版遮挡一部分曝光区域
[0068]本实施例中，以正性光刻胶示例，首先，在基片2表面旋涂一层光刻胶3，如图8所示;使用第一掩膜版4进行正常的对准，在对准完成后，将所述适于接触式光刻机的分区域曝光装置I放置在对应的位置遮挡不需要曝光的区域，如图9所示;遮挡完毕后进行正常紫外光6曝光工艺，如图10所示;最后，显影即可得到光刻图形，如图11所示。
[0069]实施例二，同一块掩膜版遮挡不同区域曝光
[0070]本实施例中，以正性光刻胶示例，首先，在基片2表面旋涂一层光刻胶3，如图12所示;使用第一掩膜版4进行正常的对准，在对准完成后，将所述适于接触式光刻机的分区域曝光装置I放置在对应的位置遮挡不同的不需要曝光区域，如图13所示;遮挡完毕后进行正常紫外光6曝光工艺，如图14所示;最后，显影即可得到光刻图形，如图15所示。
[0071]实施例三，不同掩膜版在同一片基片上曝光
[0072]本实施例中，以正性光刻胶示例，首先，在基片2表面旋涂一层光刻胶3，如图16所示;使用第一掩膜版4进行正常的对准，在对准完成后，将所述适于接触式光刻机的分区域曝光装置I放置在对应的位置遮挡不需要曝光的区域，如图17所示;遮挡完毕后进行正常紫外光曝光工艺，如图18及图19所示;曝光结束后将所述第一掩膜版4更换为第二掩膜版5进行正常的对准，对准完成后，将所述适于接触式光刻机的分区域曝光装置I放置在对应的位置遮挡不需要曝光的区域，如图20所示;遮挡完毕后进行正常紫外光6曝光工艺，如图21所示;最后，显影即可得到光刻图形，如图22所示。
[0073]综上所述，本发明提供一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置，所述适于接触式光刻机的分区域曝光装置包括:第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板;所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨;所述第一滑槽导轨包括第一导轨本体及设置于所述第一导轨本体上的第一滑槽;所述第一滑槽位于所述第一滑槽导轨的内侧;所述第一挡板位于所述第一滑槽导轨之间，且所述第一挡板的两端分别位于两所述第一滑槽导轨上的所述第一滑槽内，并可沿所述第一滑槽的长度方向滑动;所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨;所述第二滑槽导轨横跨所述第一滑槽导轨组，并固定于所述第一滑槽导轨的表面，且所述第二滑槽导轨与所述第一滑槽导轨相垂直;所述第二滑槽导轨包括第二导轨本体及设置于所述第二导轨本体上的第二滑槽；所述第二滑槽位于所述第二滑槽导轨的内侧;所述第二挡板位于所述第二滑槽导轨之间，且所述第二挡板的两端分别位于两所述第二滑槽导轨上的所述第二滑槽内，并可沿所述第二滑道的长度方向滑动。本发明的装置结构简单，使用时即不破坏光刻机整机结构和正常的曝光工艺，又能很好的起到遮挡紫外光的作用;且该装置中挡板更换方便，更换时不会破坏装置结构;挡板的尺寸可以根据掩膜架上曝光区域的大小进行设定，灵活性强;本发明的装置中的挡板可以在掩膜架上的圆形曝光区域上进行4自由度的手动移动，形成自由的曝光区域，实现在一片基片上一次涂覆光刻胶在同一块掩模版上分区域一步曝光，一次显影成型，也可在一片基片上一次涂覆光刻胶不同掩模版多区域曝光，一次显影成型的光刻工艺，从而使得光刻工艺灵活多变;同时，使用本发明的装置的接触式光刻机可降低掩膜版制作成本，降低生产成本。
[0074]上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。
【主权项】
1.一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于，所述适于接触式光刻机的分区域曝光装置包括:第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板； 所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨;所述第一滑槽导轨包括第一导轨本体及设置于所述第一导轨本体上的第一滑槽;所述第一滑槽位于所述第一滑槽导轨的内侧； 所述第一挡板位于所述第一滑槽导轨之间，且所述第一挡板的两端分别位于两所述第一滑槽导轨上的所述第一滑槽内，并可沿所述第一滑槽的长度方向滑动； 所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨;所述第二滑槽导轨横跨所述第一滑槽导轨组，并固定于所述第一滑槽导轨的表面，且所述第二滑槽导轨与所述第一滑槽导轨相垂直;所述第二滑槽导轨包括第二导轨本体及设置于所述第二导轨本体上的第二滑槽;所述第二滑槽位于所述第二滑槽导轨的内侧； 所述第二挡板位于所述第二滑槽导轨之间，且所述第二挡板的两端分别位于两所述第二滑槽导轨上的所述第二滑槽内，并可沿所述第二滑道的长度方向滑动。2.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于:所述第一滑槽的长度方向与所述第一导轨本体的长度方向一致，且所述第一滑槽自所述第一导轨本体的一端面延伸至另一端面。3.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于:所述第二滑槽的长度方向与所述第二导轨本体的长度方向一致，且所述第二滑槽自所述第二导轨本体的一端面延伸至另一端面。4.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于:所述第一滑槽导轨的端面与所述第二滑槽导轨的外侧相平齐，且所述第二滑槽导轨的端面与所述第一滑槽导轨的外侧相平齐。5.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于:所述第一滑槽导轨的长度大于所述第二滑槽导轨的长度，且所述第一挡板的长度小于所述第二挡板的长度。6.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于:所述第一挡板及所述第二挡板的宽度均为2.5mm?150_。7.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于:所述第一滑槽导轨及所述第二滑槽导轨均为塑料滑槽导轨。8.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于:所述第一挡板及所述第二挡板均为不锈钢挡板。9.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于:所述第一挡板及所述第二挡板横截面的形状为倒梯形。10.根据权利要求1所述的适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于:所述第一滑槽导轨及所述第二滑槽导轨的表面不平度为3μπι/πι;不直度为10?15μπι/πι。
【专利摘要】本发明提供一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置，包括：第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板；所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨；所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨。本发明的装置结构简单，使用时即不破坏光刻机整机结构和正常的曝光工艺，又能很好的起到遮挡紫外光的作用；且该装置中挡板更换方便，更换时不会破坏装置结构；挡板的尺寸可以根据掩膜架上曝光区域的大小进行设定，灵活性强。
【IPC分类】G03F7/20
【公开号】CN105652605
【申请号】
【发明人】马林贤
【申请人】中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【公开日】2016年6月8日
【申请日】2016年3月25日