喇叭斜滑道多颗粒自动充磁装置的制作方法

文档序号:14991604发布日期:2018-07-20 22:20阅读:263来源:国知局

本实用新型涉及喇叭生产装置技术领域,特指一种喇叭斜滑道多颗粒自动充磁装置。



背景技术:

喇叭生产过程中,需要进行充磁,目前,生产企业都是采用两步法,即先由生产设备生产出喇叭产品,然后将产品拿到加长长方形衔铁充磁台进行充磁操作,生产效率低,而且搬运也不方便。

因此,基于上述现有的喇叭充磁技术的缺陷,需要对现有的喇叭充磁技术进行改进。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足提供一种喇叭斜滑道多颗粒自动充磁装置,该喇叭斜滑道多颗粒自动充磁装置解决了现有的喇叭充磁技术所存在的:生产效率低等缺陷。

为实现上述目的,本实用新型是通过以下技术方案实现的:喇叭斜滑道多颗粒自动充磁装置,包括倾斜滑入轨道、加长长方形衔铁充磁台,倾斜滑入轨道设置于加长长方形衔铁充磁台的上部,加长长方形衔铁充磁台上具有推料气缸、出料轨道,倾斜滑入轨道与出料轨道连通,推料气缸连接有出料凹槽滑块,出料凹槽滑块位于出料轨道内。

具体的,出料轨道的外端配设有漏料槽。

更具体的,倾斜滑入轨道上垂直安装有挡料汽缸,挡料汽缸的下端连接有挡料板,挡料板活动位于倾斜滑入轨道内。

进一步的,出料凹槽滑块的底面开设有凹槽,凹槽正对出料轨道,且凹槽的一端活动连通倾斜滑入轨道,凹槽与出料轨道的侧壁之间形成充磁空间。

更进一步的,凹槽的侧壁顶部成型弧形导角。

本实用新型的有益效果在于:产品能够通过倾斜滑入轨道直接滑入加长长方形衔铁充磁台表面的出料轨道内,充磁完成后由推料气缸驱动直接出料到漏料槽内,每次充磁还能自行设定充磁的数量。此装置操作简单,充磁性能及充磁强度稳定,每次工作充磁数量多且省电,生产效率高。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的出料凹槽滑块的结构示意图。

图3为本实用新型的加长长方形衔铁充磁台的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

见图1——图3,本实用新型喇叭斜滑道多颗粒自动充磁装置包括:倾斜滑入轨道1、加长长方形衔铁充磁台2、推料气缸3、出料轨道4、出料凹槽滑块5、漏料槽6、挡料汽缸7、传送带8、支架9、电机10、摆料汽缸11、凹槽12、弧形导角13。

本实用新型包括倾斜滑入轨道1、加长长方形衔铁充磁台2,倾斜滑入轨道1设置于加长长方形衔铁充磁台2的上部,加长长方形衔铁充磁台2也倾斜设置,加长长方形衔铁充磁台2上具有推料气缸3、出料轨道4,出料轨道4与倾斜滑入轨道1垂直,倾斜滑入轨道1与出料轨道4连通,推料气缸3连接有出料凹槽滑块5,出料凹槽滑块5位于出料轨道1内。出料轨道4的外端配设有漏料槽6。

本实用新型采用加长长方形衔铁充磁台2,可以一次对多个喇叭进行充磁。

本实用新型的加长长方形衔铁充磁台2内具有充磁组件,在此不作赘述。

本实用新型的倾斜滑入轨道1上垂直安装有挡料汽缸7,挡料汽缸7的下端连接有挡料板,挡料板活动位于倾斜滑入轨道1内。可以通过预设程序来控制下料的数量,也即一次充磁的喇叭数量。根据喇叭规格的大小不同,用电路控制按要求设定或改变,每次充磁的喇叭数量可以是4-52个。

本实用新型的倾斜滑入轨道1可以由两部分组成,一部分位于加长长方形衔铁充磁台2的上部,另一部分位于加长长方形衔铁充磁台3表面,这两部分的底面平齐。出料轨道4的底面与倾斜滑入轨道1的底面平齐。

本实用新型的出料凹槽滑块5的表面与出料轨道4的顶面平齐。

见图2,本实用新型的出料凹槽滑块5的底面开设有凹槽12,凹槽12正对出料轨道4,且凹槽12的一端活动连通倾斜滑入轨道1,凹槽12与出料轨道4的侧壁之间形成充磁空间。产品由倾斜滑入轨道1滑入凹槽12内,凹槽12的侧壁顶部成型弧形导角13。

出料凹槽滑块5位于出料轨道4的最内侧时,凹槽12与倾斜滑入轨道1正对连通,便于产品滑入。

出料凹槽滑块5可以采用透明板制作,可以看清充磁的产品。

本实用新型的倾斜滑入轨道1的表面安装有盖板,该盖板可以采用透明板制作。

本实用新型的工作原理如下,产品由倾斜滑入轨道1的顶端进入倾斜滑入轨道1,直到滑落到出料轨道4内,进入出料凹槽滑块5的凹槽12内,进行充磁时,后续的产品进行倾斜滑入轨道1,挡料汽缸7下移,阻挡产品下落,充磁完成后,推料气缸3将出料凹槽滑块5顶出,产品沿出料轨道4移动直到落入漏料槽6,推料气缸3拉动出料凹槽滑块5复位,挡料汽缸7复位,产品沿倾斜滑入轨道1滑落到出料轨道4内等待充磁。

本实用新型每次充磁还能自行设定充磁的数量。此装置操作简单,充磁性能及充磁强度稳定,每次工作充磁数量多且省电,生产效率高。

当然,以上所述之实施例,只是本实用新型的较佳实例而已,并非限制本实用新型实施范围,故凡依本实用新型申请专利范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均应包括于本实用新型申请专利范围内。

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