一种画面轨迹高频绘制方法、装置、设备及存储介质与流程

本发明涉及计算机技术领域，尤其涉及了一种画面轨迹高频绘制方法、装置、设备及存储介质。

背景技术：

工控系统开发平台软件作为工业控制系统的核心与灵魂，以全分布的网络结构为基础，定义了控制器中基于操作码和操作数的指令编码方式，研究不同控制器间变量区共享和同步交互问题，并且通过研究网络间变量同步机制，实现了不同控制器间程序运行级别的变量共享。通过工厂自动化控制、流程自动化控制、运动控制指令结合变量共享技术，控制工程设计开发平台软件联合各类硬件资源解决了各种行业实时性、大规模、多点数、一体化、安全性等一系列实际应用问题。

基于工控系统开发平台软件，建立典型的控制工程模型库、控制方法库、显示界面库，逐级构建基础元件、单元设备、行业装备的多领域描述模型库，以重用的方式“搭建”装备模型，以重构的模式编程实现工程对象模型、工程控制策略、显示操作面板等，解决软件开放性缺失、程序代码可复用性和可维护性低的问题，实现了控制工程设计编程的形象直观与高效稳定。

在画面轨迹高频绘制过程中，由于始终位置、方向、速度、刷新时间已经设置完成，图元直接按照设置好的条件进行轨迹变化，但每次轨迹变化间距较小，使相邻图元部分重叠覆盖，导致图元显示混乱，实际的画面连续性与用户期望的显示效果差距较大。并且这种情况会导致系统cpu占用率过高，影响到系统的处理速度，从而使电脑运行变慢，导致操作极为缓慢甚至死机。而作为工控系统开发平台软件，能最先获知、预警以及处理系统运行中所发生的各类故障，是整个系统安全监测的重要环节。如果在工控系统开发平台软件运行过程中出现上述情况，稍有差池，可能会发生重大生产事故，给企业造成难以挽回的财产损失，甚至人员伤亡。

技术实现要素：

本发明的目的是提供了一种画面轨迹高频绘制方法，以解决现有技术中存在的相邻图形部分重叠覆盖、图形显示混乱、实际的画面连续性与用户期望的显示效果差距较大、cpu占用率过高的问题。

根据本申请实施例的第一方面，提供一种画面轨迹高频绘制方法，所述步骤包括：

获取待绘制画面轨迹的基本图元；

对所述基本图元进行属性设置；

对属性设置后的基本图元进行存储处理和操作处理，所述存储处理是保存具有属性变化的所述基本图元，所述操作处理是所述基本图元需要发生轨迹变化，则进行轨迹变化设计，最终输出动态图元。

在一个可选的实现方式中，所述基本图元选自线、矩形、三角形、多边形、圆、椭圆、扇形、梯形、圆柱、立方体。

在一个可选的实现方式中，所述基本图元属性选自颜色、大小、形状。

在一个可选的实现方式中，所述轨迹变化为起点位置变化、终点位置变化、速度变化、移动时间及方向变化、重复性及单一性变化中的一种或多种变化。

根据本申请实施例的第二方面，提供一种画面轨迹高频绘制装置，包括：

获取模块，用于获取待绘制画面轨迹的基本图元；

属性设置模块，用于对所述基本图元进行属性设置；

绘制模块，用于对属性设置后的基本图元进行存储处理和操作处理，所述存储处理是保存具有属性变化的所述基本图元，所述操作处理是所述基本图元需要发生轨迹变化，则进行轨迹变化设计，最终输出动态图元。

根据本申请实施例的第三方面，提供一种设备，包括：

一个或多个处理器；

存储器，用于存储一个或多个程序；

当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行，使得所述一个或多个处理器实现如第一方面所述的方法。

根据本申请实施例的第四方面，提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述程序被处理器执行时实现如第一方面所述的方法。

根据以上技术方案，本发明对属性设置后的基本图元进行存储处理和操作处理，避免相邻图元部分重叠覆盖，增强了图元显示效果，画面连续性满足用户期望，进而画面运行系统实现流畅的流程画面的动态显示与操作管理，解决了控制工程设计开发平台画面运行卡顿的问题，有效降低系统cpu占用率一半以上，保证了画面运行的流畅性和稳定性。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1是现有技术中画面轨迹高频绘制示意图；

图2是本发明根据一示例性实施例示出的一种画面轨迹高频绘制流程图；

图3是本发明根据一示例性实施例示出的一种画面轨迹高频绘制示意图；

图4是本发明根据一示例性实施例示出的一种画面轨迹高频绘制装置的框图；

图5是本发明根据一示例性实施例示出的一种画面轨迹高频绘制装置所在设备的框图。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应该理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

相反，本发明涵盖任何由权利要求定义的在本发明的精髓和范围上做的替代、修改、等效方法以及方案。进一步，为了使公众对本发明有更好的了解，在下文对本发明的细节描述中，详尽描述了一些特定的细节部分。

在基本图元进行轨迹变化前，由于起点位置、终点位置、速度、移动时间及方向、重复性及单一性变化中的一种或多种变化已经设置完成，基本图元直接按照设置好的条件进行轨迹变化。但为了保持画面连续性，每次轨迹变化间距较小且变化时间较短，如图1所示，图1为现有技术中画面轨迹高频绘制示意图。获取基本图元(以矩形为例)，颜色设置为黑色，在画面轨迹高频绘制过程中，第二个图元覆盖住第一个图元，第三个图元覆盖住前一个图元……这样依次下去，相邻图元在轨迹变化过程中部分会被覆盖住，而之后被覆盖的图元会越来越多，导致图元显示过于混乱，实际的画面连续性与用户期望的显示效果差距较大。并且容易造成系统cpu占用率过高的问题，从而导致画面运行卡顿，严重时甚至会发生安全事故，给企业造成难以挽回的财产损失以及威胁到人身安全。

基于此，本发明提供一种画面轨迹高频绘制方法，该方法避免相邻图元部分重叠覆盖，增强了图元显示效果，画面连续性满足用户期望。

图2是本发明根据一示例性实施例示出的一种画面轨迹高频绘制流程图，包括以下步骤：

步骤s102，获取待绘制画面轨迹的基本图元；

步骤s104，对所述基本图元进行属性设置；

步骤s106，对步骤s104中所述基本图元进行存储处理和操作处理，所述存储处理是保存具有属性变化的所述基本图元，所述操作处理是所述基本图元需要发生轨迹变化，则进行轨迹变化设计，最终输出动态图元。

需要解释说明的是，基本图元是用于画面轨迹高频绘制的单位元，可以选自线、矩形、三角形、多边形、圆、椭圆、扇形、梯形、圆柱、立方体。基本图元属性选自颜色、大小、形状。轨迹变化为起点位置变化、终点位置变化、速度变化、移动时间及方向变化、重复性及单一性变化中的一种或多种变化。

关于画面轨迹高频绘制过程，本实施例可以提供一种或多种基本图元。用户可以在图形选择界面选择相应的基本图元，还可以添加新的基本图元，以实现基本图元的多样性，对画面轨迹实现自定义。

图3是本发明根据一示例性实施例示出的一种画面轨迹高频绘制示意图。该示意图中，示出有用于画面轨迹高频绘制的基本图元(可称为矩形单位元)。如图3所示，获取矩形单位元，颜色设置为黑色，设置好的矩形单位元经过存储处理和操作处理后，在画面轨迹高频绘制过程中，只显示当前动态的矩形单位元，所以没有发生后一个图元覆盖前一个图元的情况，完全解决了相邻图元部分重叠覆盖、图形显示混乱、实际的画面连续性与用户期望的显示效果差距较大、cpu占用率过高的问题，增强了图元显示效果，画面连续性满足用户期望。同时使画面运行系统实现流畅的流程画面的动态显示与操作管理，解决了控制工程设计开发平台画面运行卡顿的问题，有效降低系统cpu占用率一半以上，保证了画面运行的流畅性和稳定性。

如图4所示，图4是本发明根据一示例性实施例示出的一种画面轨迹高频绘制装置的框图，所述装置包括：

获取模块，用于获取待绘制画面轨迹的基本图元；

属性设置模块，用于对所述基本图元进行属性设置；

绘制模块，用于所述基本图元进行存储处理和操作处理，所述存储处理是保存具有属性变化的所述基本图元，所述操作处理是所述基本图元需要发生轨迹变化，则进行轨迹变化设计，最终输出动态图元。

本发明还提供一种设备，包括：

一个或多个处理器；

存储器，用于存储一个或多个程序；

当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行，使得所述一个或多个处理器实现上述的一种画面轨迹高频绘制方法。

相应的，本发明实施例还提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述程序被处理器执行时实现上述的一种画面轨迹高频绘制方法。

对于装置实施例而言，由于其基本对应于方法实施例，所以相关之处参见方法实施例的部分说明即可，以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的。

如图5所示，设备包括处理组件，其进一步包括一个或多个处理器，以及由存储器代表的存储器资源，用于存储处理组件的执行指令，包括一个或多个程序。另外，处理组件被配置为执行指令，以执行上述画面轨迹高频绘制方法。

设备还可以包括一个电源组件，被配置为执行设备的电源管理，一个有线或无线网络接口被配置为将设备连接到网络，和一个输入输出(i/o)接口。此外，设备可以操作基于存储在存储器的操作系统。

当所述存储器中的指令由所述处理组件执行时，使得设备能够执行一种画面轨迹高频绘制方法，包括：

步骤s102，获取待绘制画面轨迹的基本图元；

步骤s104，对所述基本图元进行属性设置；

步骤s106，对步骤s104中所述基本图元进行存储和操作，所述存储是保存具有属性变化的所述基本图元，所述操作是所述基本图元需要发生轨迹变化，则进行轨迹变化设计，最终输出动态图元。

总之，以上所述仅用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出，在不脱离本发明原理的前提下，凡依据本发明申请专利范围所作的均等变化与修饰，皆应属于本发明专利要求保护的涵盖范围。