一种改进型刻蚀平台的制作方法

本实用新型涉及半导体真空设备技术领域，具体为一种改进型刻蚀平台。

背景技术：

当前信息技术及其相关产业正处在迅猛发展阶段，半导体技术作为支撑该行业发展的基础，有着无与伦比的重要地位，对于半导体技术，涉及镀膜、刻蚀等环节，真空制造设备是其中重要一环；在工艺过程中工作台为了传片需要，需要上下运动，长时间的工作，会导致工作台的使用寿命缩短，且工作台在运动时，会导致工作台上的工件滑落，造成损失。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种改进型刻蚀平，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种改进型刻蚀平台，包括上工作台和下工作台，上工作台的下方设置有下工作台，下工作台的顶部连接有多根竖向设置的立管，每根立管上均套设有第一弹簧，且第一弹簧设置在上工作台和下工作台之间，上工作台和下工作台上均设置有多个第二通孔，第二通孔内连接有螺杆，螺杆的底端连接有加固螺母，且加固螺母设置在下工作台的下方；上工作台的顶部两端均设置有立板，每块立板一侧均设置有电动推杆，每块立板另一侧均水平设置有移动杆，每根移动杆上均套设有第二弹簧，每根移动杆一端均连接有竖向设置的连接板，每块连接板一侧均水平设置有连接杆，每根连接杆一端均连接有竖向设置的夹紧板。

优选的，每根螺杆均贯穿上工作台和下工作台上的第二通孔设置，每根螺杆顶端均连接有限位螺母，且限位螺母设置在上工作台的上方。

优选的，立管的长度小于上工作台和下工作台的间距，且螺杆贯穿立管设置。

优选的，每块立板上均竖向设置有第一通孔，每个第一通孔内均设置有螺栓，上工作台上设置有多个螺孔，且螺栓的底端与螺孔相连接。

优选的，每块立板上均水平设置有第三通孔，电动推杆贯穿第三通孔的一端与移动杆的一端相连接，每个电动推杆均与外接控制电源相连接。

优选的，第二弹簧的一端与连接板的一侧相连接，第二弹簧的另一端与立板的一侧相连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：通过在上工作台和下工作台之间设置的第一弹簧，然后螺杆贯穿上工作台和下工作台设置，螺杆的两端连接加固螺母和限位螺母，能够实现上工作台和下工作台运动时不偏移，从而减少对半导体晶片划伤或者碎片；电动推杆的工作，带动移动杆移动，第二弹簧被压缩或者拉伸，带动连接杆和夹紧板进行移动，对上工作台上的半导体晶片进行夹紧，避免半导体晶片滑落。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图；

图2为本实用新型的整体俯视图；

图3为本实用新型的立板结构示意图。

图中：1、上工作台；2、下工作台；3、立管；4、第一弹簧；5、螺杆；6、加固螺母；7、立板；8、电动推杆；9、第二弹簧；10、连接板；11、连接杆；12、夹紧板；13、螺栓；14、螺孔；15、第一通孔；16、限位螺母；17、移动杆；18、第二通孔；19、第三通孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“竖直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种改进型刻蚀平台，包括上工作台1和下工作台2，上工作台1的下方设置有下工作台2，下工作台2的顶部连接有多根竖向设置的立管3，每根立管3上均套设有第一弹簧4，且第一弹簧4设置在上工作台1和下工作台2之间，上工作台1和下工作台2上均设置有多个第二通孔18，第二通孔18内连接有螺杆5，螺杆5的底端连接有加固螺母6，且加固螺母6设置在下工作台2的下方；上工作台1的顶部两端均设置有立板7，每块立板7一侧均设置有电动推杆8，每块立板7另一侧均水平设置有移动杆17，每根移动杆17上均套设有第二弹簧9，每根移动杆17一端均连接有竖向设置的连接板10，每块连接板10一侧均水平设置有连接杆11，每根连接杆11一端均连接有竖向设置的夹紧板12。

每根螺杆5均贯穿上工作台1和下工作台2上的第二通孔18设置，每根螺杆5顶端均连接有限位螺母16，且限位螺母16设置在上工作台1的上方。

立管3的长度小于上工作台1和下工作台2的间距，且螺杆5贯穿立管3设置。

每块立板7上均竖向设置有第一通孔15，每个第一通孔15内均设置有螺栓13，上工作台1上设置有多个螺孔14，且螺栓13的底端与螺孔14相连接。

每块立板7上均水平设置有第三通孔19，电动推杆8贯穿第三通孔19的一端与移动杆17的一端相连接，每个电动推杆8均与外接控制电源相连接。

第二弹簧9的一端与连接板10的一侧相连接，第二弹簧9的另一端与立板7的一侧相连接。

工作原理：使用时，螺杆5贯穿下工作台2上的第二通孔18后，再贯穿立管3后，穿过上工作台1上的第二通孔18，加固螺母6连接在螺杆5的底端，限位螺母16连接在螺杆5的顶部，螺栓13穿过立板7上的第一通孔15后，与上工作台1上的螺孔14相连接，将立板7安装在上工作台1上，电动推杆8通电后，带动移动杆17进行移动，带动连接板10移动，对第二弹簧9拉伸或者压缩，通过连接杆11带动夹紧板12进行移动，对上工作台1上的半导体晶片进行夹紧固定。

值得注意的是：电动推杆通过外接控制电源对其实现控制，由于外接控制电源匹配的设备为常用设备，属于现有成熟技术，在此不再赘述其电性连接关系以及具体的电路结构。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

技术特征：

1.一种改进型刻蚀平台，包括上工作台（1）和下工作台（2），其特征在于：上工作台（1）的下方设置有下工作台（2），下工作台（2）的顶部连接有多根竖向设置的立管（3），每根立管（3）上均套设有第一弹簧（4），且第一弹簧（4）设置在上工作台（1）和下工作台（2）之间，上工作台（1）和下工作台（2）上均设置有多个第二通孔（18），第二通孔（18）内连接有螺杆（5），螺杆（5）的底端连接有加固螺母（6），且加固螺母（6）设置在下工作台（2）的下方；上工作台（1）的顶部两端均设置有立板（7），每块立板（7）一侧均设置有电动推杆（8），每块立板（7）另一侧均水平设置有移动杆（17），每根移动杆（17）上均套设有第二弹簧（9），每根移动杆（17）一端均连接有竖向设置的连接板（10），每块连接板（10）一侧均水平设置有连接杆（11），每根连接杆（11）一端均连接有竖向设置的夹紧板（12）。

2.根据权利要求1所述的一种改进型刻蚀平台，其特征在于：每根螺杆（5）均贯穿上工作台（1）和下工作台（2）上的第二通孔（18）设置，每根螺杆（5）顶端均连接有限位螺母（16），且限位螺母（16）设置在上工作台（1）的上方。

3.根据权利要求1所述的一种改进型刻蚀平台，其特征在于：立管（3）的长度小于上工作台（1）和下工作台（2）的间距，且螺杆（5）贯穿立管（3）设置。

4.根据权利要求1所述的一种改进型刻蚀平台，其特征在于：每块立板（7）上均竖向设置有第一通孔（15），每个第一通孔（15）内均设置有螺栓（13），上工作台（1）上设置有多个螺孔（14），且螺栓（13）的底端与螺孔（14）相连接。

5.根据权利要求1所述的一种改进型刻蚀平台，其特征在于：每块立板（7）上均水平设置有第三通孔（19），电动推杆（8）贯穿第三通孔（19）的一端与移动杆（17）的一端相连接，每个电动推杆（8）均与外接控制电源相连接。

6.根据权利要求1所述的一种改进型刻蚀平台，其特征在于：第二弹簧（9）的一端与连接板（10）的一侧相连接，第二弹簧（9）的另一端与立板（7）的一侧相连接。

技术总结
本实用新型涉及半导体真空设备技术领域，具体公开了一种改进型刻蚀平台，包括上工作台和下工作台，上工作台的下方设置有下工作台，下工作台的顶部连接有多根竖向设置的立管，每根立管上均套设有第一弹簧，且第一弹簧设置在上工作台和下工作台之间，上工作台和下工作台上均设置有多个第二通孔，第二通孔内连接有螺杆，螺杆的底端连接有加固螺母，且加固螺母设置在下工作台的下方；上工作台的顶部两端均设置有立板，通过在上工作台和下工作台之间设置的第一弹簧，然后螺杆贯穿上工作台和下工作台设置，螺杆的两端连接加固螺母和限位螺母，能够实现上工作台和下工作台运动时不偏移，从而减少对半导体晶片划伤或者碎片。

技术研发人员：陈维国;孙晓光
受保护的技术使用者：亦亨电子(上海)有限公司
技术研发日：2021.02.02
技术公布日：2021.07.30