本发明涉及半导体技术领域，且特别涉及一种自动审查设计规则检查结果的方法。
背景技术：
设计规则检查(designrulecheck,drc)，即针对版图进行设计规则的检查。当一颗芯片开始在工厂流片时，第一步就是对芯片版图进行drc验证，运用设计规则检查软件对版图进行检查，然后分析检查出来的违反结果(即违反设计规则的地方)，找出那些工厂不可以接受的违反结果(也称违反值)，所以drc就是确保芯片版图布局满足设计规则的一个检查过程。
随着芯片制造技术的发展，芯片向着越来越小的线宽发展，电路在设计端的复杂
性增加，版图的复杂性也随之增加，这使得芯片制造工厂对于先进制程的设计规则要求也
急剧增加。这种变化会导致，越是先进的技术，芯片在设计之后，违反制造工厂设计规则的
违反结果的个数越多，甚至将成倍的增长。然而，在现有技术中，这些违反结果仍需要人工
来审查并判断，而且大多数时候还要对每条不满足规则的地方进行截图来制作drc报告，
虽然现有技术中存在针对违反值进行分类排序的方法，但违反结果数目过多的时候，仍
由人工一条规则一条规则的审查、截图、制作报告，每一个步骤都将耗费大量的时间，且容易造成遗漏。
随着大数据时代的到来，各类型企业都已开始着手运用数据管理大量的企业人事、生产相关数据，本发明提供一种结合大数据自动审查drc结果的方法，及时准确的发现设计规则违反情况。
技术实现要素：
本发明提出一种自动审查设计规则检查结果的方法，能够及时准确的发现设计规则检查违反情况，且可以节省大量的人力，并缩短设计规则检查结果审查周期。
为了达到上述目的，本发明提出一种自动审查设计规则检查结果的方法，包括下列步骤：
根据工艺平台量产品的设计规则检查结果建立数据库；
新产品导入时，进行设计规则检查，按照预定的标注方法对每条违反的规则进行自动尺寸标注；
将规则违反结果自动与所述设计规则检查结果数据库对比；
标定出新增加违反的设计规则并截图；
根据自动尺寸标注，对比已有违反规则的极限值并截图；
根据对比结果，生成设计规则检查审查结果报告。
进一步的，所述按照预定的标注方法对每条违反的规则进行自动尺寸标注为在违法规则的地方对违反值进行尺寸标注。
进一步的，所述对比已有违反规则的极限值步骤还包括根据已有设计规则自动列出已有和当前的极限值并截图。
进一步的，该方法还包括根据工艺平台特色定义设计规则中每条规则的优先级。
进一步的，将与工艺能力相关，工艺窗口相关的设计规则定义为高等级规则，其他规则定义为次等级规则。
进一步的，该方法还包括根据每条违反规则的优先级，将设计规则检查审查结果报告中的违反规则进行排序，优先登记高的违反规则排在报告前面重点关注。
本发明提出的自动审查设计规则检查结果的方法，建立设计规则检查结果数据库，新产品导入时，进行设计规则检查，按照预定的标注方法对每条违反的规则进行自动尺寸标注，将规则违反结果自动与所述设计规则检查结果数据库对比并截图，根据对比结果，生成设计规则检查审查结果报告。本发明能够及时准确的发现设计规则检查违反情况，且可以节省大量的人力，并缩短设计规则检查结果审查周期。
附图说明
图1所示为本发明较佳实施例的自动审查设计规则检查结果的方法流程图。
具体实施方式
以下结合附图给出本发明的具体实施方式，但本发明不限于以下的实施方式。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用于方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。
请参考图1，图1所示为本发明较佳实施例的自动审查设计规则检查结果的方法流程图。本发明提出一种自动审查设计规则检查结果的方法，包括下列步骤：
步骤s100：根据工艺平台量产品的设计规则检查结果建立数据库；
步骤s200：新产品导入时，进行设计规则检查，按照预定的标注方法对每条违反的规则进行自动尺寸标注；
步骤s300：将规则违反结果与所述设计规则检查结果数据库对比；
步骤s400：标定出新增加违反的设计规则并截图；
步骤s500：根据自动尺寸标注对比已有违反规则的极限值并截图；
步骤s600：根据对比结果生成设计规则检查审查结果报告。
根据本发明较佳实施例，所述按照预定的标注方法对每条违反的规则进行自动尺寸标注为在违法规则的地方对违反值进行尺寸标注。本发明对违反值进行尺寸标注，即最小宽度、距离或面积等，例如有源区最小距离违反规则，在违反的地方标注其最小距离的违反值。
所述对比已有违反规则的极限值步骤还包括根据已有设计规则自动列出已有和当前的极限值并截图。原有数据库中已有违反值的极限值，例如有源区的最小距离违反的极限值是0.07um,现有违反值为0.075um即不超过违反极限值，如果是0.065um已超过违反极限值，需要进行标注极限值并截图。
该方法还包括根据工艺平台特色定义设计规则中每条规则的优先级。
进一步的，将与工艺能力相关，工艺窗口相关的设计规则定义为高等级规则，其他规则定义为次等级规则。例如有源区或金属层的最小宽度和最小距离，与机台的工艺能力息息相关，和以上参数相关的设计规则定义为高等级规则，予以重点关注考虑。
进一步的，该方法还包括根据每条违反规则的优先级，将设计规则检查审查结果报告中的违反规则进行排序，优先登记高的违反规则排在报告前面重点关注。
综上所述，本发明提出的自动审查设计规则检查结果的方法，建立设计规则检查结果数据库，新产品导入时，进行设计规则检查，按照预定的标注方法对每条违反的规则进行自动尺寸标注，将规则违反结果自动与所述设计规则检查结果数据库对比并截图，根据对比结果，生成设计规则检查审查结果报告。本发明能够及时准确的发现设计规则检查违反情况，且可以节省大量的人力，并缩短设计规则检查结果审查周期。
虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明。本发明所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰。因此，本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。