一种柔光瓷砖的制作方法

文档序号:8957532阅读:795来源:国知局
一种柔光瓷砖的制作方法
【专利说明】
[0001]
技术领域: 本发明涉及一种瓷砖。
[0002]
【背景技术】: 目前市场上常规的柔光瓷砖是由一种透明的水晶粒子通过喷、撒、甩等工艺,使粒子自 然地附着在瓷砖表面,经过高温烧制后,使产品表面上形成硬度为莫氏5-6级的保护层,使 产品耐磨性极佳、抗污力强,产品饰面闪闪生辉。
[0003] 现有的柔光瓷砖,又称柔光雅面瓷砖,其制造工艺主要有以下几种:一是通过喷釉 柜或甩釉柜以湿式方式把透明的水晶粒子均匀平铺在陶瓷砖表面上,其优点是与坯体的结 合性好,缺点是干粒流动性差,易堵喷枪眼,生产不好控制,平整度较差,硬度较低;二是通 过淋釉柜以湿式方式把透明的水晶粒子均匀平铺在陶瓷砖表面上,优点是烧制成的瓷砖平 整度较好,缺点是硬度较低,干粒流动性差,易沉淀,生产不好控制;三是把干粒制成花釉通 过丝网印花机以印花的方式印在砖面上,虽然,其优点是干粒分布均匀,硬度高,平整度较 好,但是,由于花釉是釉与水晶粒子混合而成的,受花釉自身的性质所决定,其缺点是网版 破损率大,成本高。
[0004] 现有的制造工艺存在不同的缺陷,导致柔光瓷砖的成品率较低,生成成本高,且硬 度较低以及平整度较差。
[0005]

【发明内容】
: 本发明的发明目的在于提供一种成品率较高,生成成本低,且硬度较高以及平整度较 好的柔光瓷砖。
[0006] 本发明柔光瓷砖是采用以下方法实现的,包括在坯体上布施面釉,在布施面釉后 通过丝网印花机印制特殊干粒釉,烧制成瓷砖后,经柔抛处理得到柔光效果陶瓷砖,其中干 粒釉包括重量份为100的水晶粒子、重量份为50-80的溶剂。由于先施面釉,再丝网印刷 干粒釉,而干粒釉采用溶剂的方式,使干粒釉既能均匀地布设在面釉上,同时,又不会损伤 丝网,印刷后,水晶粒子有效地渗入进面釉内,使最终产品硬度高,平整度较好。
[0007] 溶剂包括乙二醇和水。
[0008] 这里,丝网为70- 90目全通网,这样,既能使干粒釉均匀地布设在面釉上,同时, 又不容易损伤丝网。
[0009] 水晶粒子的粒径在250-325目之间。采用适当的粒度,既使干粒釉均匀地布设在 面釉上,同时,又不容易损伤丝网。
[0010] 为了使水晶粒子快速地渗入面釉,面釉包括成釉900-1100重量份、硅酸锆90-110 重量份、增稠剂I. 1_1. 5重量份、二聚磷酸钠1. 0-1. 3重量份、腐植酸钠1_3重量份。
[0011] 釉浆细度为300g釉浆过325目筛后,筛余为0. 8~I. 6g。
[0012] 本发明与要研究生下部,由于采用先施面釉,再丝网印刷干粒釉,因此,具有成品 率较高,生成成本低,且硬度较高以及平整度较好的优点。
[0013]
【具体实施方式】: 现结合实施例对本发明做进一步详细描述: 包括在坯体上布施面釉,在布施面釉后通过丝网印花机印制特殊干粒釉,烧制成瓷砖 后,经柔抛处理得到柔光效果陶瓷砖,其中干粒釉包括水晶粒子、溶剂。
[0014] 溶剂包括重量含量为15-25乙二醇和重量含量为30-45的水。
[0015] 丝网为70- 90目全通网。
[0016] 水晶粒子的粒径在250-325目之间。
[0017] 面釉包括成釉、硅酸锆、CH9羧甲基纤维素钠(增稠剂)、三聚磷酸钠、腐植酸钠。
[0018] 釉浆细度为300g釉浆过325目筛后,筛余为0. 8~I. 6g。
【主权项】
1. 一种柔光瓷砖,其特征在于柔光瓷砖是采用以下方法制成的,包括在坯体上布施面 釉,在布施面釉后通过丝网印花机印制特殊干粒釉,烧制成瓷砖后,经柔抛处理得到柔光效 果陶瓷砖,其中干粒釉包括重量份为100的水晶粒子、重量份为50- 80的溶剂。2. 根据权利要求1所述的柔光瓷砖,其特征在于丝网为70- 90目全通网。3. 根据权利要求1或2所述的柔光瓷砖,其特征在于水晶粒子的粒径在250-325目之 间,溶剂包括重量含量为15-25乙二醇和重量含量为30-45的水。4. 根据权利要求1或2所述的柔光瓷砖,其特征在于面釉包括成釉900-1100重量份、 硅酸锆90-110重量份、增稠剂1. 1-1. 5重量份、三聚磷酸钠1. 0-1. 3重量份、腐植酸钠1-3 重量份。5. 根据权利要求4所述的柔光瓷砖,其特征在于釉浆细度为300g釉浆过325目筛后, 筛余为〇· 8~I. 6g。6. 根据权利要求3所述的柔光瓷砖,其特征在于面釉包括成釉900-1100重量份、硅酸 锆90-110重量份、增稠剂1. 1-1. 5重量份、三聚磷酸钠1. 0-1. 3重量份、腐植酸钠1-3重量 份。7. 根据权利要求6所述的柔光瓷砖,其特征在于釉浆细度为300g釉浆过325目筛后, 筛余为〇· 8~I. 6g。8. 根据权利要求1或2或5或7所述的柔光瓷砖,其特征在于抛光采用多组磨头进行, 磨头参数如下:〇9. 根据权利要求3所述的柔光瓷砖,其特征在于抛光采用多组磨头进行,磨头参数如 下:〇10. 根据权利要求4所述的柔光瓷砖,其特征在于抛光采用多组磨头进行,磨头参数如 下:
【专利摘要】<b>一种柔光瓷砖</b>,其特征在于<b>柔光瓷砖是采用以下方法制成的,</b>包括在坯体上布施面釉,在布施面釉后通过丝网印花机印制特殊干粒釉,烧制成瓷砖后,经柔抛处理得到柔光效果陶瓷砖,其中干粒釉包括重量份为100的水晶粒子、重量份为?50—80的溶剂。本发明与已有技术相比,具有成品率较高,生成成本低,且硬度较高以及平整度较好的优点。
【IPC分类】C03C8/14, C04B41/86
【公开号】CN105175021
【申请号】
【发明人】林家生, 刘汉津, 梁瑞平, 石颍, 王杏达, 李宣营, 田剑兴, 梁勇海, 钟玉纯, 吴建洲, 陆月星, 朱岸权, 吴云平, 黄金保
【申请人】广东博华陶瓷有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年8月27日
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1