一种内嵌式触摸屏及显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及触控显示技术领域，尤其涉及一种内嵌式触摸屏及显示装置。
【背景技术】
[0002]有机电致发光显示面板(Organic light-emitting d1des，0LED)是一种利用有机材料封装成型的显示器件，其具有工作电压低、响应速度快、发光效率高、视角广和工作温度广等优点，利于显示器件的轻薄化、低功耗和曲面设计。目前，现有的基于0LED的触控产品大多数是采用如图1所示的外挂式触控结构，分别制作0LED显示面板01和触控面板02，利用胶材03将两个面板贴合后形成完整的触控显示装置，这种结构会导致0LED装置整体厚度增加，不利于产品的轻薄化设计。
[0003]内嵌式触摸屏是将触控电极设置在显示面板内部，大多需要对膜层进行分割和打孔设计，而现有的制成0LED的材料对于水氧条件较为严苛，因此，目前0LED大多采用真空蒸镀工艺制作，使得在0LED中进行过孔和图形分割工艺十分困难，且成本昂贵，不利于在0LED中实现内嵌式触控。
[0004]因此，如何基于0LED面板实现内嵌式触控，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
【实用新型内容】
[0005]有鉴于此，本实用新型实施例提供了一种内嵌式触摸屏及显示装置，用以实现基于0LED面板的内嵌式触控。
[0006]因此，本实用新型实施例提供的一种内嵌式触摸屏，具有呈矩阵排列的多个电致发光子像素区域，各所述电致发光子像素区域包括:依次设置在衬底基板上的阳极和发光层，还包括:
[0007]设置在所述发光层之上的呈矩阵排列的相互绝缘的多个触控电极，各所述触控电极之间的间隙位于所述电致发光子像素区域的间隙处；
[0008]各所述触控电极覆盖至少一个所述电致发光子像素区域且复用作为被覆盖的所述电致发光子像素区域的阴极。
[0009]在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，还包括:设置在所述衬底基板上用于分隔各所述触控电极的第一挡墙；以及用于分隔被同一所述触控电极覆盖的各所述电致发光子像素区域的阳极的第二挡墙。
[0010]在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，设置于各所述触控电极之间间隙处的所述第一挡墙具有双层挡墙结构，在所述双层挡墙结构中间的缝隙处设置有与对应的所述触控电极连接的电极引出线。
[0011]在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，所述电极引出线与所述触控电极的连接处对应的第一挡墙的高度大于或等于所述阳极和发光层的厚度之和，且小于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和；
[0012]除了所述电极引出线与所述触控电极的连接处对应的第一挡墙之外的其他第一挡墙的高度大于或等于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和。
[0013]在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，所述第二挡墙还用于分隔被同一所述触控电极覆盖的各所述电致发光子像素区域的发光层。
[0014]在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，所述第二挡墙的高度大于或等于所述阳极和发光层的厚度之和，且小于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和。
[0015]在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，所述触控电极的图形中具有镂空区域;所述第二挡墙还用于形成各所述触控电极的图形中的镂空区域。
[0016]在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，在形成所述镂空区域处所述第二挡墙的高度大于或等于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和；
[0017]除了形成所述镂空区域处之外的所述第二挡墙的高度大于或等于所述阳极的厚度，且小于所述阳极、触控电极和发光层的厚度之和。
[0018]在一种可能的实现方式中，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，各所述电致发光子像素区域还包括:设置于所述衬底基板与所述阳极之间的像素控制电路。
[0019]本实用新型实施例提供的一种显示装置，包括本实用新型实施例提供的上述任一种内嵌式触摸屏。
[0020]本实用新型实施例的有益效果包括:
[0021]本实用新型实施例提供的一种内嵌式触摸屏及显示装置，在0LED面板的发光层之上设置呈矩阵排列的相互绝缘的多个触控电极，且各触控电极之间的间隙位于电致发光子像素区域的间隙处，各触控电极覆盖至少一个电致发光子像素区域且复用作为被覆盖的电致发光子像素区域的阴极。本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏基于0LED面板，将其阴极进行分割后复用触控电极，以实现内嵌式触控，这样可以降低触控显示装置的厚度，利于产品的轻薄化设计。
【附图说明】
[0022]图1为现有技术中基于0LED的触控广品的结构不意图；
[0023]图2为本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏的结构示意图；
[0024]图3a和图3b分别为本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏的侧视结构示意图；
[0025]图4为本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏中一个触控电极的俯视结构示意图；
[0026]图5为本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏的制作方法的流程示意图。
【具体实施方式】
[0027]下面结合附图，对本实用新型实施例提供的内嵌式触摸屏及显示装置的【具体实施方式】进行详细地说明。
[0028]附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本【实用新型内容】。
[0029]本实用新型实施例提供的一种内嵌式触摸屏，如图2所示，具有呈矩阵排列的多个电致发光子像素区域100，图2中仅示出了一个电致发光子像素区域100，各电致发光子像素区域100包括:依次设置在衬底基板001上的阳极002和发光层003，还包括:
[0030]设置在发光层003之上的呈矩阵排列的相互绝缘的多个触控电极004，各触控电极004之间的间隙位于电致发光子像素区域100的间隙处；
[0031]各触控电极004覆盖至少一个电致发光子像素区域100且复用作为被覆盖的电致发光子像素区域100的阴极。
[0032]值得注意的是，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中各电致发光子像素区域包含的发光层不仅包括由有机电致发光材料组成的单一发光膜层，还包括诸如电子传输层、空穴阻挡层、电子阻挡层、空穴传输层等功能膜层。
[0033]本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏基于0LED面板，将其阴极进行分割后复用触控电极，以实现内嵌式触控，这样可以降低触控显示装置的厚度，利于产品的轻薄化设计。
[0034]进一步地，为了控制各电致发光子像素区域的发光亮度以进行不同图像的显示，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中各电致发光子像素区域，如图2所示，一般还会包括:设置于衬底基板001与阳极002之间的像素控制电路005。
[0035]进一步地，由于触摸屏在使用时需要频繁的按压屏幕，因此，一般需要设置保护盖板对屏幕进行保护，因此，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，如图2所示，在触控电极004之上一般还会设置透明盖板006。该透明盖板006可以对屏幕进行保护之外，还可以阻隔水氧对于电致发光子像素区域100侵害而影响其显示功能。
[0036]进一步地，为了避免采用真空蒸镀工艺制作阴极时对阴极进行图形分割时工艺困难的问题，本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏在制作时可以采用喷墨打印的方式形成与阴极复用的触控电极004，进一步也可以采用喷墨打印的方式形成阳极002和发光层
003。并且，为了实现在喷墨打印时实现图形化的触控电极004，在本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏中，如图3a和图3b所示，还可以包括:设置在衬底基板001上用于分隔各触控电极004的第一挡墙007;以及用于分隔被同一触控电极004覆盖的各电致发光子像素区域100的阳极002的第二挡墙008。
[0037]在具体制作本实用新型实施例提供的上述内嵌式触摸屏时，可以在衬底基板001上制作完成像素控制电路005之后，首先形成上述第一挡墙007和第二挡墙008，之后利用第一挡墙007和第二挡墙008的