专利名称：曝光机的曝光方法
技术领域：
本发明有关一种曝光机的曝光方法，旨在提供一种可对曝光平台的特定区域进行 曝光作业，相对较不会产生聚热现象，以及可以降低设备体积及成本的曝光机，以及与其相 关的曝光方法。
背景技术：
按，一般印刷电路板或半导体晶片在进行曝光显影制程时，先在被加工物表面上 涂上一层光阻，再藉由光源的照射将原稿上的电路布线图案映像至被加工物表面的光阻层 上，以使光阻层的化学性质因光源的照射而产生变化，然后再利用去光阻剂将被光源照射 过的光阻或未经曝光的光阻自被加工物表面去除，以形成对应于原稿的线路布局。其中，用以执行曝光显影加工制程的曝光机基本结构如图1所示，主要具有一由 机壳11构成的曝光室12，以及设有一可相对进出曝光室12的曝光平台13，而且至少在该 曝光室12内部相对应于曝光平台13的上方或下方位置，设有一光源组14 ；请同时参照图 2所示，该曝光平台13为一供放置被加工物20与原稿(图略)的透明平台，整体曝光平台 13并藉由一组线性滑轨15进出曝光室12。该曝光平台13连同被加工物及原稿进入曝光室12至定位之后，一般必须在曝光 室12内部停留一段时间(约3 5秒不等)使被加工物接受光源组14的曝光光源照射， 待完成曝光之后再由曝光平台13将被加工物送出。由于，一般习用曝光机多采用曝光平台13停滞在曝光室12内部的方式进行曝光 作业，因此多在其光源组14设有大量采用数组配置方式的灯泡141，藉以形成涵盖整个曝 光平台13的平行光源；在大量灯泡141同时运作下，将使机壳11内部产生严重的聚热现 象，需另外用水冷统散热，致使设备成本偏高。另有一种习用曝光机透过复眼装置将灯泡的光线修正为所需的平行光及面积大 小，其动作方式乃让光源灯泡透过椭圆镜将光线利用一组第一反射镜投向复眼装置使其光 线均勻化，再利用一组第二反射镜将光线改变前进方向，最后利用一组凸透镜将光线修正 为所需的平行光及面积大小，进而投射出所须的曝光光源，并藉以减少灯泡的数量。如此的设计不但使整体曝光机的结构趋于复杂，且整体曝光机的体机亦相对更趋 庞大；再者，其同样采用涵盖整个曝光平台的曝光光源对被加工物进行曝光显影；然而，在 实际的曝光显影制程中，并非所有被加工物的曝光区域皆与曝光平台相当，亦即整个曝光 平台的某些区域并不需要被曝光光源照射，因此过度浪费许多不必要的加工成本。
发明内容
有鉴于此，本发明的主要目的即在提供一种可对曝光平台的特定区域进行曝光作 业，相对较不会产生聚热现象，以及可以降低设备体积及成本的曝光机，以及与其相关的曝 光方法。为达上揭目的，本发明的曝光机具有一曝光平台供承载被加工物及原稿，另于曝光平台上方处设有至少一光源组用以产生朝向曝光平台照射曝光光源，该光源组并可依照 预设的路径位移。于实施时，曝光平台的两个相对应侧分别设有一第一线性滑轨，另有至少一第二 线性滑轨跨设于两个第一线性滑轨之间，该光源组即配设于该至少一第二线性滑轨上；以 及，设有一第一驱动组件用以带动第二线性滑轨沿着第一线性滑轨位移，设有第二驱动组 件用以带动光源组沿着所属第二线性滑轨位移。透过光源组沿着所属第二滑轨位移，以及 第二线性滑轨沿着第一线性滑轨位移的方式，让曝光光源到达曝光平台的预定区域，而对 曝光平台上的被加工物进行曝光显影。具体而言，本发明具有下列功效1.用以产生曝光效果的光源可以为单点光源，而非涵盖整个曝光平台的大面积 光源，故可大幅减少光源组的灯泡数量，相对缩减整体曝光机的体积，以及相对降低设备成 本。2.所使用的控制电路可在曝光光源到达预定行程时，再行调升光源组的功率，故 可相对降低整体曝光机的聚热现象。3.整体曝光机，可配合被加工物的规格变动，而适时调整光源组的行程设定，可大 幅提升曝光机的适用性及实用性。4.光源组仅通过曝光平台需要被曝光光源照射的区域，因此不会浪费不必要的加 工成本。
图1为一习用曝光机的结构剖视图2为一习用曝光机的曝光平台外观立体图3为本发明第--实施例的曝光机外观立体图
图4为本发明第--实施例的曝光机侧面结构图
图5为本发明第--实施例的曝光机动作示意图
图6为本发明第二二实施例的曝光机动作示意图
图7为本发明第二二实施例的曝光机结构示意图
图8为本发明光源组的结构示意图9为本发明第三三实施例的曝光机外观立体图
图10为本发明第四实施例的曝光机外观立体图
图11为本发明第四实施例的曝光机动作示意图
图号说明
11机壳12曝光室
13曝光平台14光源组
141灯泡15线性滑轨
20被加工物30曝光平台
31支撑部32透空部
41第一线性滑轨42第二线性滑轨
43第三线性滑轨50光源组
51灯泡61第一驱动组件62第二驱动组件 70断电开关
具体实施例方式本发明旨在提供一种可对曝光平台的特定区域进行曝光作业，相对较不会产生聚 热现象，以及可以降低设备体积及成本的曝光机，以及与其相关的曝光方法；其曝光方法首 先在一供承载被加工物及原稿的曝光平台上方处，设有至少一光源组用以产生朝向该曝光 平台照射曝光光源，再以该光源组依照预设路径位移的方式，让曝光光源到达该曝光平台 的预定区域，而对该曝光平台上的被加工物进行曝光显影。如图3及图4所示，本发明的曝光机包括有一曝光平台30、两个第一线性滑轨 41、至少一第二线性滑轨42、至少一光源组50、至少一第一驱动组件61、至少一第二驱动组 件62，以及一控制电路(图略)；其中该曝光平台30，供承载被加工物及原稿；该两个第一线性滑轨41呈平行状态分别 配设在该曝光平台30的两个相对应侧；该至少一第二线性滑轨42横跨于该两个第一线性 滑轨41之间；该至少一光源组50设于该至少一第二线性滑轨42上，各光源组50具有单一 光源51 (可以为灯泡或发光二极管)用以产生朝向该曝光平台30照射的曝光光源，该光源 组50亦可以具有至少一光源51，如图8所示，由复数光源51来形成照射效果。该至少一第一驱动组件61用以带动该第二线性滑轨42沿着该第一线性滑轨41 位移；该至少一第二驱动组件62则用以带动各光源组50沿着所属的第二线性滑轨42位 移，如图5所示，整体曝光机即可透过所使用的控制电路设定该至少一第二线性滑轨42与 该至少一光源组50的移动行程与移动速度。至于，该控制电路供透过所使用的控制电路设定该至少一第二线性滑轨42与该 至少一光源组50的移动行程与移动速度，以及可供设定该光源组50的功率，使得以在曝光 光源到达预定行程时，再行调升光源组的功率；若整体曝光机设有复数光源组50时，如图7 所示，该控制电路亦可控制各第二线性滑轨42上各光源组50间的间距a，以及各光源组50 上光源51的角度，以使整体曝光机不局限于特定尺寸的工作平台。本发明的曝光机于使用时，将被加工物20及原稿固定在该曝光平台30上(或是 藉由其它输送装置将被加工物及原稿运送到达该曝光平台的定点处)，再透过光源组50沿 着所属第二滑轨42位移，以及第二线性滑轨42沿着第一线性滑轨位移41的方式，让光源 组50所产生的曝光光源确时到达曝光平台30的预定区域，进而对该曝光平台30上的被加 工物20进行曝光显影。如图6所示本发明在具体实施时，可在该两个第一线性滑轨41的间设有复数组第 二线性滑轨42及光源组50，以及设有复数组用以个别带动各第二线性滑轨42及各光源组 50位移的第一、第二驱动组件61、62，在复数组第二线性滑轨42及光源组50的分工作业 下，可缩短被加工物20进行曝光显影的时间，或是同时对复数个被加工物进行曝光显影。再者，整体曝光机至少在其中一个第一线性滑轨41两端，以及在各第二线性滑轨 42两端设有断电开关70，用以限制各第二线性滑轨42以及各光源组50超出安全范围，避 免相关构件因为遭受第二线性滑轨42或光源组50撞击而毁损。如图9所示为本发明的另一实施例，其同样设有一曝光平台30、两个第一线性滑
5轨41、至少一第二线性滑轨42、至少一光源组50、至少一第一驱动组件61，以及至少一第二 驱动组件62，而该第二线性滑轨42上装设有一第三线性滑轨43，而该至少一光源组50则 设置于该第三线性滑轨43上，使该至少一光源组50可由该第一线性滑轨41进行第一方向 (X方向)的动作，由第二线性滑轨42进行第二方向(Y方向)的动作，而由第三线性滑轨 43进行第三方向(Z方向)的动作，且其中该曝光平台30可如图所示为单一平面的形式，亦 可以如图10所示，该曝光平台30设有复数支撑部31以及透空部32，该支撑部31设于靠近 第一线性滑轨41用以设置被加工物20，而该透光部32则设于二第一线性滑轨41间，各支 撑部31及透空部32上下排列，使上下的各支撑部31得以分别设置多个被加工物20，且当 其中一被加工物20完成加工输出时，如图11所示的实施例中，该上方的被加工物20输出 后，该光源组50则藉由第三线性滑轨43往下移动至下层被加工物20处进行加工，以大幅 增加工作效率。具体而言，本发明用以产生曝光效果的光源可以为单点光源，而非涵盖整个曝光 平台的大面积光源，故可大幅减少光源组的灯泡数量，相对缩减整体曝光机的体积，以及相 对降低设备成本；而且所使用的控制电路可在曝光光源到达预定行程时，再行调升光源组 的功率，故可相对降低整体曝光机的聚热现象。尤其，整体曝光机，可配合被加工物的规格变动，而适时调整光源组的行程设定， 可大幅提升曝光机的适用性及实用性；加上光源组仅通过曝光平台需要被曝光光源照射的 区域，因此不会浪费不必要的加工成本。综上所述，本发明提供一较佳可行的曝光机以及与其相关的曝光方法，爰依法提 呈发明专利的申请；本发明的技术内容及技术特点巳揭示如上，然而熟悉本项技术的人士 仍可能基于本发明的揭示而作各种不背离本案发明精神的替换及修饰。因此，本发明的保 护范围应不限于实施例所揭示者，而应包括各种不背离本发明的替换及修饰，并为以下的 申请专利范围所涵盖。
权利要求
一种曝光机的曝光方法，其特征在于，在一供承载被加工物及原稿的曝光平台上方处，设有至少一光源组用以产生朝向该曝光平台照射曝光光源，再以该光源组依照预设路径位移的方式，让曝光光源到达该曝光平台的预定区域，而对该曝光平台上的被加工物进行曝光显影。
2.如权利要求1所述曝光机的曝光方法，其特征在于，在曝光光源到达预定行程时，再 行调升光源组的功率。
3.如权利要求1所述曝光机的曝光方法，其特征在于，该光源组藉由两个第一线性滑 轨以及至少一第二线性滑轨于预设路径进行位移。
4.如权利要求3所述曝光机的曝光方法，其特征在于，两第一线性滑轨呈平行状态分 别配设在该曝光平台的两个相对应侧，而该第二线性滑轨则横跨于该两个第一线性滑轨之 间，该光源组则设于该第二线性滑轨上。
5.如权利要求3或4所述曝光机的曝光方法，其特征在于，该第二线性滑轨由至少一第 一驱动组件带动，使该第二线性滑轨沿着该第一线性滑轨位移。
6.如权利要求3或4所述曝光机的曝光方法，其特征在于，该各光源组由至少一第二驱 动组件带动，使各光源组沿着所属的第二线性滑轨位移。
7.如权利要求3或4所述曝光机的曝光方法，其特征在于，进一步利用一控制电路，以 设定该至少一第二线性滑轨与该至少一光源组的移动行程与移动速度。
8.如权利要求3或4所述曝光机的曝光方法，其特征在于，至少在其中一个第一线性滑 轨两端，以及在各第二线性滑轨两端设有断电开关。
9.如权利要求3或4所述曝光机的曝光方法，其特征在于，该第二线性滑轨上装设有一 第三线性滑轨，而该至少一光源组则设置于该第三线性滑轨上。
10.如权利要求9所述的曝光机的曝光方法，其特征在于，该至少一光源组由该第一线 性滑轨进行X方向的动作，由第二线性滑轨进行Y方向的动作，而由第三线性滑轨进行Z方 向的动作。
全文摘要
本发明曝光机的曝光方法，曝光机具有一曝光平台供承载被加工物及原稿，另于曝光平台上方处设有至少一光源组用以产生朝向曝光平台照射曝光光源，再以该光源组依照预设路径位移的方式，让曝光光源到达曝光平台的预定区域，而对曝光平台上的被加工物进行曝光显影；俾可大幅减少灯泡数量，相对缩减整体曝光机的体积，降低设备成本，以及降低曝光机的聚热现象；尤其，光源组仅通过曝光平台需要被曝光光源照射的区域，因此不会浪费不必要的加工成本。
文档编号H05K3/00GK101937173SQ20091014871
公开日2011年1月5日 申请日期2009年6月30日 优先权日2009年6月30日
发明者徐福润 申请人:景兴精密机械有限公司