专利名称：用于加热放置于灶台上的烹调容器的灶台及方法
技术领域：
本发明涉及一种用于加热放置于灶台上的烹调容器(如锅、平底锅等)的灶台，其优选具有用于检测烹调容器在灶台上的位置的装置，并且本发明还涉及灶台的操作方法。
背景技术：
现有技术中公知自动地确定物体在加热板上的位置。因此，W097/19298公开了在用于烹调容器的加热区放置板下方将加热元件(如电感线圈)分布为矩阵结构。其中建议确定烹调容器在加热区上的位置并且根据该位置确定执行控制。EP 1 206 164B1和DE 603 08704T2公开了用于灶台上烹调容器的该类型的进一步开发的方案。但是，上述类型的位置确定迄今还没有被实现，从而存在对使得能够简化地确定灶台上烹调容器的位置并且在可能的情况下还使得能够对灶台上的烹调容器加热的灶台的需求。此外还存在对简化烹调容器本身的加热的需求。
发明内容
本发明的任务在于解决这些各种问题，单独地或组合地。根据本发明，通过权利要求1的主题实现该任务。还提供了权利要求11的方法以及根据权利要求14的用途。因此，本发明提供了一种灶台，用于加热在该灶台上放置于放置板上的烹调容器 (如锅、平底锅等)，该灶台优选具有用于检测烹调容器在放置板上的位置的装置，其中灶台具有用于生成光束的辐射源，其是能移动的或者其光束能被能移动的偏转装置偏转来穿过放置板的背对烹调容器的一侧偏转到放置板的面对烹调容器的一侧上，并且 /或者检测装置具有传感器装置，用于检测被烹调容器和/或被放置板反射的光束的反射图像。根据该请求的思想，灶台具有辐射源，用于生成光束，该辐射源是能能移动的或者其光束能被能移动的偏转装置偏转到对于该光波长而言是透明的放置板的面对烹调容器的一侧上。光束正好聚焦到放置板的面向烹调容器的面上，并且按照模式(khema)在烹调容器的位于该面中的底面面积内行进。由此可以使用仅仅一个辐射源的光来按照预给定的模式或者按照各自根据情形或烹调任务而确定的模式交替地还加热放置板上的多个烹调容器。这是经济且简单的。补充地，有意义和特别有利的是，检测装置具有传感器装置，用于检测被烹调容器底面或者被放置板反射的光束的反射图像。特别有利的是，烹调容器在放置板上能在预定的有限表面区域中自由放置，因为在该情形中必需确定这一个或多个烹调容器在放置板上的准确位置，从而光束准确地对准透明的或本身能被光加热的放置板的上表面的放置有烹调容器的区域。在这种情况下又有利的是传感器装置连接到控制装置，控制装置根据传感器信号确定烹调容器的位置并且根据该确定控制辐射源和/或偏转装置，使得所产生的光束对准根据位置确定结果烹调容器所位于的表面区域上。当然也可以只放置一个烹调容器在灶台上，该烹调容器的位置被确定并且该烹调容器被加热。但是特别有利的是利用传感器装置确定放置板上多个烹调容器的位置，并且利用辐射源加热这多个烹调容器。在这种情况下特别有利地，通过对辐射源或者片状装置的适当控制，辐射源的光束依次在时间上错开地交替地(优选根据模式周期性重复地)对准不同的烹调容器。本发明还涉及一种烹调设备，尤其是灶，具有根据前面请求之一的灶台。本发明还提供了激光器的一种用途，用于加热放置在烹调设备的灶台的放置板上的一个或多个烹调容器。激光器用于该目的的用途迄今还没有被考虑到，尽管其基于以下事实，即其被构造为产生具有高能量的准确定向的光束，特别好地适合于对灶台上烹调容器加热的任务。从属权利要求给出了本发明的有利实施方式
以下参考附图借助于实施例详细介绍本发明。在附图中图1示出了具有灶台以及在第一位置处设置在该灶台上的烹调容器的第一烹调设备的示意性的部分剖面图，图2示出了具有灶台以及在一位置处设置在该灶台上的烹调容器的一种烹调设备的示意性的部分剖面图，图3至6示出了灶台的不同示意性俯视图，图7和8示出了具有灶台的灶的另一部分剖面图。
具体实施例方式图1示出了具有壳体2的烹调设备1，该烹调设备包括具有放置板4的灶台3和具有操作面6的操作单元5。图2示出了另一实施例，其中操作面集成到放置板4中。烹调容器7放置在灶台上。该烹调容器7或者在可能的情况下甚至多个烹调容器 7在限定的烹调面区域G内能任意地放置在灶台3上(参见图3至6的不同布局以及图1 和2中锅7的不同位置)。能利用检测装置8确定该至少一个烹调容器7在灶台上的位置。通过检测装置8还可以手动地预先确定所希望的烹调容器位置。该检测装置8被构造为传感器装置，尤其被构造为数字摄像机，其被设计为检测被放置板4的底面9反射的电磁辐射并且利用具有微处理器的计算单元10分析所检测到的图像以便根据所确定的值确定烹调容器7在放置板4上的位置。然后根据该位置确定，借助于辐射源11所产生的电磁辐射针对性地对准到放置板的上侧面的烹调容器7所位于的区域上。
放置板的材料和/或结构被选择为使得辐射可以几乎不受阻碍地穿过并且在上侧面处几乎没有能量损失地到达烹调容器底面。例如对于相应使用的辐射波长透明的玻璃或玻璃陶瓷适合于作为放置板的材料。为了将射线对准到放置板4上侧面的平面中烹调容器底面上，可以使用反射器和 /或聚焦装置，在这里是镜面12，其以能移动的方式设置在放置板下方并且其位置例如借助于能控制的伺服电机是能改变的，以便将从辐射源11对准镜面12的光有针对性地偏转到烹调面G的相应要加热的区域中，其中根据位置确定结果，烹调容器7位于该区域上。显然，代替一个较大的能在空间上(例如绕两个相互垂直的旋转轴)调节的镜面， 也可以在放置板4的下方放置多个小的能各自控制的镜面，以便能够与利用仅仅一个镜面可能实现的相比更针对性地并且更准确地使辐射对准。能想到借助于测试射线首先按照预给定的模式“行经(abfahren)，，放置板4的表面，以便在启动烹调过程之前确定该一个或多个烹调容器7在放置板4上的位置。为此还能想到烹调面G在其底面(即背离烹调容器底面的侧面)上配备有能被测试辐射激活的层，以便使烹调容器的位置可见。在放置烹调容器之后可以开始实际的烹调过程。在该烹调过程期间，可以例如以预给定的间隔重复位置确定，以便确定烹调容器7 (参见图1和2、是否可能已经被移动。图3说明本发明显然还适合于非圆柱形的烹调容器，而是也适合于稍带长形的 (langlich )锅7等，如其为不同烹调物所使用的那样。其还能自由地放置在烹调面上并且在烹调过程期间也能移动(参见图3和4)。显然，上述的位置确定和烹调容器加热的方法不限于单个烹调容器。而是可以在对烹调面区域“扫描”时确定多个烹调容器7 (参见图5)的位置。可以利用多个辐射源9和多个镜面12加热多个烹调容器7，或者一个辐射源例如周期性地对准不同的烹调容器7，即镜面12针对不同烹调容器7被不同地设置。其中显然优选地，光束在跳至下一烹调容器面时被中断。当烹调容器从放置板4 取走时也立即进行中断。激光器尤其适于作为辐射源9，一方面因为其精确指向的光束使得能够实现特别准确的位置确定，并且另一方面因为在挑选相应构造的激光器的情况下激光束适于引入足够高的能量以便加热烹调容器7。如果多个烹调容器7位于放置板/烹调面上，则能想到根据控制程序将激光束交替地偏转到不同的烹调容器上，其中可以根据任务类型(例如对小烹调容器的内含物稍微加热或者对更大烹调容器的内含物加热)对能量引入进行控制。补充地，为此可以设置温度传感器，以便控制烹调过程。通过使用激光源可以实现对加热/烹调过程非常精确的节能的控制。因此能想到脉冲式的能量供应/照射，或者甚至以不同强度在烹调容器的不同区域中照射烹调容器， 以便例如与烹调容器的一半相比对另一半更强地加热。代替激光射线，也可以想到使用其他高能的且能良好聚焦的辐射源。因此可以使用红外辐射源。甚至能考虑使用太阳光。图7还表示也能考虑使用灶台的辐射源的激光束的光来加热在烤箱中的烹调物， 烤箱应当用于加热食品并且设置在另一位置(例如所示烹调设备下面。其也可以结合能旋转的盘14上的微波辐射来进行。图8示出了在单独的烹调设备/拷箱13中借助于传播的辐射加热和煨煮食品的应用。为了清楚，在图7和8中没有示出与镜面12的烹调空间隔离，因为显然镜面不应被施加以蒸汽或油脂喷溅。总之，本发明还提供了一种用于使用传播的能量束来在灶台板上烹制食物的设备和方法，其中可以非常灵活地通过辐射源同时以不同强度加热多个烹调用具/烹调容器。烹调过程可以根据烹调过程自动地被监视和控制。其中，通过在可能的情况下非常快速地切断或脉冲控制能量束还可以实现节能效果。图5还表明在操作区(例如触摸屏)上可以根据菜单类型插入窗口和开关，利用其可以输入烹调参数，如温度和/或时间，其中控制装置获得这些值作为输入。灶台可以与计算机网络连接，其中在可能的情况下还能实现因特网和/或移动无线监视。要说明的是，不同部件(如摄像机8和/或激光器9和/或镜面12和/或控制装置)可以无线地或者经由缆线相互连接。附图标记
1烹调设备
2壳体
3灶台
4放置板
5操作单元
6操作面
7烹调容器
8检测装置
9底面
10计算单元
11辐射源
12镜面
13烤箱
14盘
G烹调面区域
权利要求
1.一种灶台，用于加热能在预给定的平面区域中在放置板(4)上放置在所述灶台上的一个或多个烹调容器(7)，所述烹调容器例如是锅、平底锅等，所述灶台优选具有检测装置(8)，用于检测至少一个烹调容器(7)在所述灶台上的位置，其特征在于，所述灶台具有辐射源(9)，用于产生光束，所述辐射源是能移动的或者所述辐射源的光束能通过能移动的偏转装置(1 偏转到所述放置板(4)的背离烹调容器的侧面上，和/或所述检测装置具有传感器装置(8)，用于检测被所述放置板(4)反射的光束的反射图像。
2.如权利要求1所述的灶台，其特征在于，所述烹调容器(7)能自由地放置在所述平面区域(G)内。
3.如权利要求1或2所述的灶台，其特征在于，所述辐射源(9)是激光器。
4.如权利要求1或2所述的灶台，其特征在于，所述辐射源是红外光源。
5.如前述权利要求之一所述的灶台，其特征在于，所述传感器装置(8)是摄像机。
6.如权利要求5所述的灶台，其特征在于，所述传感器装置(8)是数字摄像机。
7.如前述权利要求之一所述的灶台，其特征在于，所述传感器装置(8)连接到控制装置，所述控制装置根据传感器信号确定所述烹调容器(7)的位置并且根据确定结果控制所述辐射源(9)和/或所述偏转装置(12)，使得所产生的光束对准所述烹调容器所位于的平面区域。
8.如前述权利要求之一所述的灶台，其特征在于，利用所述传感器装置(8)能确定所述放置板上多个烹调容器的位置，并且利用所述辐射源(9)能交替地加热这多个烹调容ο
9.如前述权利要求之一所述的灶台，其特征在于，所述辐射源的光束还能偏转到烤箱中的烹调物上，所述烤箱设置在所述灶台下面或者所述灶台旁边。
10.一种烹调设备，具有如前述权利要求之一所述的灶台。
11.一种用于控制和/或调节如前述权利要求之一所述的灶台的方法，其特征在于，利用传感器装置(9)确定所述灶台上烹调容器(7)的位置，和/或利用辐射源(9)加热所述灶台上的一个烹调容器或根据预给定的模式交替地加热所述灶台上的多个烹调容器，所述辐射源尤其是激光器。
12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述辐射源的光束用于加热烹调容器并且用于确定烹调容器在所述灶台上的位置。
13.如权利要求11或12所述的方法，其特征在于，能够在没有放置烹调容器的情况下手动地在放置面(4)上在平面区域(G)内预先确定烹调容器(7)的位置。
14.激光器的一种用途，用于加热放置在烹调设备的至少一个灶台的放置板上的一个或多个烹调容器(7)。
全文摘要
一种灶台用于加热能在预给定的平面区域中在放置板(4)上放置在灶台上的一个或多个烹调容器(7)，如锅、平底锅等，灶台优选具有用于检测至少一个烹调容器(7)在灶台上的位置的检测装置(8)，其特征在于，灶台具有辐射源(9)用于产生光束，辐射源是能移动的或辐射源的光束能通过能移动的偏转装置(12)偏转到放置板(4)的背离烹调容器的侧面上，和/或检测装置具有传感器装置(8)用于检测被放置板(4)反射的光束的反射图像。
文档编号H05B3/74GK102422709SQ201080020290
公开日2012年4月18日 申请日期2010年4月26日 优先权日2009年5月9日
发明者H·通舍尔, R·米特尔蒂斯 申请人:海蒂诗控股有限公司及两合公司