专利名称：形成基准图案的方法
技术领域：
本发明的一般构思涉及形成基准图案(reference pattern)的方法，更具 体而言，涉及在含有缺陷基准图案(defective reference pattern)的盘驱动器 中通过补偿所述缺陷基准图案形成正常基准图案(normal reference pattern ) 的方法。
背景技术：
由于制造期间信息不记录在盘上，因而向盘写入信息或从盘读出信息所 需的位置信息必须通过单独的装置记录在盘上。
基准图案首先生成在盘上从而写用于盘的位置信息。生成基准图案的过 程称为伺服道写入(STW)。在制造时发生的STW过程中，盘安装在单独的 伺服图案形成装置中以形成盘所需的基准图案。
伺服道具有写入其中的控制盘的位置所需的伺服图案。即，包括道编号、 相邻道之间的节距的位置信息以及跟踪道的中心所需的其它信息存储在伺 服道上。
一旦基准图案形成在盘上，则盘被安装在硬盘驱动器(HDD)中。如果 基准图案具有缺陷，则该缺陷盘不能正确用于读或写数据。即，由于过程图 案(process pattern)通过读出HDD中的基准图案而形成，所以使用缺陷基 准图案不能正确形成该过程图案。
因而，为了克服该问题，缺陷盘必须从硬盘驱动器卸下，使基准图案可 正确地重新写到盘上。或者，该缺陷盘可被去除并用新盘(没有缺陷)替换。
然而，从HDD卸下盘以及正确重新写基准图案到盘上花费大量时间和 成本。丢弃和用新盘替换缺陷盘也会导致额外的成本。
发明内容
本发明的一般构思提供一种在含有缺陷基准图案的盘驱动器中通过补 偿缺陷基准图案而形成正常基准图案的方法。本发明的 一般构思的其它方面和效用将在下面的说明中部分阐明，且部 分地将从该说明变得明显，或者可通过实践该一般发明构思而习得。
本发明的 一般构思的上述和/或其它方面和效用可通过提供一种形成基
准图案的方法而实现，该方法包括确定初始基准图案的边界点是否位于盘 的内径区域，该内径区域在最外周的道的内侧；以及如果所述初始基准图案 的边界点位于所述盘的内径区域，则与所述初始基准图案整体地额外形成补 偿基准图案，使得最终基准图案沿所述盘的外径方向延伸。
该方法还可包括在确定所述初始基准图案的边界点是否位于所述盘的 内径区域之前，测量最外周界限与所述初始基准图案之间的间隙。
在确定所述初始基准图案的边界点是否位于所述盘的内径区域时，可利 用所述最外周界限和所述初始基准图案之间的间隙来进行所述确定。
该方法还可包括如果补偿基准图案延伸至最外周的道，则终止所述补 偿基准图案的形成。
在形成所述补偿基准图案时，读头可读取所述初始基准图案且写头可沿 朝向所述盘的外径的方向在所述初始基准图案的边界点外额外地写所读取 的初始基准图案。
在形成所述补偿基准图案时，所述初始基准图案开始被读取的点可通过 所述写头和所述读头之间的距离确定。
在形成所述补偿基准图案时，所述初始基准图案可在这样的点开始被读 取，所述点与所述初始基准图案的边界点朝向所述盘的内径区域间隔开所述 写头和所述读头之间的所述距离。
形成所述补偿基准图案可包括指定与所述初始基准图案的边界点相邻 的道为特定的道编号n， n为自然数；以及形成所述补偿基准图案至道编号i， i是从n减小的自然数。
所述特定的道编号n可基于所述初始基准图案的边界点和最外周的道之 间的道的数目来确定。
所述特定的道编号n可设定为比所述初始基准图案的边界点和最外周的 道之间的道的数目更大的值。
在形成所述补偿基准图案时，所述写头和所述读头之间的距离可利用头 歪斜校准来确定。
在测量所述最外周界限和所述初始基准图案之间的间隙时，所述间隙可
5利用FORST技术确定。
测量所述间隙可包括在音圏马达以恒定速度,人盘的所述内径移动到所 述外径时，测量从所述初始基准图案的边界点移动到产生反电动势的点所用 的时间；以及利用所测量的时间和所述音圏马达移动的恒定速度来测量所述 最外周界限和所述初始基准图案之间的所述间隙。
该方法还可包括在形成所述补偿基准图案之后，通过复制所述最终基 准图案来产生过程图案，其中所述最终基准图案可包括所述初始基准图案和 与所述初始基准图案整体地形成的所述补偿基准图案。
产生所述过程图案可包括沿从所述盘的外径到内径的方向复制所述最 终基准图案。
本发明 一般构思的上述和/或其它方面和效用可通过提供一种校正盘上 的基准图案的方法而实现，该方法包括确定所述盘的初始基准图案的边界 点；以及如果所述初始基准图案的边界点确定为短于所述盘上的预定位置， 则与所述初始基准图案整体地形成补偿基准图案，使得最终基准图案延伸到 所述盘上的所述预定位置。
确定初始基准图案的边界点可包括从所述盘的内径处的点以预定速度 横越所述盘驱动音圏马达至所述初始基准图案的末端；以及测量驱动所述音 圈马达的时间。
通过参照附图详细描述其示例性实施例，本发明的一般构思的上述和其 它特征及效用将变得更加明显，附图中 图1A示出正常盘驱动器中的基准图案； 图1B示出缺陷盘驱动器中的基准图案； 图2是说明根据本发明一实施例形成基准图案的图； 图3是形成图2所示的基准图案的方法的流程图； 图4A是说明图3所示的外周界限的图； 图4B是说明图3的方法中的操作的图； 图5是说明图3的方法中的操作的图；以及 图6是说明图3的方法中的操作的图。
具体实施例方式
现在将详细参照本发明一般构思的实施例，附图中示出其示例，附图中 相似的附图标记始终表示相似的元件。下面参照附图描述实施例以说明本发 明的一般构思。
图1A示出正常盘驱动器中的基准图案101。
参照图1A,基准图案101形成在正常盘驱动器中。基准图案101在制 造盘时形成在盘上之后，如上所述，盘安装在硬盘驱动器(HDD)中(未示 出)。
图1A和IB的左部是盘的外径(OD)方向，右部是盘的内径(ID)方向。
在HDD中，基准图案101被读出且基于基准图案101形成过程图案107。 "形成"指的是复制并写入与基准图案101相同的图案到正常盘驱动器上形 成过程图案107的区域中。
附图标记105表示代表OD急停器(crash stop )的假想点。因此，虚线 113用于界定在盘的OD处的OD急停器。
致动器臂使头横越盘移动。盘驱动器中的"OD急停器"是头能沿OD 方向移动的最远点。即，OD急停器防止头移动超出盘的OD并且界定外周 界限(outer circumferential limit)为头能从盘离开多远来写数据。
虚线111表示形成有数据道的区域的末端。每个盘上数据道的数目通常
随着所使用的盘驱动器的规格而变化。即，形成在盘上的道的总数根据HDD 的存储容量而变化。
虚线111的位置根据数据道的数目而变化。虚线111 (下面称为"最外 周的道lll")表示沿OD方向形成的最后的道。
在HDD中，从最内周的道至最外周的道111的所有道(track)用于存 储数据。为了向所有道写数据，过程图案107必须一直延伸到最外周的道111 。
在图1所示的正常盘驱动器中，基准图案101沿OD方向延伸超过最外 周的道111。因此，通过读出基准图案101能形成延伸至最外周的道111的 过程图案107。
图IB示出缺陷盘驱动器中的基准图案151。
参照图IB,基准图案151形成在盘的ID区域，其在最外周的道161内 侧。因此，过程图案157也通过复制基准图案151到盘的ID区域而形成，其在最外周的道161内侧。
数据不能写至盘上的间隙<3>中的道。具有图1B所示的基准图案151
的盘驱动器证明是有缺陷的。参照图1B，基准图案151短于图1A所示的正 常盘驱动器中的基准图案101。如果基准图案151是如图1B所示的有缺陷 的，则有缺陷的盘驱动器必须经历伺月l道重写入(ReSTW)或者被丟弃。
ReSTW过程指的是正确地重新写基准图案到带有缺陷基准图案的盘驱 动器的过程。传统的ReSTW过程包括从HDD卸下盘、重写基准图案到盘 上以及将盘插到HDD中。
本发明的 一般构思通过补偿缺陷基准图案而不必进行伺服道重写入过 程，提供了在如图1B所示的带有缺陷基准图案的盘驱动器中形成正常基准 图案的方法。
图2是说明根据本发明的一般构思的实施例形成基准图案201的图。
参照图2，根据本实施例的基准图案201包括缺陷基准图案221和沿盘 的OD额外形成的补偿基准图案223。形成补偿基准图案223的过程在HDD 内进行。如上所述，传统上，为了补偿缺陷基准图案，盘必须从HDD卸下 并插到ReSTW设备中。经历ReSTW过程后，盘被放回到HDD中用于使用。
与传统方法不同，根据当前实施例的形成基准图案的方法允许在HDD 内补偿缺陷基准图案，从而消除了从HDD卸下盘的需要。
参照图2， Pl表示缺陷基准图案221 (对应于图1B中的157)和补偿基 准图案223之间的边界点。即，缺陷基准图案221在制造时初始延伸至点 Pl。制造时写入的基准图案(缺陷基准图案221 )和额外写入的基准图案(补 偿基准图案223 )在下面称为"初始基准图案"和"补偿基准图案"。附图标 记241表示假想OD急停器，虚线233用来界定头211能从盘离开多远的外 周界限。附图标记231表示最外周的道。头211包括写头213和读头215。
初始基准图案221沿<(11>指示的OD方向额外地延伸超过点Pl。即，
沿方向<011>写入额外的基准图案。
读头215读初始基准图案221的一部分(例如242 )且写头213写入从 点Pl延伸的该读取部分到补偿基准图案223的部分243上。更具体而言， 初始基准图案221的部分242被读出并写入到补偿基准图案223的部分243。
现在将参照图3至5详细描述根据本发明的一般构思的实施例形成基准 图案的方法。图3是形成图2所示的基准图案的方法300的流程图。
参照图2和3，确定初始基准图案221的边界点Pl是否处于盘的在最
外周的道231内侧的ID区域(操作315)。
在进行操作315之前，根据当前实施例的方法300可包括测量外周界限
233和初始基准图案221之间的间隙〈Gap 11> (操作310)。通过比较外周界
限233和最外周的道231之间的间隙〈Gap 12>和所测量的间隙〈Gap 11>来进
行操作315。
如果初始基准图案221的边界点Pl位于最外周的道231外侧且因此不在盘的ID区域，则方法300终止(操作335 )。
后面将参照图4B更详细地描述操作310和315。
如果初始基准图案221的边界点Pl位于盘的ID区域，则形成补偿基准图案223 (操作320 )。即，如果初始基准图案221如此短从而过程图案不延伸到最外周的道231 ，则形成补偿基准图案223 。
额外形成补偿基准图案223，使得包括初始基准图案221的最终基准图案向OD方向延伸。后面将参照图5更详细地描述操作320。
如果补偿基准图案223确定为延伸至最外周的道231，则方法300还可包括终止形成补偿基准图案223 (操作325 )。
在完成补偿基准图案223的形成后，方法300还可包括利用最终基准图案形成过程图案(搡作330)。最终基准图案指的是包括初始基准图案221和与初始基准图案221整体形成的额外的补偿基准图案223的整个基准图案201。后面将参照图6更详细地描述操作330。
图4A是说明图3所示的外周界限233的图。
图4A示出在图3的操作310中测量间隙〈Gap 11>所需的外周界限412。在HDD 400中，音圏马达(VCM) 442旋转致动器臂440使得安装到致动器臂440的头445可在盘410上方滑行。致动器臂440通过机械机构驱动从而在盘410之上移动，盘410在ID 414和OD 416之间具有预定半径。即，分别提供OD急停器451和ID急停器453从而防止致动器臂440移动超过盘410的OD 416和ID 414。
这里，外周界限412表示OD急停器451限制的最大距离，该处头445可沿OD 416的方向在盘410上移动。图4B是说明图3的方法300中的操作310和315的图。具体地，图4B详细示出图4A中的HDD 400的部分430。参照图4A和4B,使用FORST技术来测量外周界限412和初始基准图案之间的间隙。使用FORST技术，在驱动VCM 442以将头445朝向OD方向移动之后，通过4企测在外周界限412处产生的反电动势(back electromotiveforce, BEMF)来测量盘的道上的特定点之间的距离(间隙)。
更具体地，VCM 442开始从ID 414的点Pll被驱动。VCM 442以预定速度转动，使得头445能以恒定速度在盘410之上滑动。当头445到达初始基准图案的末端471即点P12时，测量头445从点Pll移动到点P12所花费的时间。利用头445^v点Pll移动到点P12的速度和时间，可得到点P11和P12之间的间隙(距离)。VCM442继续转动使得头445以恒定速度从点P12移动到外周界限412上的点P13。然后，测量头445从点P12移动到点P13所花费的时间。
当头445到达外周界限412时，OD急停器451防止VCM 442沿相同方向进一步转动，因而使VCM442沿反方向转动。当VCM442沿反方向转动时，VCM442产生反电动势。通过检测反电动势，外周界限412的位置得以检观'],且头445从点P12移动到外周界限412上的点P13所花费的时间得以测量。利用头445在点P12和P13之间移动所花费的时间以及头445的移动速度，得到点P12和P13之间的间隙(距离)。
如上所述，在VCM442以恒定速度转动时，FORST技术用来测量不同道上的两个点之间的距离。
由于外周界限和最外周的道之间的距离已根据盘的存储容量预先设置，所以仅需获得外周界限和初始基准图案之间的间隙以用于操作315中的比较，如图3所示。
图5是说明图3的方法300中的操作320的图。
参照图5，补偿基准图案在初始基准图案的边界点P1开始被写入。道n(n是自然数)表示与边界点Pl相邻的道。头520包括写头521和读头523。k个道设置在写头521和读头523之间。即，写头521和读头523之间的距离<dl 1>是一个道的宽度乘以道数k。
读头523读取初始基准图案510之后，写头521写入所读取的初始基准图案510从而沿OD方向形成补偿基准图案。
初始基准图案510开始被读取处的点Pl通过写头521和读头523之间的距离<dl 1>被确定。即，初始基准图案在沿ID方向与点Pl间隔开距离<dl 1>的点P2处开始被读取。因此，读头523读取写到第(n+k)道(道(n+k))的初始基准图案且然后写头521写所读取的图案至第n道(道(n))。
尽管图5示出补偿基准图案写入的第一道是道n，但第一道编号可由用户指定。如果第一道编号为n，则补偿基准图案被写入至编号为i的道(i是从n减小的自然数)。
道编号n可以基于初始基准图案的边界点Pl和最外周的道之间的道数来确定。即，利用通过参照图4B描述的FORST技术获得的间隙(距离)，可以得到它们之间的道数。这里假定一个道的宽度是给定的。
如果在初始基准图案的边界点Pl和最外周的道之间设置约2000个道，则编号n可设定为2000或更大。编号n也存储在盘的柱面(cylinder)中并作为格雷码(gray code)使用。
写头521和读头523之间的距离<(111>可利用本领域周知的头歪斜校准技术(head skew calibration technique )获得。图6是说明图3的方法300中的操作330的图。
虚线601和粗实线605分别表示盘的最外周的道和最外端。附图标记603表示盘的ID。
参照图6,补偿基准图案从点P1向外形成。在基准图案611被写入之后，通过复制基准图案611到将形成过程图案621的区域，过程图案621沿从OD到ID 603的方向纟皮写入。
根据本发明的一般构思的实施例的形成基准图案的方法通过根据初始基准图案的边界点是否处于盘的最外周的道的内侧来延伸初始基准图案，允许将缺陷基准图案补偿为有效基准图案。该方法还允许修改缺陷图案成为有效基准图案，由此防止丟弃盘驱动器，同时消除了在伺服复制设备内对缺陷基准图案进行ReSTW的需要。
尽管本发明的一般构思已经参照其优选实施例进行了具体示出和描述，本领域技术人员能够理解，在不脱离本发明的权利要求及其等价物所定义的发明构思的精神和范围的情况下可以进行形式和细节上的各种改变。优选实施例必须仅在说明的意义上考虑而不是用于限制目的。
本申请要求2008年2月4日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2008-0011090的权益，在此通过引用并入其全部内容。
权利要求
1. 一种形成基准图案的方法，该方法包括确定初始基准图案的边界点是否位于盘的内径区域，该内径区域在最外周的道的内侧；以及如果所述初始基准图案的边界点确定为位于所述盘的内径区域，则与所述初始基准图案整体地形成补偿基准图案，使得最终基准图案沿所述盘的外径方向延伸。
2. 如权利要求1所述的方法，还包括在确定所述初始基准图案的边界点是否位于所述盘的内径区域之前，测 量最外周界限与所述初始基准图案之间的间隙。
3. 如权利要求2所述的方法，其中在确定所述初始基准图案的边界点 是否位于所述盘的内径区域时，利用所述最外周界限与所述初始基准图案之 间的间隙来进行所述确定。
4. 如权利要求1所述的方法，还包括如果所述补偿基准图案延伸至所述最外周的道，则终止所述补偿基准图 案的形成。
5. 如权利要求1所述的方法，其中在形成所述补偿基准图案时，读头 读取所述初始基准图案且写头沿朝向所述盘的外径的方向在所述初始基准 图案的边界点外额外地写所读取的初始基准图案。
6. 如权利要求5所述的方法，其中在形成所述补偿基准图案时，所述 初始基准图案开始被读取的点通过所述写头和所述读头之间的距离来确定。
7. 如权利要求6所述的方法，其中在形成所述补偿基准图案时，所述 初始基准图案在这样的点开始被读取，所述点与所述初始基准图案的边界点 朝向所述盘的内径区域间隔开所述写头和所述读头之间的所述距离。
8. 如权利要求7所述的方法，其中形成所述补偿基准图案包括 指定与所述初始基准图案的边界点相邻的道为特定的道编号n， n为自然^t;以及形成所述补偿基准图案到道编号i， i是从n减小的自然数。
9. 如权利要求8所述的方法，其中所述特定的道编号n基于所述初始 基准图案的边界点与最外周的道之间的道的数目来确定。
10. 如权利要求9所述的方法，其中所述特定的道编号n设定为比所述 初始基准图案的边界点和所述最外周的道之间的道的数目更大的值。
11. 如权利要求8所述的方法，其中所述特定的道编号n是存储在所述 盘的柱面中的格雷码。
12. 如权利要求3所述的方法，其中在形成所述补偿基准图案时，所述 写头和所述读头之间的距离利用头歪斜校准来确定。
13. 如权利要求1所述的方法，其中在测量所述最外周界限和所述初始 基准图案之间的间隙时，利用FORST技术确定所述间隙。
14. 如权利要求13所述的方法，其中测量所述间隙包括在音圏马达 以恒定速度从盘的内径移到外径时，测量从所述初始基准图案的边界点移动 到产生反电动势的点所用的时间；以及利用所测量的时间和所述音圈马达移 动的恒定速度来测量所述最外周界限和所述初始基准图案之间的所述间隙。
15. 如权利要求1所述的方法，在形成所述补偿基准图案之后，还包括 通过复制所述最终基准图案来产生过程图案，其中所述最终基准图案包括所 述初始基准图案和与所述初始基准图案整体形成的所述补偿基准图案。
16. 如权利要求15所述的方法，其中产生所述过程图案包括沿从所述 盘的外径到内径的方向复制所述最终基准图案。
17. —种校正盘上的基准图案的方法，该方法包括 确定所述盘的初始基准图案的边界点；以及如果所述初始基准图案的边界点确定为短于所述盘上的预定位置，则与 所述初始基准图案整体地形成补偿基准图案，使得最终基准图案延伸到所述 盘上的所迷预定位置。
18. 如权利要求17所述的方法，其中确定所迷初始基准图案的边界点 包括从所述盘的内径处的点以预定速度横越所述盘驱动音圏马达至所述初 始基准图案的末端；以及测量驱动所述音圏马达的时间。
全文摘要
本发明涉及一种形成基准图案的方法。该方法包括确定初始基准图案的边界点是否位于盘的内径区域，该内径区域在最外周的道的内侧；以及如果所述初始基准图案的边界点确定为位于所述盘的内径区域，则与所述初始基准图案整体地形成补偿基准图案，使得最终基准图案沿所述盘的外径方向延伸。该方法通过根据初始基准图案的边界点是否处于盘的最外周的道的内侧来延伸初始基准图案，允许将缺陷基准图案补偿为有效基准图案。
文档编号G11B5/596GK101504838SQ20091000998
公开日2009年8月12日 申请日期2009年2月4日 优先权日2008年2月4日
发明者崔浩峻, 申浩澈 申请人:三星电子株式会社