容器13外的探测器12,且辐射孔的横向角为10°,纵向角为5?90°。
[0012]所述的源容器6为铅铸容器。
[0013]所述的旋转堵头8由铅铸成。
[0014]本发明同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置,所述的定向块1通过和连接杆3、源容器6的配合使用,使放射源2在测量和非测量状态下,都做到密闭防护,定向块1为中心设有Φ12Χ17_的腔体的不锈钢实心体结构,且沿其内部腔体向外缘,定向设有扇体辐射孔,使得放射源2发射出的射线,只沿着测量有用的方向辐射,其它方向的辐射则被壳体屏蔽,从而达到很好的辐射防护效果。
[0015]与现有技术相比,本发明的有益效果在于:一、定向块1为中心设有Φ12Χ17ι?πι的腔体的不锈钢实心体结构,且沿其内部腔体向外缘,定向设有扇体辐射孔,使得放射源2发射出的射线,只沿着测量有用的方向辐射,其它方向的辐射则被壳体屏蔽,从而达到很好的辐射防护效果;二、通过定向块1和源容器6综合作用,形成完整的内置放射源防护系统,这样在内置放射源实施正常测量时,实测到的设备表面部位辐射剂量可低到国家规定标准的十分之一以内,达到了良好的防护效果。
【附图说明】
[0016]图1为本发明的结构示意图。
[0017]图2为本发明的测量状态示意图。
[0018]图中:定向块1,放射源2,连接杆3,延伸杆4,对接法兰5,源容器6,源容器开关7,旋转堵头8,延伸杆固定轮9,尾部铅盖10,设备预留内置源管11,探测器12,设备容器13。
【具体实施方式】
[0019]以下结合附图1、附图2对本发明的结构及其有益效果进一步说明。
[0020]实施例1
[0021]同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置,如图1所示,其包括连接杆3,连接杆3—端设有的定向块1,内侧设有的延伸杆4,且延伸杆4 一端、定向块1内部设有放射源2 ;所述的延伸杆4的自由端穿过源容器6,且通过延伸杆固定轮9与尾部铅盖10连接,其源容器6通过对接法兰5与设备上已有法兰连接,且源容器6内部设有旋转堵头8,外侧设有源容器开关7,其源容器开关7用于打开或关闭源容器6腔体内的放射源的出入路径。
[0022]所述的定向块1与对接法兰5之间、连接杆3外侧设有设备预留内置源管11。
[0023]所述的设备预留内置源管11为设备的内置盲管,其一端通过法兰,用以和本装置的对接法兰5连接,另一端伸进设备内放置定向块1 ;且其内径尺寸比定向块1外径大2mm,可供定向块1及其连接杆3进出。
[0024]所述的对接法兰5实现源容器6的固定。
[0025]所述的定向块1为中心设有Φ 12 X 17mm的腔体的不锈钢实心体结构,且沿其内部腔体向外缘,定向设有扇体辐射孔,使得放射源2发射出的射线,只沿着测量有用的方向辐射,其它方向的辐射则被壳体屏蔽,从而达到很好的辐射防护效果。
[0026]所述的辐射孔将放射源2发出的射线束定向辐射至设备容器13外的探测器12,且辐射孔的横向角10°,纵向角为5?90°。
[0027]所述的源容器6为铅铸容器,作为防护容器固定在设备外壁;当测量停止或设备需要检修时,通过延伸杆4将放射源2从定向块1内部腔体中拉出,放入源容器6中,作安全防护。
[0028]所述的旋转堵头8由铅铸成,位于源容器6内靠近设备外壁一端;当放射源2从定向块1的腔体中拉出、放入源容器6中的腔体内后,通过旋转源容器开关7,使旋转堵头8由原来的偏心位置转至中心位置,既阻断了放射源2拉出腔体的路径,又起到对射线的防护作用。
[0029]所述的延伸杆固定轮9固定在延伸杆4的末端,起推拉放射源2的操作手柄作用,同时当延伸杆4将放射源2推入定向块1内部腔体中后,其位于源容器6尾部的腔室中,起定位作用。
[0030]所述的尾部铅盖10在源容器6的尾部,当放射源2拉出放入源容器6中的腔体内后,其对推拉孔径方向的射线起防护作用。
[0031]所述的放射源2发射出的射线,只能沿着这个扇体辐射孔,朝着相应探测器12接收的方向辐射,其它方向的辐射多半则被定向块1的不锈钢层屏蔽。
[0032]以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置,其包括连接杆(3),连接杆(3)一端设有的定向块(I),内侧设有的延伸杆(4),且延伸杆(4) 一端、定向块(I)内部设有放射源(2);其特征在于:所述的延伸杆(4)的自由端穿过源容器¢),且通过延伸杆固定轮(9)与尾部铅盖(10)连接,其源容器(6)通过对接法兰(5)与设备上已有法兰连接,且源容器(6)内部设有旋转堵头(8),外侧设有源容器开关(7)。2.根据权利要求1所述同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置,其特征在于:所述的定向块(I)与对接法兰(5)之间、连接杆(3)外侧设有设备预留内置源管(11)。3.根据权利要求1所述同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置,其特征在于:所述的定向块(I)为中心设有Φ12Χ17_的腔体的不锈钢实心体结构,且沿其内部腔体向外缘,定向设有扇体福射孔。4.根据权利要求3所述同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置,其特征在于:所述的辐射孔将放射源(2)发出的射线束定向辐射至设备容器(13)外的探测器(12),且辐射孔的横向角为10°,纵向角为5?90°。5.根据权利要求1所述同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置,其特征在于:所述的源容器(6)为铅铸容器。6.根据权利要求1所述同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置,其特征在于:所述的旋转堵头(8)由铅铸成。
【专利摘要】本发明涉及同位素仪表放射源辐射防护设备,具体为同位素仪表内置放射源射线束方向的定向调节装置。其包括连接杆(3),连接杆(3)一端设有的定向块(1),内侧设有的延伸杆(4),且延伸杆(4)一端、定向块(1)内部设有放射源(2);所述的延伸杆(4)的自由端穿过源容器(6),且通过延伸杆固定轮(9)与尾部铅盖(10)连接,其源容器(6)通过对接法兰(5)与设备上已有法兰连接,且源容器(6)内部设有旋转堵头(8),外侧设有源容器开关(7)。其有益效果在于:能降低内置放射源附近的辐射剂量,有效解决内置放射源辐射防护效果差的问题。
【IPC分类】G01T7/00
【公开号】CN105334529
【申请号】CN201510848609
【发明人】刘建民, 薛峰, 赵万翔, 刘智斌
【申请人】天华化工机械及自动化研究设计院有限公司
【公开日】2016年2月17日
【申请日】2015年11月26日
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