本发明涉及铜线加工领域，特别涉及一种镀镍铜线。
背景技术：
铜线在国民生产中具有举足轻重的作用，由于其成本较金和银低，而且导电性能良好，被广泛用于制造电力、电信的传输电缆、电路板、集成电路引线框架、各种开关和整流器等部件。现有的镀镍铜线内部为纯铜线，在铜线的外表面镀镍，该种镀镍铜线抗老化和耐化学腐蚀性能较差，长期使用后会影响该镀镍铜线的导电性能。
技术实现要素：
本发明克服了现有技术中的不足，提供了一种镀镍铜线，以克服上述缺陷。
为了解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：一种镀镍铜线，包括铜芯，所述铜芯外部依次包括纳米二氧化硅层、镍合金层和耐腐蚀层。
作为优选方案，所述铜芯的直径为0.6~0.8mm。
作为优选方案，所述纳米二氧化硅层的厚度为1.5~2.5μm。
作为优选方案，所述镍合金层为镍铬合金或镍铜合金或镍钴合金中的一种。
作为优选方案，所述镍合金层的厚度为2~4μm。
作为优选方案，所述耐腐蚀层的厚度为1~2μm。
发明的有益效果是：本发明通过在镍合金层和铜芯之间添加了纳米二氧化硅层，并在镍合金层外部设有耐腐蚀层，能有效提高该镀镍铜线的抗老化和耐化学性能，保证该镀镍铜线在长期使用后仍具有较强的导电性能。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明作进一步详细描述：
实施例1
一种镀镍铜线，包括铜芯、纳米二氧化硅层和镍铬合金层，铜芯的直径为0.6mm，二氧化硅层的厚度为1.5μm，镍铬合金层的厚度为2μm，耐腐蚀层的厚度为1μm。
实施例2
一种镀镍铜线，包括铜芯、纳米二氧化硅层和镍铜合金层，铜芯的直径为0.7mm，二氧化硅层的厚度为2μm，镍铜合金层的厚度为3μm，耐腐蚀层的厚度为1.5μm。
实施例3
一种镀镍铜线，包括铜芯、纳米二氧化硅层和镍钴合金层，铜芯的直径为0.8mm，二氧化硅层的厚度为2.5μm，镍钴合金层的厚度为4μm，耐腐蚀层的厚度为2μm。
本发明未经描述的技术特征可以通过或采用现有技术实现，在此不再赘述，当然，上述具体实施方式并非是对本发明的限制，本发明也并不仅限于上述具体实施方式，本技术领域的普通技术人员在本发明的实质范围内所做出的变化、改型、添加或替换，也应落入本发明的保护范围内。